【技术实现步骤摘要】
一种基于低频阻抗分析仪的测量薄膜磁极化率测量方法
本专利技术涉及一种基于低频阻抗分析仪磁性颗粒膜磁极化率测量方法,本专利技术还涉及非磁性薄膜的电极化率测量方法。
技术介绍
随着电子材料的普及和发展,磁性材料在信息储存、磁传感器、工业自动化控制、及各种安全系统方面有着广泛的应用。电子设备的进一步微型化,要求对磁性材料的测量频率也在不断提升。传统的对于高频测量磁极化率的方法有谐振微扰法、单线圈法、带线法等,这些方法适用于介电损耗和磁滞损耗材料。这些测量方法处于发展阶段。薄膜磁性材料,由于厚度小,易变形。同时存在较强的各向异性。测量难度大。测量误差高。复数磁极化率作为磁性材料的一个重要参数,如何有效的测量出一定频率范围下的相对值对于评价磁性材料有着重要的意义。针对目前复数磁极化率存在的缺陷,利用低频阻抗分析仪来测定复数磁极化率。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对目前复数磁极化率存在的缺陷,提供一种基于低频阻抗分析仪的测量薄膜磁极化率测量方法。为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案为:一种基于低频阻抗分析仪的测量薄膜磁极化率的方法,通过低频阻抗分析仪在变频下测量无磁性薄膜的阻抗,推导出电极化率;然后通过低频阻抗分析仪在变频下测量磁性薄膜的阻抗,利用上述步骤得到的电极化率推导出相应复数磁极化率。所述磁性薄膜为磁性γ-Fe2O3纳米颗粒组成的薄膜,所述无磁性薄膜为α-Fe2O3纳米颗粒组成的薄膜。所述γ-Fe2O3纳米颗粒和α-Fe2O3纳米颗粒的粒径均为10nm。在不是十分高的频率下,磁性薄膜表面阻抗表示为:其中,μ表示磁极化率,ε表示材料的电极化率。通过低频阻抗 ...
【技术保护点】
一种基于低频阻抗分析仪的测量薄膜磁极化率的方法,其特征在于:通过低频阻抗分析仪在变频下测量无磁性薄膜的阻抗,推导出电极化率;然后通过低频阻抗分析仪在变频下测量磁性薄膜的阻抗,利用上述步骤得到的电极化率推导出相应复数磁极化率。
【技术特征摘要】
1.一种基于低频阻抗分析仪的测量薄膜磁极化率的方法,其特征在于:通过低频阻抗分析仪在变频下测量无磁性薄膜的阻抗,推导出电极化率;然后通过低频阻抗分析仪在变频下测量磁性薄膜的阻抗,利用上述步骤得到的电极化率推导出相应复数磁极化率。2.根据权利要求1所述的基于低频阻抗分析仪的测量薄膜磁极化率的方法,其特征在于:所述磁性薄膜为磁性γ-Fe2O3纳米颗粒组成的薄膜,所述无磁性薄膜为α-Fe2O3纳米颗粒组成的薄膜。3.根据权利要求2所述的基于低频阻抗分析仪的测量薄膜磁极化率的方法,其特征在于:所述γ-Fe2O3纳米颗粒和α-...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙剑飞,范凤国,张韬敏,王鹏,马思雨,顾宁,
申请(专利权)人:东南大学,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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