The invention discloses a potted Dendrobium planting method, comprising the following steps: selecting and processing cultivation container, pretreatment of Dendrobium seedlings, seedling transplanting, illumination, temperature, humidity, watering, fertilization and pest management. The invention has the advantages of providing a used organic cultivation techniques, cultivation without chemical fertilizers, hormones and pesticides, and can be used as potted bonsai Dendrobium planting methods; one (1) without chemical fertilizers, hormones and pesticides, no environmental pollution, green environmental protection; (2) the bottom of Zai Peirong is provided with drainage holes, with with a layer of crushed limestone at the bottom of the tile, the growth process of Dendrobium in ventilation and drainage, not easy to rot; (3) when transplanting, the root in the hole in the fixed position, and then around again filled with a layer of Dendrobium seedlings cultivation medium, not only because of the fixed Dendrobium, optional hole the position of the spatial layout to perfect.
【技术实现步骤摘要】
一种石斛盆栽种植方法
本专利技术涉及石斛栽培
,尤其涉及一种石斛盆栽种植方法。
技术介绍
石斛,兰科植物之一,主要分布于亚洲热带和亚热带,澳大利亚和太平洋岛屿,我国大部分分布于西南、华南、台湾等地。石斛的主要品种有铁皮石斛、金钗石斛、密花石斛、鼓槌石斛等。可入药,对人体有驱解虚热,益精强阴等疗效。石斛是我国传统名贵的中药材,其中铁皮石斛具有滋阴养胃、润肺止咳、抗癌和延年益寿等功效,金钗石斛具有抗肿瘤、抗衰老、增强机体免疫力、抗白内障和抗菌等作用,二者均已成为世界各国防病、治病和医疗保健的极品良药,在民间享有“仙草”、“千金草”、“药界大熊猫”的美誉,在国内外均具有广阔的市场。目前,石斛只生于野外或大棚栽培作商品出售,并没有成熟、实用作盆景的栽培技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的不足,提供一种采用有机质栽培技术,栽培不用化肥、激素和农药且可作为盆景的石斛盆栽种植方法。本专利技术是通过以下技术方案实现的:一种石斛盆栽种植方法,包括如下步骤:(1)栽培容器的选择及处理选择长、宽、高分别为20-30cm、15-20cm、15-20cm的陶瓷盆作为栽培容器,在其底部开2-3个排水孔;待排水孔开好后,在陶瓷盆的最底部平铺上一层石灰岩碎石,紧接着,于石灰岩碎石上再平铺上一层已留有2-4个空穴的栽培基质;(2)石斛种苗预处理用清水洗去石斛种苗根部的培养基,洗净为止,洗净后将种苗置于阴凉处,晾至其表面不带有水滴;(3)种苗移栽①待洗过的苗根放露天阴凉处晾至发白,把根系分开;②将石斛种苗的根部放在空穴中固定好位置,然后在石斛苗的周围再次填充一层栽培基质 ...
【技术保护点】
一种石斛盆栽种植方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)栽培容器的选择及处理选择长、宽、高分别为20‑30cm、15‑20cm、15‑20cm的陶瓷盆作为栽培容器,在其底部开2‑3个排水孔;待排水孔开好后,在陶瓷盆的最底部平铺上一层石灰岩碎石,紧接着,于石灰岩碎石上再平铺上一层已留有2‑4个空穴的栽培基质;(2)石斛种苗预处理用清水洗去石斛种苗根部的培养基,洗净为止,洗净后将种苗置于阴凉处,晾至其表面不带有水滴;(3)种苗移栽①待洗过的苗根放露天阴凉处晾至发白,把根系分开;②将石斛种苗的根部放在空穴中固定好位置,然后在石斛苗的周围再次填充一层栽培基质;③再在新铺的栽培基质上铺上刨花、锯末混合物;(4)管理①光照:盆栽放在阴凉通风处,在晒太阳时需遮光,夏天切忌阳光直射;②温度:生长温度维持为25℃‑30℃;③湿度:保持在60%以上;④浇水:选择水质偏弱酸性的水作为浇灌水,夏秋时2‑3天浇一次水,冬季时10‑15天浇一次水;⑤施肥:每年4‑10月的生长期内,25‑30天施一次肥;⑥病虫害防治:预防为主,保证盆栽要通风良好。
【技术特征摘要】
1.一种石斛盆栽种植方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)栽培容器的选择及处理选择长、宽、高分别为20-30cm、15-20cm、15-20cm的陶瓷盆作为栽培容器,在其底部开2-3个排水孔;待排水孔开好后,在陶瓷盆的最底部平铺上一层石灰岩碎石,紧接着,于石灰岩碎石上再平铺上一层已留有2-4个空穴的栽培基质;(2)石斛种苗预处理用清水洗去石斛种苗根部的培养基,洗净为止,洗净后将种苗置于阴凉处,晾至其表面不带有水滴;(3)种苗移栽①待洗过的苗根放露天阴凉处晾至发白,把根系分开;②将石斛种苗的根部放在空穴中固定好位置,然后在石斛苗的周围再次填充一层栽培基质;③再在新铺的栽培基质上铺上刨花、锯末混合物;(4)管理①光照:盆栽放在阴凉通风处,在晒太阳时需遮光,夏天切忌阳光直射;②温度:生长温度维持为25℃-30℃;③湿度:保持在60%以上;④浇水:选择水质偏弱酸性的水作为浇灌水,夏秋时2-3天浇一次水,冬季时10-15天浇一次水;⑤施肥:每年4-10月的生长期内,25-30天施一次肥;⑥病虫害防治:预防为主,保证盆栽要通风良好。2.根据权利要求1所述的石斛盆栽种植方法,其特征在于,所述步骤(1)中排水孔的直径为0.2-0.5cm。3.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员:何三华,严结来,
申请(专利权)人:太湖县光华农业科技有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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