一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩及其制造方法，该灯罩包括基片，所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20n；所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5-20nm；所述第九膜层为丙烯酸层，厚度为5-15nm。所述灯罩的制造方法包括以下步骤：1）对基片进行清洗；2）对基片的外表面进行镀膜。本发明专利技术灯罩能过滤有害蓝光和炫光，能提高增透性，还具有杀菌性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种灯罩
，尤其是涉及一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩及其制造方法。
技术介绍
随着社会的进步和科技的发展，照明设备已广泛进入人们的工作和生活中，随着人们对照明设备（如灯具）的使用时间的日益增长，这些灯具所发出的蓝光、紫外线、炫目光对眼睛视力的伤害越来越严重。蓝光是波长为400-500nm的高能量可见光，蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜，蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮细胞的萎缩，并引起光敏感细胞的死亡，视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强，吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩，这也是产生黄斑病变的主要原因之一；蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大，视网膜色素上皮细胞的萎缩，会使视网膜的图像变得模糊，对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节，加重睫状肌的工作强度，引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳，视力会逐渐下降，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。目前，主要是通过在灯具外设置灯罩，用以聚光、防风雨以及解决上述问题，但是效果并不理想，人们长期暴露在灯光环境中，身体受到了极大的影响。另外，在寒冷的冬季，灯罩表面容易凝结水滴，从而影响灯罩的透光率，同时现有的灯罩也少有杀菌的功能。因此，市场上迫切需要出现一种带有防蓝光、防炫目、杀菌、增透功能的灯罩来取代现有的传统灯罩。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术的不足，提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害，具有防炫目功能，适于夜间使用的过滤蓝光杀菌增透的灯罩及其制造方法。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩，包括基片，所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5-20nm；所述第九膜层为丙烯酸层，厚度为5-15nm。所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型。所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。所述基片由树脂或玻璃成型。所述基片由树脂成型时，该过滤蓝光杀菌增透的灯罩制造方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）对基片的外表面进行镀膜；A、镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；B、镀第二膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；C、镀第三膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1?/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；D、镀第四膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；E、镀第五膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7?/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；F、镀第六膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；G、镀第七膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7?/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；H、镀第八膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1?/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；I、镀第九膜层：在上述步骤H中第八膜层的表面上，通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料，经若干次涂覆，最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：将基片放在真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行清洗。所述基片由玻璃成型时，该过滤蓝光杀菌增透的灯罩的制造方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）对基片的外表面进行镀膜；A、镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩，包括基片，其特征在于：所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10‑100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50‑100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5‑20nm；所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5‑20nm；所述第九膜层为丙烯酸层，厚度为5‑15nm。

【技术特征摘要】
1.一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩，包括基片，其特征在于：所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5-20nm；所述第九膜层为丙烯酸层，厚度为5-15nm。
2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩，其特征在于：所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型。
5.根据权利要求4所述的一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩，其特征在于：所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。
6.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩，其特征在于：所述基片由树脂或玻璃成型。
7.根据权利要求6所述的一种过滤蓝光杀菌增透的灯罩的制造方法，其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）对基片的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1?/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7?/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7?/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解以纳米银的形式附着于上...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴晓彤，方俊勇，
申请(专利权)人：奥特路漳州光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35