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低聚或聚仲胺的单烯键式不饱和单体的就地聚合制造技术

技术编号:1563524 阅读:185 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种制备(共)低聚物或(共)聚合物的方法,包括:    (Ⅰ)制备一种混合物,该混合物包括至少一种通式(M)的单烯键式不饱和单体、至少一种氧化剂(A)和至少一种通式(Ⅰ)的聚合物或低聚物、以及任选的自由基引发剂(B),    HR↑[1]C=CR↑[2]R↑[3]  (M)    其中,R↑[1]、R↑[2]、R↑[3]彼此无关选自氢原子、C↓[1]-C↓[20]的烷基、C↓[1]-C↓[20]的环烷基、C↓[6]-C↓[24]的芳基、卤原子、氰基、C↓[1]-C↓[20]的烷基酯、C↓[1]-C↓[20]的环烷基酯、C↓[1]-C↓[20]的烷基酰胺、C↓[1]-C↓[20]的环烷基酰胺、C↓[6]-C↓[24]的芳酯或C↓[6]-C↓[24]的芳酰胺,    ***  (Ⅰ)    其中,Y是基于对应于通式HR↑[1]C=CR↑[2]R↑[3]的烯键式不饱和单体(M)的有机残基,    R↑[1]、R↑[2]、R↑[3]具有上述定义,    m是1-50的整数,    n是1-300的整数,    I↓[1]表示引发剂,和    R↑[4]表示仲或叔碳原子,彼此无关选自C↓[1]-C↓[18]烷基、C↓[2]-C↓[18]链烯基、C↓[2]-C↓[18]的炔基、C↓[3]-C↓[12]的环烷基或C↓[3]-C↓[12]的杂环烷基、C↓[6]-C↓[24]的芳基,它们可以是未取代的或被NO↓[2]、卤原子、氨基、羟基、氰基、羧基、酮、C↓[1]-C↓[4]烷氧基、C↓[1]-C↓[4]烷硫基或C↓[1]-C↓[4]烷氨基取代,    X表示仲或叔碳原子,彼此无关选自C↓[1]-C↓[18]烷基、C↓[2]-C↓[18]链烯基、C↓[2]-C↓[18]的炔基、C↓[3]-C↓[12]的环烷基、或C↓[3]-C↓[12]的杂环烷基、C↓[6]-C↓[24]的芳基,它们可以是未取代的或被NO↓[2]、卤原子、氨基、羟基、氰基、羧基、酮、C↓[1]-C↓[4]烷氧基、C↓[1]-C↓[4]烷硫基或C↓[1]-C↓[4]烷氨基取代,和    (Ⅱ)在0℃-220℃的温度下加热该混合物。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及聚合,具体的说,本专利技术涉及(共)聚合物的制备。专利技术简述本专利技术描述了一种(共)低聚物或(共)聚合物的制备方法。该方法包括首先,制备含有符合通式(M)的单烯键式不饱和单体、氧化剂和至少一种符合通式(I)的聚合物或低聚物,以及任选的自由基引发剂的混合物,然后,在0℃-220℃范围内加热该混合物。HR1C=CR2R3(M) 专利技术背景目前,大量工厂中对具有特定分子量、窄分子量分布和/或明确限定的端基的均聚物、无规共聚物和嵌段共聚物的需求不断增加。这些大分子的受控结构使得它们具有新的性能,并使它们具有专门定做的性能。许多新技术例如电子、计算机科学、通信、基因工程、生物技术和材料科学领域要求受控结构聚合物。工业上,许多聚合物是通过自由基聚合制备的,这是由于所要求的条件很少,即,可以用水作溶剂,能使用的温度范围很宽,以及能够聚合的单体的范围较宽。此外,自由基共聚提供了改善聚合物性能的许多机会。然而,自由基中性的另一面是,它是不可逆链转移反应和终止反应的主要原因,这是包括聚合度、多分散性、末端官能团和链结构的大分子结构控制性差的主要原因。另一方面,受控自由基聚合(C本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:C·德特雷姆布罗伊尔C·吕迪格尔R·V·迈尔
申请(专利权)人:拜尔公司
类型:发明
国别省市:

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