【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于有机化合物臭氧分解反应的臭氧化物还原剂，该还原剂从商业角度看有广泛的用途、安全和廉价，而且容易进行清除处理。背景工艺臭氧分解反应作为从有机不饱和化合物或芳族化合物制备羧酸、醛、酮和环氧化物的一种方法已得到广泛应用。通常是将此反应用于工业目的(新实验化学讲座，第15卷，第10章，Maruzen公司1975年9月20日出版)。臭氧分解反应常分两步进行，即，使臭氧与有机不饱和化合物或芳族化合物反应以得到作为中间体的臭氧化物(过氧化物)的步骤和使该臭氧化物经受氧化、还原、水解和类似反应以得到稳定的目标化合物的步骤。本专利技术涉及后一步骤。这里所用的％臭氧化物”一词意味着由臭氧分解反应产生的任何过氧化物，例如α-臭氧化物、β-臭氧化物、羟基过氧化物、双过氧化物等。因为臭氧化物常有爆炸及类似的危险，所以以高产率处理臭氧化物以得到安全的目标化合物大概是臭氧分解反应的关键步骤。一般说来，几乎不产生副反应的最柔和的处理臭氧化物的方法被认为是还原性分解(新实验化学讲座，第15卷，第10章，Maruzen公司1975年9月20日出版)。这种方法用各种臭化物还...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：笹冈三千雄，铃木大助，城井敬史，
申请(专利权)人：大塚化学株式会社，
类型：发明
国别省市：
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