一种萃取中转槽制造技术

技术编号:14959419 阅读:42 留言:0更新日期:2017-04-02 12:18
本实用新型专利技术公开了一种萃取中转槽,包括槽体,槽体内装有含铜浊刻液,槽体的底部设有出液口,出液口通过第一管道与泵体连接,泵体的出口连接第二管道,第二管道延伸到铜离子萃取电极处,所述萃取电极分别通过管道与第二管道连接,所述槽体的底部还设有放液管,放液管通过阀门控制开、关,本实用新型专利技术不需要安装额外的耐酸碱管道,节约了成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及金属萃取技术,特别涉及一种萃取中转槽
技术介绍
在铜萃取工艺时都会用到中转槽,但是传统中转槽由于在将含铜浊刻液提取到金属成型装置中时都是通过泵机提取,而泵机一般设于槽体顶部位置处对含铜浊刻液进行提取,但是,由于泵机设于槽体顶部处,因而需要通过耐酸碱的管道进入到反应槽体内,这样一来就增加了萃取成本。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种结构简单,节约成本的萃取中转槽。为实现上述目的,本技术提供以下的技术方案:一种萃取中转槽,包括槽体,所述槽体内装有含铜浊刻液,所述槽体的底部设有出液口,出液口通过第一管道与泵体连接,泵体的出口连接第二管道,第二管道延伸到铜离子萃取电极处,所述萃取电极分别通过管道与第二管道连接,所述槽体的底部还设有放液管,放液管通过阀门控制开、关;所述放液管在槽体上的位置高度低于出液口的高度,萃取电极的高度高于槽体的顶部。优选的,第二管道从铜离子萃取电极处绕回到槽体的顶部,并进入槽体内。采用上述技术方案,将泵体设于槽体底部的地面位置处,然后再通过第一管道与位于槽体底部的出液口连接,在提取时,含铜浊刻液直接从出液口进入泵体内,再通过泵体增压,将含铜浊刻液送入到萃取电极中,本技术不需要安装额外的耐酸碱管道,节约了成本。附图说明图1是本技术结构示意图;其中,1.槽体2.泵体3.第一管道4.第二管道5.放液管。具体实施方式下面结合附图,通过对实施例的描述,对本技术做进一步说明:如图1所示,本技术一种萃取中转槽,包括槽体1,槽体1的顶部密封,槽体1内装有含铜浊刻液,槽体1的底部设有出液口,出液口通过第一管道3与泵体2连接,泵体2的出口连接第二管道4,第二管道4延伸到铜离子萃取电极处,萃取电极分别通过管道与第二管道4连接,槽体1的底部还设有放液管5,放液管5通过阀门控制开、关,放液管5在槽体1上的位置高度低于出液口的高度;萃取电极的高度高于槽体1的顶部。本技术为了便于未被萃取电极反应掉的含铜浊刻液实现回收,将第二管道4从铜离子萃取电极处绕回到槽体1的顶部,并进入槽体1内,这样未被萃取电极反应掉的含铜浊刻液可通过第二管道4重新回到槽体1内,实现电镀污泥的充分利用,避免浪费。本技术将泵体2设于槽体1底部的地面位置处,然后再通过第一管道3与位于槽体1底部的出液口连接,在提取时,含铜浊刻液直接从出液口进入泵体2内,再通过泵体2增压,将含铜浊刻液送入到萃取电极中,本技术不需要安装额外的耐酸碱管道,节约了成本。以上所述的仅是本技术的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本技术创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种萃取中转槽,包括槽体(1),所述槽体(1)内装有含铜浊刻液,其特征在于:所述槽体(1)的底部设有出液口,出液口通过第一管道(3)与泵体(2)连接,泵体(2)的出口连接第二管道(4),第二管道(4)延伸到铜离子萃取电极处,所述萃取电极分别通过管道与第二管道(4)连接,所述槽体(1)的底部还设有放液管(5),放液管(5)通过阀门控制开、关;所述放液管(5)在槽体(1)上的位置高度低于出液口的高度,萃取电极的高度高于槽体(1)的顶部。

【技术特征摘要】
1.一种萃取中转槽,包括槽体(1),所述槽体(1)内装有含铜浊刻液,
其特征在于:所述槽体(1)的底部设有出液口,出液口通过第一管道(3)与
泵体(2)连接,泵体(2)的出口连接第二管道(4),第二管道(4)延伸到
铜离子萃取电极处,所述萃取电极分别通过管道与第二管道(4)连接,所述
槽体(...

【专利技术属性】
技术研发人员:秦秉宏余永兵
申请(专利权)人:重庆龙健金属制造有限公司
类型:新型
国别省市:重庆;50

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