实现金属基材表面双光泽的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种实现金属基材表面双光泽的方法及装置。所述方法包括：对金属基材进行抛光工艺处理，以使其表面具有镜面光泽；对经过抛光工艺处理的金属基材表面进行镭雕工艺处理以形成纹理，该纹理光泽与镜面光泽不同。基于此，本发明专利技术能够在实现金属壳体双色/单色双光泽外观效果的同时，以简单工艺实现精细纹理。

【技术实现步骤摘要】
实现金属基材表面双光泽的方法及装置
本专利技术涉及材料加工
，具体而言涉及一种实现金属基材表面双光泽的方法及装置。
技术介绍
随着手机等电子设备的智能化发展和普及，人们对其外观的要求越来越高，因此为了提高市场竞争力和吸引更多消费者，电子设备壳体的外观也相当重要。例如，对于当前电子设备外观的审美主流并深受消费者喜爱的金属壳体，为了改变壳体外观单调的情况，业界通常采用曝光显影并结合砂化工艺处理以实现产品的双光泽外观效果。但是此种工艺需要涂布光阻、曝光、蚀刻、显影、砂化等流程，工艺流程比较复杂，导致生产效率及产品良率较低，尤为重要的是，该工艺所制得的纹理较为粗糙。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种实现金属基材表面双光泽的方法及装置，能够在实现金属壳体双光泽外观效果的同时，以较为简单的工艺实现精细纹理，有利于提高生产效率及产品良率。本专利技术一实施例的实现金属基材表面双光泽的方法，包括：对金属基材进行抛光工艺处理，以得到表面光滑的金属基材，其中所述金属基材的光滑表面具有镜面光泽；对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理，以在金属基材的表面形成纹理，所述纹理光泽与所述镜面光泽不同。可选地，所述对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理的步骤，包括：对经过抛光工艺处理的金属基材进行第一次氧化处理，以在金属基材的表面形成一层具有第一颜色的氧化膜；对经过第一次氧化处理的金属基材进行镭雕工艺处理。可选地，所述对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理的步骤之后，所述方法还包括：对经过镭雕工艺处理的金属基材进行第二次氧化处理，以在金属基材的表面形成一层具有第二颜色的氧化膜，所述第二颜色与所述第一颜色不相同。可选地，第二次氧化处理和第一次氧化处理均为导电阳极氧化处理。可选地，所述对经过抛光工艺处理的金属基材进行第一次氧化处理的步骤，包括：对经过抛光工艺处理的金属基材进行炫光工艺处理；对经过炫光工艺处理的金属基材进行第一次氧化处理。本专利技术一实施例的实现金属基材表面双光泽的装置，包括：抛光机构，用于对金属基材进行抛光工艺处理，以得到表面光滑的金属基材，其中金属基材的光滑表面具有镜面光泽；镭雕机构，用于对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理，以在金属基材的表面形成纹理，所述纹理光泽与所述镜面光泽不同。可选地，所述装置还包括第一次氧化处理机构，第一次氧化处理机构用于对经过抛光工艺处理的金属基材进行第一次氧化处理，以在金属基材的表面形成一层具有第一颜色的氧化膜，而后镭雕机构用于对经过第一次氧化处理的金属基材进行镭雕工艺处理。可选地，所述装置还包括第二次氧化处理机构，用于对经过镭雕工艺处理的金属基材进行第二次氧化处理，以在金属基材的表面形成一层具有第二颜色的氧化膜，所述第二颜色与所述第一颜色不相同。可选地，第二次氧化处理和第一次氧化处理均为导电阳极氧化处理。可选地，所述装置还包括炫光机构，所述炫光机构用于对经过抛光工艺处理的金属基材进行炫光工艺处理，而后第一次氧化处理机构用于对经过炫光工艺处理的金属基材进行第一次氧化处理。有益效果：本专利技术实施例通过对金属基材进行抛光工艺处理以形成第一种光泽即镜面光泽，对经过抛光工艺处理的金属基材表面进行镭雕工艺处理以形成纹理，该纹理光泽与镜面光泽不同，即通过镭雕工艺形成第二种光泽，从而实现金属壳体双光泽外观效果，并且相比较于曝光显影并结合砂化工艺，镭雕工艺的加工精度高且设备操作智能化，因此能够以较为简单的工艺实现精细纹理，有利于提高生产效率及产品良率。附图说明图1是本专利技术第一实施例的实现金属基材表面双光泽的方法的流程示意图；图2是本专利技术第二实施例的实现金属基材表面双光泽的方法的流程示意图；图3是本专利技术第三实施例的实现金属基材表面双光泽的方法的流程示意图；图4是本专利技术第四实施例的实现金属基材表面双光泽的方法的流程示意图；图5是本专利技术第五实施例的实现金属基材表面双光泽的方法的流程示意图；图6是本专利技术的实现金属基材表面双光泽的装置一实施例的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术所提供的各个示例性的实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。在不冲突的情况下，下述各个实施例以及实施例中的特征可以相互组合。请参阅图1，为本专利技术第一实施例的实现金属基材表面双光泽的方法。所述方法可以包括如下步骤S11和S12。S11：对金属基材进行抛光工艺处理，以得到表面光滑的金属基材，其中所述金属基材的光滑表面具有镜面光泽。所述金属基材为铝合金但不限于各个牌号，例如可以为电子终端常用的5052、5083、6061、6063、7056。当然，该金属基材也可以为其他单一金属基材或各种金属合金基材。另外，该金属基材包括但不限于电子终端的壳体，该电子终端可以为智能手机、PDA(PersonalDigitalAssistant，个人数字助理或平板电脑)等移动终端，也可以是佩戴于肢体或者嵌入于衣物、首饰、配件中的可穿戴设备，还可以是其他采用金属外壳的智能电子设备。对于体积较大或外表面平整面积较大的金属基材，本实施例可以采用机械式抛光工艺，例如，采用帆布、毛毡和/或皮革等叠制而成的抛光轮，并结合抛光机对金属基材表面进行抛光工艺处理。而对于体积较小或外表面平整面积较小的金属基材，本实施例可以采用化学式抛光工艺。所谓化学式抛光工艺指的是金属基材表面通过有规则的溶解实现表面平滑光亮。例如，在化学式抛光过程中，由于钢铁零件表面微观的不一致性，表面微观凸起部位优先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率，而且钢铁零件表面钝化氧化膜的溶解和形成始终同时进行，只是其速率有差异，综合结果使得钢铁零件表面逐渐由粗糙变为光滑，并最终获得平滑光亮的表面。当然，本实施例也可以采用电解式抛光工艺。具体地，以被抛光的金属基材为阳极，不溶性的金属为阴极，两极同时浸入到装有电解液的电解槽中，电解液淹没两极，通以直流电而产生有选择性的阳极溶解，从而使得金属基材的表面光亮度增大，最终达到镜面效果。对金属基材进行抛光工艺处理之后，金属基材的表面可视为一镜面，该镜面光泽可以为金属基材本身具有的光泽。S12：对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理，以在金属基材的表面形成纹理，所述纹理光泽与所述镜面光泽不同。本专利技术一实施例可以利用激光器发射的高强度聚焦激光束照射需要雕刻纹理之处，使得纹理处的金属基材发生氧化，由于氧化后的金属基材光反射效果不同于氧化前的光反射效果，因此纹理光泽不同于上述镜面光泽。由此可知，本实施通过对金属基材进行抛光工艺处理，可以形成第一种光泽即镜面光泽，对经过抛光工艺处理的金属基材表面进行镭雕工艺处理，可以形成第二种光泽，以此实现金属壳体双光泽外观效果。相比较于利用曝光显影并结合砂化工艺形成的双光泽外观效果，镭雕工艺的加工精度高且设备操作智能化，因此能够以较为简单的工艺实现精细纹理，有利于提高生产效率及产品良率。本专利技术另一实施例可以在前述实现金属壳体双光泽外观效果的基础上，进一步实现单色外观效果，如图2所示的本专利技术第二实施例的实现金属基材表面双光泽的方法，包括如下步骤S21～S23。S21：对金属基材进行抛光工艺处理，以得到表面光滑的金属基材，其中所述金属基材的光滑表面具有镜面光泽。S22：对经过抛光工艺处理的金属基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种实现金属基材表面双光泽的方法，其特征在于，包括：对金属基材进行抛光工艺处理，以得到表面光滑的金属基材，其中所述金属基材的光滑表面具有镜面光泽；对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理，以在所述金属基材的表面形成纹理，所述纹理光泽与所述镜面光泽不同。

【技术特征摘要】
1.一种实现金属基材表面双光泽的方法，其特征在于，包括：对金属基材进行抛光工艺处理，以得到表面光滑的金属基材，其中所述金属基材的光滑表面具有镜面光泽；对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理，以在所述金属基材的表面形成纹理，所述纹理光泽与所述镜面光泽不同。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理的步骤，包括：对经过抛光工艺处理的金属基材进行第一次氧化处理，以在所述金属基材的表面形成一层具有第一颜色的氧化膜；对经过第一次氧化处理的金属基材进行镭雕工艺处理。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对经过抛光工艺处理的金属基材进行镭雕工艺处理的步骤之后，所述方法还包括：对经过镭雕工艺处理的金属基材进行第二次氧化处理，以在所述金属基材的表面形成一层具有第二颜色的氧化膜，所述第二颜色与所述第一颜色不相同。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第二次氧化处理和所述第一次氧化处理均为导电阳极氧化处理。5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对经过抛光工艺处理的金属基材进行第一次氧化处理的步骤，包括：对经过抛光工艺处理的金属基材进行炫光工艺处理；对经过炫光工艺处理的金属基材进行第一次氧化处理。6....

【专利技术属性】
技术研发人员：彭世晓，曾翠霞，
申请(专利权)人：捷开通讯深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44