一种半下挖防倒灌式日光温室制造技术

本实用新型专利技术提供一种半下挖防倒灌式日光温室，包括种植区、遮阴区和墙体，种植区包括棚体，墙体由棚体内取土筑成墙体的50%‑70%，墙体由墙体的前部及遮阴区内取土30%‑50%，所述墙体为梯形结构，所述墙体的上表面宽度为2m，墙体的下表面宽度为5m，在棚体与遮阴区的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜，所述挡水膜的宽为0.5cm，挡水膜的长为50cm。本实用新型专利技术解决冬季遮阴多的问题，不会引起夏季雨水倒灌，保护墙体，提高作物产量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种温室大棚，特别涉及一种半下挖防倒灌式日光温室。
技术介绍
普通土墙体日光温室，由于取土筑墙，如果全部从棚内取土，则棚内下挖深度在1m左右，前部遮阴严重，造成前部1.5米处冬季无法种植，作物产量低。如果采用二次下挖法，棚内下挖1米，棚外2m内下挖0.5m，此法虽然解决了冬季遮阴问题，但夏季棚面雨水与棚外雨水会通过下挖部分倒灌到日光温室内，淹没蔬菜种苗甚至侵蚀土墙体，容易引起坍塌。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题，是针对上述技术方案的不足，提供一种半下挖防倒灌式日光温室，其采光效果好，解决冬季遮阴多的问题，提高了作物产量；及时排出雨水，避免夏季雨水倒灌，保护墙体。为解决上述技术问题，本技术的技术方案为：一种半下挖防倒灌式日光温室，包括种植区、遮阴区和墙体，种植区包括棚体，墙体由棚体内取土筑成墙体的50%-70%，墙体由墙体的前部及遮阴区内取土30%-50%，所述墙体为梯形结构，所述墙体的上表面宽度为2m，墙体的下表面宽度为5m，在棚体与遮阴区的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜，所述挡水膜的宽为0.5cm，挡水膜的长为50cm。作为优选的技术方案，所述棚体内的植物种植水平面较棚体外的遮阴区的水平面低40-60cm。作为优选的技术方案，所述遮阴区由地面向下挖了10-20cm形成。作为优选的技术方案，在遮阴区内设置排水沟将雨水排走，所述排水沟为倒立的梯形，排水沟的上表面宽度为1m，排水沟的下表面宽度为0.5m。作为优选的技术方案，所述挡水膜上部的20cm贴合在棚体的棚架上，所述挡水膜下部的30cm埋入土中。作为优选的技术方案，所述墙体的内表面设置有吸热层，所述墙体的外表面敷设有防寒层，所述防寒层为泡沫水泥板，防寒层的厚度为2-3cm。本技术与现有技术相比，具有以下优点：(1)采光效果好，解决冬季遮阴多的问题；(2)不会引起夏季雨水倒灌，保护墙体；(3)提高了作物产量。附图说明图1本技术日光温室的结构示意图；其中：1-种植区，2-遮阴区，3-墙体，4-棚体，5-排水沟，6-挡水膜。具体实施方式为了对本技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本技术的具体实施方式。实施例1一种半下挖防倒灌式日光温室参照图1，本技术提供一种半下挖防倒灌式日光温室，包括种植区1、遮阴区2和墙体3，种植区1包括棚体4，墙体3由棚体4内取土筑成墙体3的50%-70%，墙体3由墙体3的前部及遮阴区2内取土30%-50%，所述墙体3为梯形结构，所述墙体3的上表面宽度为2m，墙体3的下表面宽度为5m。本技术的日光温室建成后，使棚体4内的植物种植水平面较棚体4外的遮阴区2的水平面低40-60cm，本技术采光效果好，即使棚体4内靠近遮阴区2的植株长势良好，这样的构造可以很好的避免棚体4内部采光不均匀、不佳的问题，提高了作物产量。所述遮阴区2由地面向下挖了10-20cm形成，在遮阴区2内设置排水沟5将雨水排走，所述排水沟5为倒立的梯形，排水沟5的上表面宽度为1m，排水沟5的下表面宽度为0.5m。排水沟5的设置不会引起夏季雨水倒灌。同时为防止积水倒灌，在棚体4与遮阴区2的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜6，所述挡水膜6的宽为0.5cm，挡水膜6的长为50cm，所述挡水膜6上部的20cm贴合在棚体1的棚架上，所述挡水膜6下部的30cm埋入土中，进一步的保护了墙体。实施例2一种半下挖防倒灌式日光温室本实施例与实施例1的相同之处不在赘述，仅对不同之处加以说明。本技术还提供一种半下挖防倒灌式日光温室，所述墙体3的内表面设置有吸热层，所述墙体3的外表面敷设有防寒层，所述防寒层为泡沫水泥板，防寒层的厚度为2-3cm。本技术提供一种半下挖防倒灌式日光温室，包括种植区、遮阴区和墙体，种植区包括棚体，墙体由棚体内取土筑成墙体的50%-70%，墙体由墙体的前部及遮阴区内取土30%-50%，所述墙体为梯形结构，所述墙体的上表面宽度为2m，墙体的下表面宽度为5m，在棚体与遮阴区的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜，所述挡水膜的宽为0.5cm，挡水膜的长为50cm。本技术解决冬季遮阴多的问题，不会引起夏季雨水倒灌，保护墙体，提高作物产量。以上所述为本专利技术最佳实施方式的举例，其中未详细述及的部分均为本领域普通技术人员的公知常识。本专利技术的保护范围以权利要求的内容为准，任何基于本专利技术的技术启示而进行的等效变换，也在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半下挖防倒灌式日光温室，其特征在于：包括种植区（1）、遮阴区（2）和墙体（3），种植区（1）包括棚体（4），墙体（3）由棚体（4）内取土筑成墙体（3）的50%‑70%，墙体（3）由墙体（3）的前部及遮阴区（2）内取土30%‑50%，所述墙体（3）为梯形结构，所述墙体（3）的上表面宽度为2m，墙体（3）的下表面宽度为5m，在棚体（4）与遮阴区（2）的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜（6），所述挡水膜（6）的宽为0.5cm，挡水膜（6）的长为50cm。

【技术特征摘要】
1.一种半下挖防倒灌式日光温室，其特征在于：包括种植区（1）、遮阴区（2）和墙体（3），种植区（1）包括棚体（4），墙体（3）由棚体（4）内取土筑成墙体（3）的50%-70%，墙体（3）由墙体（3）的前部及遮阴区（2）内取土30%-50%，所述墙体（3）为梯形结构，所述墙体（3）的上表面宽度为2m，墙体（3）的下表面宽度为5m，在棚体（4）与遮阴区（2）的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜（6），所述挡水膜（6）的宽为0.5cm，挡水膜（6）的长为50cm。2.根据权利要求1所述的一种半下挖防倒灌式日光温室，其特征在于：所述棚体（4）内的植物种植水平面较棚体4外的遮阴区（2）的水平面低40-60cm。3.根据权利要求1所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：李勇，曹玉梅，张强，朱慧，
申请(专利权)人：山东省寿光蔬菜产业集团有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37