抗松弛铜箔制造技术

本发明专利技术涉及一种具优异抗变形性质(例如，抗松弛及抗皱)的铜箔。通常，该铜箔具有：(a)表面粗糙度(Rz)为0.6至1.9微米的光泽面；(b)表面粗糙度(Rz)为0.6至1.9微米的粗糙面；以及(c)基于L

【技术实现步骤摘要】
抗松弛铜箔
本专利技术有关于一种经改良的铜箔，其具有抗松弛及抗皱的性质，本专利技术亦有关于制造该铜箔的方法及该铜箔用于锂离子二次电池的用途。
技术介绍
一种典型用于制造电解铜箔的装置，包括金属阴极辊筒及不溶性金属阳极(简称阳极)，该金属阴极辊筒可旋转并具有镜面抛光表面。该不溶性金属阳极装置于该金属阴极辊筒约下半部分并围绕该金属阴极辊筒。铜箔的连续制造为藉由该装置令铜电解液流动于该阴极辊筒和该阳极之间，并提供直流电于其中，以使铜电沉积于该阴极辊筒上，以及当得到预定厚度时，自阴极辊筒上分离电解铜箔。如此方法生产的铜箔具有光泽面(S面)(形成于阴极辊筒的铜箔表面)及铜箔表面上相对于该光泽面的粗糙面(M面)(与铜电解液接触的铜箔表面)。铜箔常用于作为锂离子二次电池用负极集电体及印刷电路板，锂离子二次电池包括正极、负极和电解液。该负极通常包含碳粒子，以作为该铜箔制成的负极集电体表面上的负极活性物质层。作为负极活性物质，通常使用能够嵌入/嵌出锂离子的碳系材料(如石墨)。最近，具有比石墨系材料还大的理论容量的硅系材料或锡系材料已经被提出。锂离子二次电池用于电子设备，如移动电话、摄影机及个人计算器，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电解铜箔，包括：(a)光泽面，其表面粗糙度(Rz)为0.6至1.9微米；(b)粗糙面，其表面粗糙度(Rz)为0.6至1.9微米；以及(c)基于L

【技术特征摘要】
2015.10.15 US 14/8841011.一种电解铜箔，包括：(a)光泽面，其表面粗糙度(Rz)为0.6至1.9微米；(b)粗糙面，其表面粗糙度(Rz)为0.6至1.9微米；以及(c)基于L*a*b*色彩系统，该粗糙面的明度L*值介于12至35。2.如权利要求1所述的电解铜箔，其特征在于，该光泽面的表面粗糙度(Rz)为1.0至1.9微米。3.如权利要求1所述的电解铜箔，其特征在于，(a)该光泽面的表面粗糙度(Rz)为1.0至1.9微米；以及(b)该粗糙面的表面粗糙度(Rz)为1.0至1.9微米。4.如权利要求1所述的电解铜箔，其特征在于，该铜箔的厚度为自1至50微米。5.如权利要求1所述的电解铜箔，其特征在于，该铜箔的厚度为自4至25微米。6.如权利要求1所述的电解铜箔，进一步包括于该铜箔的一或两面的碳质材料。7.如权利要求1所述的电解铜箔，其拉伸强度在制造后立即随时间变化(拉伸强度/时间)所示的再结晶率为低于36.5千克/平方毫米/日(kg/mm2/day)。8.如权利要求7所述的电解铜箔，其拉伸强度在制造后立即随时间变化(拉伸强度/时间)所示的再结晶率为8至20千克/平方毫米/日。9.如权利要求1所述的电解铜箔，其拉伸强度在制造后维持高于32千克/平方毫米(kg/mm2)至少48小时。10.如权利要求1所述的电解铜箔，其特征在于，基于L*a*b*色彩系统，该粗糙面的a*值为4至9，且该粗糙面的b*值为2至10。11.一种用于制造如权利要求1项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑桂森，赖耀生，刘岳旻，周瑞昌，
申请(专利权)人：长春石油化学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71