光纤制造技术

一种光纤，其中，纤芯(10)具有：内侧纤芯部(11)，其包括纤芯(10)的中心轴C；和外侧纤芯部(12)，其包围内侧纤芯部(11)并且比内侧纤芯部(11)折射率低，包层(20)具有：内侧包层部(21)，其径向上的折射率一定，与纤芯(10)接触；和外侧包层部(22)，其包围内侧包层部(21)，内侧纤芯部(11)中的与外侧纤芯部(12)的边界接触的区域的折射率比外侧纤芯部(12)的折射率高，外侧纤芯部(12)的折射率从内周侧朝向外周侧逐渐变低，内侧包层部(21)的折射率与外侧纤芯部(12)的最外周的折射率相等并且为外侧包层部(22)的折射率以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光纤
本专利技术涉及光纤，适于减少弯曲损耗的情况。
技术介绍
在光通信中使用的光纤铺设在办公室或家庭，在多个光纤配置于护套的光缆中使用。在像上述那样铺设光纤的情况下，一般以至少一部分弯曲的状态配置。另外，在像上述那样光纤在光缆中使用的情况下，一般光纤在护套中呈螺旋状，因此以整体弯曲的状态配置。公知若光纤处于弯曲状态且光在纤芯传播，则发生光从纤芯泄漏而损耗的所谓的弯曲损耗。作为抑制这样的弯曲损耗的光纤的一个例子，公知有一种纤芯和包层之间的相对折射率差大的光纤。在下述专利文献1中记载有这样的光纤。根据这样的光纤，纤芯的光限制力变大，与纤芯和包层之间的相对折射率差小的情况相比，光难以从纤芯泄漏，也能够减少弯曲损耗。另外，作为抑制弯曲损耗的光纤的其他例，公知有一种在纤芯周围设置折射率比包层低的低折射率层的光纤。在下述专利文献2中记载有这样的光纤。对于这样的光纤，在从折射率的观点理解的情况下，低折射率层呈沟槽状，因此称之为沟槽型光纤。根据这样的光纤，低折射率层限制光，因此光难以从纤芯泄漏，也能够减少弯曲损耗。专利文献1：日本专利第4268115号公报专利文献2：日本特开2013-88818号公报在上述专利文献1所记载的光纤中，纤芯的光限制力大，因此存在光的模场直径变小的趋势。在该情况下，和其他光纤连接时光变得容易损耗。另外，根据上述专利文献2中记载的光纤，能够防止像专利文献1中记载的光纤那样光的模场直径变小。但是，专利文献2中记载的光纤需要设置沟槽层，因此存在光纤的结构复杂且高成本化的担忧。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种能够抑制光的模场直径变小以及结构复杂化并且抑制弯曲损耗的光纤。为了解决上述课题，本专利技术的光纤的特征在于，具备纤芯和包围上述纤芯的包层，上述纤芯具有：内侧纤芯部，其包含上述纤芯的中心轴，并且径向上的折射率恒定；和外侧纤芯部，其包围上述内侧纤芯部，上述包层具有：内侧包层部，其径向上的弯曲率恒定，并且与上述纤芯接触；和外侧包层部，其包围上述内侧包层部，上述内侧纤芯部中的与上述外侧纤芯部接触的区域中的折射率比上述外侧纤芯部的折射率高，上述外侧纤芯部的折射率从内周侧朝向外周侧逐渐变低，上述内侧包层部的折射率与上述外侧纤芯部的最外侧区域中的折射率相等，并且为上述外侧包层部的折射率以下。根据这样的光纤，本专利技术人等确认：即便不像在专利文献1中记载的光纤那样提高纤芯的折射率也能够减少弯曲损耗。另外，折射率被形成为和外侧纤芯部的最外周的折射率相等的内侧包层部的折射率恒定，不需要像专利文献2中记载的光纤那样设置沟槽层，因此能够抑制成为复杂的结构。另外，优选上述内侧包层部的折射率比上述外侧包层部的折射率小。根据这样的结构的光纤，与内侧包层部的折射率和外侧包层部的折射率彼此相等的情况相比，能够进一步减少弯曲损耗。在该情况下，可以构成为上述内侧包层部相对于上述外侧包层部的相对折射率差为－0.02％以上。通过将内侧包层部的相对折射率差形成为这样的范围，能够使光纤的零色散波长为根据ITU-TG.652推荐的1.300μm～1.324μm。或者优选上述内侧包层部的折射率与上述外侧包层部的折射率彼此相等。在该情况下，能够使内侧包层部的组成和外侧包层部的组成同样，因此能够形成为简单的结构。另外，在上述光纤中，优选在从上述中心轴至上述外侧纤芯部的内周的距离为r1，从上述中心轴至上述外侧纤芯部的外周的距离为rs，距上述中心轴距离r处的上述外侧纤芯部相对于上述包层部的相对折射率差为Δ(r)，上述内侧包层部相对于上述外侧包层部的相对折射率差为Δ2的情况下，下式(1)所表示的S为0.3以下。本专利技术人等发现通过将本式的S形成为0.3以下，能够使截止波长小于1.30小。因此通过满足上式(1)，能够抑制由于截止波长的长波长化致使通信频带变窄。而且，优选上述S为0.25以下。通过满足该条件，能够使截止波长为1.26μm以下，而且，能够使模场直径为9.5μm以下。如上所述，根据本专利技术，提供一种能够抑制光的模场直径变小以及结构复杂化并且抑制弯曲损耗的光纤。附图说明图1是表示本专利技术的第1实施方式所涉及的光纤的与长度方向垂直的剖面的构造的图。图2是表示图1的光纤的折射率分布的图。图3是表示1550nm的光在图1的光纤中传播的情况下的外侧纤芯部的内径和外径之间的比与在弯曲直径30mm处的弯曲损耗之间的关系的图。图4是表示1550nm的光在图1的光纤中传播的情况下的外侧纤芯部的内径和外径之间的比与在弯曲直径20mm处的弯曲损耗之间的关系的图。图5是表示1550nm的光在图1的光纤中传播的情况下的外侧纤芯部的相对折射率差面积与在弯曲直径30mm处的弯曲损耗之间的关系的图。图6是表示1550nm的光在图1的光纤中传播的情况下的外侧纤芯部的相对折射率差面积与在弯曲直径20mm处的弯曲损耗之间的关系的图。图7是表示图1的光纤的外侧纤芯部的相对折射率差面积与线缆截止波长之间的关系的图。图8是表示图1的光纤的外侧纤芯部的相对折射率差面积与波长1310nm的光的模场直径之间的关系的图。图9是表示图1的光纤的外侧纤芯部的相对折射率面积与零色散波长之间的关系的图。图10是表示第2实施方式所涉及的光纤的折射率分布的图。图11是表示1550nm的光在图10说明的光纤中传播的情况下的外侧纤芯部的内径和外径之间的比与在弯曲直径30mm处的弯曲损耗之间的关系的图。图12是表示1550nm的光在图10说明的光纤中传播的情况下的外侧纤芯部的内径和外径之间的比与在弯曲直径20mm处的弯曲损耗之间的关系的图。图13是表示1550nm的光在图10说明的光纤中传播的情况下的外侧纤芯部的相对折射率差面积与在弯曲直径30mm处的弯曲损耗之间的关系的图。图14是表示1550nm的光在图10说明的光纤中传播的情况下的外侧纤芯部的相对折射率差面积与在弯曲直径20mm处的弯曲损耗之间的关系的图。图15是表示图10说明的光纤的外侧纤芯部的相对折射率差面积与线缆截止波长之间的关系的图。图16是表示图10说明的光纤的外侧纤芯部的相对折射率差面积与波长1310nm的光的模场直径之间的关系的图。图17是表示图10的光纤的外侧纤芯部的相对折射率差面积和零色散波长之间的关系的图。具体实施方式以下参照附图对本专利技术所涉及的光纤的适当的实施方式详细地进行说明。(第1实施方式)图1是表示本实施方式所涉及的光纤的与长度方向垂直的剖面的构造的图。如图1所示，本实施方式的光纤1具备：纤芯10；包层20，其无间隙地包围纤芯10的外周面；内侧保护层31，其包覆包层20的外周面，以及外侧保护层32，其包覆内侧保护层的外周面。纤芯10由包括纤芯10的中心轴C的内侧纤芯部11和无间隙地包围内侧纤芯部11的外周面的外侧纤芯部12构成。另外，包层20由无间隙地包围纤芯10的外侧纤芯部12的内侧包层部21和无间隙地包围内侧包层部21的外侧包层部22构成。图2是表示光纤1中的纤芯10、包层20的折射率分布的图。此外，在图2中，将表示图1中的内侧纤芯部11的相对折射率差的部位作为11、将表示外侧纤芯部12的相对折射率差的部位作为12、将表示内侧包层部21的相对折射率差的部位作为21、将表示外侧包层部22的相对折射率差的部位作为22而示出。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光纤，其特征在于，具备纤芯和包围所述纤芯的包层，所述纤芯具有：内侧纤芯部，其包含所述纤芯的中心轴，并且径向上的折射率恒定；和外侧纤芯部，其包围所述内侧纤芯部，所述包层具有：内侧包层部，其径向上的折射率恒定，并且与所述纤芯接触；和外侧包层部，其包围所述内侧包层部，所述内侧纤芯部中的与所述外侧纤芯部接触的区域的折射率比所述外侧纤芯部的折射率高，所述外侧纤芯部的折射率从内周侧朝向外周侧逐渐变低，所述内侧包层部的折射率与所述外侧纤芯部的最外周的折射率相等，并且为所述外侧包层部的折射率以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.17 JP 2015-1427411.一种光纤，其特征在于，具备纤芯和包围所述纤芯的包层，所述纤芯具有：内侧纤芯部，其包含所述纤芯的中心轴，并且径向上的折射率恒定；和外侧纤芯部，其包围所述内侧纤芯部，所述包层具有：内侧包层部，其径向上的折射率恒定，并且与所述纤芯接触；和外侧包层部，其包围所述内侧包层部，所述内侧纤芯部中的与所述外侧纤芯部接触的区域的折射率比所述外侧纤芯部的折射率高，所述外侧纤芯部的折射率从内周侧朝向外周侧逐渐变低，所述内侧包层部的折射率与所述外侧纤芯部的最外周的折射率相等，并且为所述外侧包层部的折射率以下。2.根据权利要求1所述的光纤，其特征在于，所述内侧包层部的折射率比所述外侧包层部的折射率小。3.根据权利要求2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤祥，北村隆之，
申请(专利权)人：株式会社藤仓，
类型：发明
国别省市：日本,JP