阻气性层叠膜制造技术

一种阻气性层叠膜(5)，其具有：膜基材(1)、在所述膜基材的一个面上形成的含无机化合物(A)的层(2)、以及在所述含无机化合物(A)的层上以邻接方式形成的2层，所述2层由含有羧酸系聚合物(B)的层(3)、和含有选自由下述通式(1)表示的硅化合物(C)及其水解物构成的组中的至少1种以及乙烯醇系聚合物(D)的层(4)所形成。Si(OR1)4(1)(式中，R1表示碳原子数1至4的烷基，4个R1可以相同也可以不同。)。

Gas barrier laminated film

A gas barrier laminated film (5), which has a film substrate (1), the formation of a surface containing inorganic compounds in the membrane of the substrate (A) layer (2), as well as in the containing inorganic compound (A) layer adjacent to the formation of 2 layers, the 2 layer is containing carboxylic acid polymers (B) layer (3), and contains selected the following general formula (1) silicon compound represented by (C) and hydrolysate group in at least 1 and vinyl alcohol polymer (D) layer (4) formed. Si (OR1) 4 () (in the formula, R1 represents the number of carbon atoms of the alkyl group of 1 to, the 4 R1 can be the same or different. ).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在食品或医药品等的包装中使用的阻气性层叠膜。本申请基于2013年10月28日在日本申请的特愿2013-223679号要求优先权，其内容以引用方式并入本文。
技术介绍
作为食品或医药品等的包装中使用的阻气性层叠膜，广泛使用了无机沉积膜。作为无机沉积膜，例如公开有在聚酯膜等的膜基材的至少一面上设置由无机氧化物形成的折射率为1.51至1.65的薄膜(以下称为“无机化合物层”)而成的膜(例如参考专利文献1)。这样的无机沉积膜存在以下问题：由于弯折、拉伸等而承受应力时，无机化合物层容易受损，从而阻气性降低。于是，为了解决这样的问题，研究了提高无机化合物层相对于膜基材的密合性的方法。作为提高无机化合物层相对于膜基材的密合性的方法，例如公开有在膜基材和无机化合物层之间设置底漆层(例如参考专利文献2)。另外，为了解决上述问题，研究了抑制无机化合物层中生成的裂纹的蔓延从而抑制阻气性下降的方法。作为抑制无机化合物层中生成的裂纹的蔓延的方法，例如公开有在无机化合物层上设置阻气性被覆层(例如参考专利文献3)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平9-123338号公报专利文献2：日本特开2010-229291号公报专利文献3：日本专利第4045559号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，专利文献1至3中公开的任一无机沉积膜在承受弯折、>拉伸等所产生的应力后，均难以保持高的阻气性。本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种耐苛刻使用性(耐劣化特性)优异，即使进行弯折、拉伸等阻气性也难以劣化，且具有优异的阻气性的阻气性层叠膜。解决课题的手段本专利技术的一个方式所述的阻气性层叠膜具有膜基材、在所述膜基材的一个面上形成的含无机化合物(A)的层、以及在所述含无机化合物(A)的层上以邻接方式形成的2层，其中所述2层由含有羧酸系聚合物(B)的层、和含有选自由下述通式(1)表示的硅化合物(C)及其水解物构成的组中的至少1种以及乙烯醇系聚合物(D)的层所形成。Si(OR1)4(1)(式中，R1表示碳原子数1至4的烷基，4个R1可以相同也可以不同。)所述含无机化合物(A)的层通过沉积法形成，且可以由选自由铝、氧化铝、氧化锡、氧化镁及氧化硅构成的组中的至少1种形成。专利技术的效果根据本专利技术的一个方式，可以提供耐苛刻使用性优异，即使进行弯折、拉伸等阻气性也难以劣化，且具有优异的阻气性的阻气性层叠膜。附图简要说明[图1]是示出本专利技术的一个方式所述的阻气性层叠膜的例子的截面图。[图2]是示出本专利技术的一个方式所述的阻气性层叠膜的例子的截面图。具体实施方式对本专利技术的阻气性层叠膜的实施方案进行说明。需要说明的是，本实施方案是为了更好地理解专利技术的主旨而进行具体说明的，除非特别指明，否则不会对本专利技术进行限定。[阻气性层叠膜5]本专利技术的一个实施方案所述的阻气性层叠膜5具有膜基材1、在膜基材1的一个面上形成的含无机化合物(A)的层2、和在含无机化合物(A)的层2上以邻接方式形成的2层，该2层由含羧酸系聚合物(B)的层3、以及含有选自由下述通式(1)表示的硅化合物(C)及其水解物构成的组中的至少1种和乙烯醇系聚合物(D)的层4形成。Si(OR1)4(1)(式中，R1表示碳原子数1至4的烷基，4个R1可以相同也可以不同。)在本实施方案所述的阻气性层叠膜5中，在含无机化合物(A)的层2(以下称为“无机化合物层(A1)2”。)上邻接形成了含有羧酸系聚合物(B)的层3(以下称为“羧酸系聚合物层(B1)3”。)、和含有选自由上述通式(1)表示的硅化合物(C)及其水解物构成的组中的1种以及乙烯醇系聚合物(D)的层4(以下称为“硅化合物含有层(C1)4”。)。这表示在膜基材1的一个面上依次形成了无机化合物层(A1)2、羧酸系聚合物层(B1)3以及硅化合物含有层(C1)4，或者在膜基材1的一个面上依次形成了无机化合物层(A1)2、硅化合物含有层(C1)4以及羧酸系聚合物层(B1)3。需要说明的是，只要在无机化合物层(A1)2上邻接形成了羧酸系聚合物层(B1)3和硅化合物含有层(C1)4即可，无机化合物层(A1)2不一定与羧酸系聚合物层(B1)3或硅化合物含有层(C1)4邻接。即，在无机化合物层(A1)2和羧酸系聚合物层(B1)3或硅化合物含有层(C1)4之间可以插入其它层。[膜基材1]作为膜基材1，例如可以举出：包含塑料类、纸类、橡胶类等的基材。在这些膜基材1中，从膜基材1与含有无机化合物(A)的层2的密合性的观点出发，优选包含塑料类的基材。作为塑料类的材料，例如可以举出：低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯、聚丙烯、聚4-甲基戊烯、环状聚烯烃等聚烯烃系聚合物、前述聚烯烃系聚合物的共聚物、前述聚烯烃系聚合物的酸改性物；聚乙酸乙烯酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚乙烯醇等的乙酸乙烯酯系共聚物；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚ε-己内酯、聚羟基丁酸酯、聚羟基戊酸酯等的聚酯系聚合物、前述聚酯系聚合物的共聚物；尼龙6、尼龙66、尼龙12、尼龙6-尼龙66共聚物、尼龙6-尼龙12共聚物、间二甲苯己二酰胺·尼龙6共聚物等的聚酰胺系聚合物、前述聚酰胺系聚合物的共聚物；聚乙二醇、聚醚砜、聚苯硫醚、聚苯醚等的聚醚系聚合物；聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯等的氯系聚合物或氟系聚合物、前述氯系聚合物的共聚物或前述氟系聚合物的共聚物；聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚丙烯腈等的丙烯酸系聚合物、前述丙烯酸系聚合物的共聚物；聚酰亚胺系聚合物、前述聚酰亚胺系聚合物的共聚物；醇酸树脂、三聚氰胺树脂、丙烯酸树脂、硝化纤维素、聚氨酯树脂、不饱和聚酯树脂、酚醛树脂、氨基树脂、氟树脂、涂料中使用的环氧树脂等的树脂；纤维素、淀粉、普鲁兰多糖、壳多糖、壳聚糖、葡甘露聚糖、琼脂糖、明胶等的天然高分子化合物、前述天然高分子化合物的混合物等。另外，作为这样的膜基材1，从膜基材1与粘接层的粘接性的观点出发，可以是对膜基材1的表面进行了电晕处理、火焰处理、等离子体处理等的表面活性处理的膜基材1。[无机化合物(A)]含有无机化合物(A)的层2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阻气性层叠膜，其具有：膜基材、在所述膜基材的一个面上形成的含无机化合物(A)的层、以及在所述含无机化合物(A)的层上以邻接方式形成的2层，所述2层由含有羧酸系聚合物(B)的层、和含有选自由下述通式(1)表示的硅化合物(C)及其水解物构成的组中的至少1种以及乙烯醇系聚合物(D)的层所形成：Si(OR1)4    (1)(式中，R1表示碳原子数1至4的烷基，4个R1可以相同也可以不同)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.28 JP 2013-2236791.一种阻气性层叠膜，其具有：
膜基材、
在所述膜基材的一个面上形成的含无机化合物(A)的层、以及
在所述含无机化合物(A)的层上以邻接方式形成的2层，
所述2层由含有羧酸系聚合物(B)的层、和含有选自由下述通
式(1)表示的硅化合物(C)及...

【专利技术属性】
技术研发人员：竹内伊织，樫村雅之，河口克己，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP