一种显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可解决在显示基板上涂布取向层液体时由于基板表面存在过孔而导致的取向层液体扩散不均匀问题，避免出现显示面内Mura不良，提高了显示品质。该显示基板包括衬底基板，依次远离所述衬底基板的导电连接部、绝缘层和电极；所述绝缘层上设置有过孔，所述电极通过所述过孔与所述导电连接部相连；所述过孔位于所述显示基板的显示区域内；所述显示基板还包括，设置在所述电极上对应于所述过孔区域内的填充部；其中，所述填充部的高度大于或等于所述过孔的深度，且小于预设高度；所述预设高度为所述绝缘层的厚度与所述液晶显示装置中的隔垫物的高度之和。

Display substrate, preparation method thereof and display device

The embodiment of the invention relates to a display substrate and a preparation method thereof, display device is provided, relates to the technical field of display, can be solved in the orientation of the display layer of liquid diffusion substrate coating layer due to substrate surface orientation of liquid existed hole caused uneven problems, avoid the display plane Mura, improve a display quality. The display substrate includes a substrate, turn away from the substrate to the conductive connection portion, an insulating layer and the electrode; the insulating layer is arranged on the through hole, the electrode hole and the conductive connection part is connected by the past; the hole is located on the display area of the display substrate; the display substrate includes setting on the electrode corresponding to the filling hole in the region over which the filling part; the height is greater than or equal to the hole depth, and is less than a preset height; and the height of the preset height to the thickness of the insulating layer and the the liquid crystal display device in the spacer.

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
显示基板上的电极(如图1所示的公共电极)与下方的金属走线(如图1所示的公共电极线)之间通常需要通过过孔相连，由于电极与金属走线之间的绝缘层厚度较大，即过孔的深度较深，导致采用喷墨打印机(Inkjet)设备在显示基板上涂布取向层(通常由聚酰亚胺polyimide材料构成，故简称为PI)液体时，PI液体在过孔处存在扩散不良，表现为部分过孔填充有PI液体，部分过孔未填充有PI液体。由于PI液体在上述显示基板，如阵列基板表面存在扩散不均匀的现象，导致该显示基板应用于显示装置后，在显示区域会出现局部水波纹(Mura)状的显示不良，影响显示品质。
技术实现思路
鉴于此，为解决现有技术的问题，本专利技术的实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，可解决在显示基板上涂布取向层液体时由于基板表面存在过孔而导致的取向层液体扩散不均匀问题，避免出现显示面内Mura不良，提高了显示品质。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面、本专利技术实施例提供了一种应用于液晶显示装置的显示基板，所述显示基板包括衬底基板，依次远离所述衬底基板的导电连接部、绝缘层和电极；所述绝缘层上设置有过孔，所述电极通过所述过孔与所述导电连接部相连；所述过孔位于所述显示基板的显示区域内；所述显示基板还包括，设置在所述电极上对应于所述过孔区域内的填充部；其中，所述填充部的高度大于或等于所述过孔的深度，且小于预设高度；所述预设高度为所述过孔的深度与所述液晶显示装置中的隔垫物的高度之和。可选的，所述填充部的高度为所述过孔的深度的1.0～1.5倍。可选的，所述填充部采用透明材料构成。优选的，所述透明材料为正性光刻胶或负性光刻胶。在上述基础上优选的，所述显示基板还包括像素电极；其中，所述导电连接部为公共电极引线，所述电极为设置在所述像素电极上方的公共电极。可选的，所述显示基板还包括底栅型薄膜晶体管；所述公共电极引线与所述底栅型薄膜晶体管的栅极同层设置；所述绝缘层包括依次远离所述衬底基板的栅绝缘层和覆盖所述底栅型薄膜晶体管的钝化层。第二方面、本专利技术实施例还提供了一种显示基板的制备方法，所述方法包括在衬底基板上依次形成导电连接部、具有过孔的绝缘层和电极的步骤；其中，所述电极通过位于所述显示基板的显示区域内所述过孔与所述导电连接部相连；所述方法还包括，在所述电极对应于所述过孔区域内形成填充部；其中，所述填充部的高度大于或等于所述过孔的深度，且小于预设高度；所述预设高度为所述过孔的深度与所述液晶显示装置中的隔垫物的高度之和。可选的，所述在所述电极对应于所述过孔区域内形成填充部，包括，形成覆盖所述电极的负性光刻胶层；采用第一掩膜板对所述负性光刻胶层进行曝光、显影，形成保留在所述过孔区域内的填充部；其中，所述第一掩膜板的完全透过部分对应于所述过孔区域，所述第一掩膜板的完全不透过部分对应于其他区域。优选的，所述形成具有过孔的绝缘层的步骤包括，采用构图工艺形成所述具有过孔的绝缘层，所述构图工艺中采用的光刻胶为正性光刻胶；所述第一掩膜板与所述构图工艺中采用的掩膜板相同。第三方面、本专利技术实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述所述的显示基板。基于此，通过本专利技术实施例提供的上述显示基板，在电极上对应于过孔区域内设置了至少与过孔深度相等的填充部，即将影响液体涂布的位于显示基板的显示区域内的过孔进行了填充，消除了电极在过孔处的段差，解决了PI液体在电极上方涂布后，部分过孔区域内扩散有PI液体，部分过孔区域内无PI液体而导致的显示装置显示不良，避免出现显示面内Mura不良，提高了显示品质。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术提供的一种显示基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种显示基板的制备步骤示意图一；图4为本专利技术实施例提供的一种显示基板的制备步骤示意图二。附图说明：10-衬底基板；20-导电连接部；30-绝缘层；31-过孔；40-电极；50-填充部；500-负性光刻胶层；60-第一掩膜板；61-完全透过部分；62-完全不透过部分。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要指出的是，除非另有定义，本专利技术实施例中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本专利技术所属领域的普通技术人员共同理解的相同含义。还应当理解，诸如在通常字典里定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。例如，本专利技术专利申请说明书以及权利要求书中所使用的“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“上方”、“下方”等指示的方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于说明本专利技术的技术方案的简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。如图2所示，本专利技术实施例提供了一种应用于液晶显示装置的显示基板，该显示基板包括衬底基板10，依次远离衬底基板10的导电连接部20、绝缘层30和电极40；绝缘层30上设置有过孔31，电极40通过过孔31与导电连接部20相连；过孔31位于显示基板的显示区域内；上述显示基板还包括，设置在电极40上对应于过孔31区域内的填充部50；其中，填充部50的高度大于或等于过孔31的深度，且小于预设高度；该预设高度为过孔31的深度与液晶显示装置中的隔垫物的高度之和。需要说明的是，上述显示基板具体可以为阵列基板或COA基板(colorfilteronarray，阵列基板上集成有彩色滤光层的基板)。当上述电极40具体为像素电极时，导电连接部20即为阵列基板或COA基板上向像素电极提供相应信号的TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)的漏极；当上述电极40具体为公共电极时，导电连接部20即为阵列基板或COA基板上向公共电极提供相应信号的公共电极引线。其中，电极40与下方的导电连接部20之间的绝缘层30不限于一层或一种绝缘材料，即绝缘层30可以由两种及两种以上绝缘物质构成，其层数也可以为多层。绝缘层30的具体构成由电极40的具体种类及显示基板的具体结构决定，具体结构可沿用现有技术，本专利技术实施例对此不作限定。当上述显示基板具体为阵列基板或COA基板时，其应用于显示装置后还需与彩膜基板或盖板相对合，为了不影响显示基板与彩膜基板或盖板的对合，填充在电极40上对应于过孔31区本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种应用于液晶显示装置的显示基板，所述显示基板包括衬底基板，依次远离所述衬底基板的导电连接部、绝缘层和电极；所述绝缘层上设置有过孔，所述电极通过所述过孔与所述导电连接部相连；所述过孔位于所述显示基板的显示区域内；其特征在于，所述显示基板还包括，设置在所述电极上对应于所述过孔区域内的填充部；其中，所述填充部的高度大于或等于所述过孔的深度，且小于预设高度；所述预设高度为所述过孔的深度与所述液晶显示装置中的隔垫物的高度之和。

【技术特征摘要】
1.一种应用于液晶显示装置的显示基板，所述显示基板包括衬底基板，依次远离所述衬底基板的导电连接部、绝缘层和电极；所述绝缘层上设置有过孔，所述电极通过所述过孔与所述导电连接部相连；所述过孔位于所述显示基板的显示区域内；其特征在于，所述显示基板还包括，设置在所述电极上对应于所述过孔区域内的填充部；其中，所述填充部的高度大于或等于所述过孔的深度，且小于预设高度；所述预设高度为所述过孔的深度与所述液晶显示装置中的隔垫物的高度之和。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述填充部的高度为所述过孔的深度的1.0～1.5倍。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述填充部采用透明材料构成。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述透明材料为正性光刻胶或负性光刻胶。5.根据权利要求1至4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括像素电极；其中，所述导电连接部为公共电极引线，所述电极为设置在所述像素电极上方的公共电极。6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括底栅型薄膜晶体管；所述公共电极引线与所述底栅型薄膜晶体管的栅极同层设置；所述绝缘层包括依次远离所述衬底基板的栅绝缘层和覆盖所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李静，刘利萍，马慧轩，韩君奇，高欢，汤展峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11