一种抗电磁波增亮膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抗电磁波增亮膜，提升其使用性能。本实用新型专利技术包含有上增亮膜与下增亮膜，上增亮膜包含A基材、抗电磁结构层以及扩散层；A基材包含A光学面和B光学面，抗电磁结构层设置在A基材的A光学面，扩散层层叠在A基材的B光学面；下增亮膜包括B基材、B棱镜结构层，B棱镜结构层设置在B基材上。本实用新型专利技术能具有抗电磁波功能，优化增亮膜的功能，同时该制备方法简单，适用于大量生产。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光学保护膜，尤其是涉及一种液晶显示器背光模组中的抗电磁波增亮膜。
技术介绍
液晶显示器有着能耗低、重量轻、无辐射、无闪烁等优点，是目前市面上主流的显示器，但液晶作为一种被动发光材料，需要依靠背光模组才能实现图像的显示，一般来说，背光模组由光源、反射膜、导光板、光学模组组成，其中光学模组包含下增亮膜、上增亮膜，增亮膜一般包含基材和棱镜结构层，上增亮膜含雾化层。而目前市场上的增亮膜功能比较单一，不具备抗电磁波的功能，不能满意满足市场的需求。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种抗电磁波增亮膜，提升其使用性能。为达到上述目的，本技术采用以下方案：一种抗电磁波增亮膜，包含有：上增亮膜与下增亮膜，上增亮膜包含A基材、抗电磁结构层以及扩散层；A基材包含A光学面和B光学面，抗电磁结构层设置在A基材的A光学面，扩散层层叠在A基材的B光学面；下增亮膜包括B基材、B棱镜结构层，B棱镜结构层设置在B基材上；抗电磁结构层为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层；抗电磁结构层与B棱镜结构层由若干平行的棱镜单体组成；上增亮膜与下增亮膜的棱镜单体长度方向相互垂直，即抗电磁结构层与B棱镜结构层的棱镜单体长度方向相互垂直；棱镜单体截面为一等腰三角形，抗电磁结构层与B棱镜结构层的棱镜高度d2为15～30μm，棱镜单体之间的间距d4为20～40μm，棱镜单体截面为等腰三角形，顶角角度α为85～95°。在其中一些实施例中，所述A基材与B基材为PET膜、PC膜或PMMA膜，A基材与B基材厚度d0为23～100μm；扩散层为添加有抗电磁波材料的扩散层，扩散层厚度d3为4～10μm。在其中一些实施例中，所述扩散层和抗电磁结构层分置在A基材的两面，B棱镜结构层由若干平行的丙烯酸类树脂棱镜单体组成。本技术主要提供一种抗电磁波增亮膜，相比传统结构的增亮膜，其在提供轴向亮度增益的同时，能具有抗电磁波功能，优化增亮膜的功能，提高其使用价值。同时该制备方法简单，适用于大量生产。附图说明图1为本技术实施例上增亮膜的示意图；图2为本技术实施例下增亮膜的示意图；图3为本技术实施例的结构示意图；图4为本技术实施例的立体示意图。附图标记说明：上增亮膜10，A基材11，抗电磁结构层12，扩散层13，下增亮膜20，B基材21，B棱镜结构层22。具体实施方式为能进一步了解本技术的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，解析本技术的优点与精神，藉由以下通过实施例对本技术做进一步的阐述。本增亮膜组包括上增亮膜10和下增亮膜20，上增亮膜10包括A基材11、抗电磁结构层12、扩散层13，抗电磁波材料添加在扩散层13里，扩散层13和抗电磁结构层12分置在A基材11的两面；下增亮膜20包括B基材21、B棱镜结构层22。增亮膜基材(A基材11与B基材21)材料为PET、PC、PMMA等其中一种，厚度d0为23～100μm。抗电磁结构层12为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层，B棱镜结构层22由若干平行的丙烯酸类树脂棱镜单体组成。扩散层13的原料组成及重量份为：包括丙烯酸类树脂和光扩散粒子，光扩散粒子包含PMMA粒子、PS粒子、SiO2粒子、TiO2等粒子一种或几种，粒子大小为2～5μm。抗电磁结构层12的原料组成及重量份为：丙烯酸类树脂40～75份，抗电磁波材料8～26份；抗电磁波材料成分主要为纳米银颗粒(20～35份)，溶剂为松油醇(1～5份)与无水乙醇(45～65份)混合，增稠剂为乙基纤维素(4～5.5份)，分散剂为司班-85(3～5份)。抗电磁结构层12涂布方式为微凹涂布或刮刀式涂布。抗电磁结构层12与B棱镜结构层22包含设置成规律的棱镜单体，棱镜单体高度d2为15～30μm，间距d4为20～40μm，其截面为等腰三角形，等腰三角形顶角角度α为85～95°。抗电磁结构层12棱镜单体为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂经花纹辊转印并经UV光源固化而成，B棱镜结构层22棱镜单体为丙烯酸类树脂经花纹辊转印并经UV光源固化而成。花纹辊为金属轮，表面电镀100～500μm厚度的铜层或镍层，表面微结构经单点金刚石刀具车削或激光成形加工而成。扩散层13的原料组成及重量份为：丙烯酸类树脂40～75份，光扩散粒子3～15份；光扩散粒子为PMMA粒子、PS粒子、SiO2粒子或TiO2粒子的一种及其组合，粒子大小为4μm。本技术的制造方法如下：(1)、选用23～100μm厚度的PET、PC或PMMA作为A基材11在A基材11的B光学面涂布扩散层13，涂布方式为微凹涂布或刮刀式涂布；(2)、在A基材11的A光学面用花纹辊转印添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂涂布，并经烤箱与UV光源固化，而形成带有若干平行棱镜单体的抗电磁结构层12，得到上增亮膜10；花纹辊为金属轮，表面电镀100～500μm厚度的铜层或镍层，表面微结构经单点金刚石刀具车削或激光成形加工而成；(3)、选用23～100μm厚度的PET、PC或PMMA作为B基材21，在B基材21的上面用花纹辊转印丙烯酸类树脂涂布，并经烤箱与UV光源固化而形成带有若干平行棱镜单体的B棱镜结构层22，得到下增亮膜20；(4)、各自做好的上增亮膜10、下增亮膜20，使用时叠加使用，成为具有抗电磁波效果的增亮膜。各自做好上增亮膜10和下增亮膜20，叠加使用就好。同时，上增量膜10上的扩散层已通过微凹或刮刀涂布得到；下增亮膜20只有棱镜结构，没有扩散层。在其中一个实施例中，A基材11选用50μm的PET，扩散层13采用微凹涂布，厚度d3为5～7μm，其中，光扩散粒子为3μm的SiO2粒子，经烤箱与UV灯后完成扩散层13涂布。在A基材11的另一面涂布抗电磁结构层12。A基材11上面用花纹辊转印添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂，采用花纹辊转印方式涂布；抗电磁波材料成分主要为纳米银颗粒(26份)，溶剂为松油醇(3份)与无水乙醇(60份)混合，增稠剂为乙基纤维素(4.7份)，分散剂为司班-85(3.8份)，主胶为丙烯酸类树脂，经烤箱与UV灯后完成抗电磁结构层12涂布；抗电磁结构层12高度为23μm，间距为33μm，截面为等腰直角三角形，得到上增亮膜10；下增亮膜20按上述结构层方式涂布。在下增亮膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗电磁波增亮膜，包含有：上增亮膜(10)与下增亮膜(20)，其特征在于，所述上增亮膜(10)包含A基材(11)、抗电磁结构层(12)以及扩散层(13)；所述A基材(11)包含A光学面和B光学面，所述抗电磁结构层(12)设置在A基材(11)的A光学面，所述扩散层(13)层叠在A基材(11)的B光学面；所述下增亮膜(20)包括B基材(21)、B棱镜结构层(22)，所述B棱镜结构层(22)设置在B基材(21)上；所述抗电磁结构层(12)为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层；所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)由若干平行的棱镜单体组成；所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)的棱镜单体长度方向相互垂直；所述棱镜单体截面为一等腰三角形，所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)的棱镜高度为15～30μm，所述棱镜单体之间的间距为20～40μm，所述棱镜单体截面为等腰三角形，顶角角度为85～95°。

【技术特征摘要】
1.一种抗电磁波增亮膜，包含有：上增亮膜(10)与下增亮膜(20)，
其特征在于，所述上增亮膜(10)包含A基材(11)、抗电磁结构层(12)以
及扩散层(13)；所述A基材(11)包含A光学面和B光学面，所述抗电磁结
构层(12)设置在A基材(11)的A光学面，所述扩散层(13)层叠在A基
材(11)的B光学面；所述下增亮膜(20)包括B基材(21)、B棱镜结构层
(22)，所述B棱镜结构层(22)设置在B基材(21)上；所述抗电磁结构层
(12)为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层；
所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)由若干平行的棱镜单体
组成；所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)的棱镜单体长度方向
相互垂直；所述棱镜单体截...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱文峰，王善文，
申请(专利权)人：东莞市纳利光学材料有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44