抗蚀剂剥离液组合物、平板显示器基板及其制造方法技术

本发明专利技术涉及包含(a)化学式1所表示的仲胺、(b)非质子有机溶剂化合物和(c)伯醇化合物的抗蚀剂剥离液组合物，包括利用该抗蚀剂剥离液组合物对平板显示器基板进行清洗的工序的平板显示器基板的制造方法，及由上述制造方法制造的平板显示器基板。化学式1中，R为C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基等。[化学式1]。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种抗蚀剂剥离液组合物、使用其的平板显示器基板制造方法以及平板显示器基板。
技术介绍
近年来，随着对于实现平板显示装置的高分辨率的要求增多，一直进行着旨在增加每单位面积的像素数量的努力。在这样的趋势下，也要求配线宽度的减小，为了应对该趋势，导入了干式蚀刻工序等，因而工序条件也变得愈发苛刻。此外，由于平板显示装置的大型化，也要求配线中的信号速度加快，因此，相比铝，电阻率低的铜逐渐被用作配线材料。为了与之适应，对于在作为抗蚀剂去除工序的剥离工序中使用的剥离液的需求性能也逐渐提高。具体而言，对于针对干式蚀刻工序之后所产生的蚀刻残渣的去除能力和针对金属配线的腐蚀抑制能力等，要求相当水平的剥离特性。特别地，不仅要求对于铝的腐蚀抑制能力，还要求对于铜的腐蚀抑制能力，并且为了确保价格竞争力，也要求如基板的处理张数增多这样的经济性。一般而言，为了去除抗蚀剂，会使用一乙醇胺、甲基氨基甲醇等胺等。然而，已知以往的光致抗蚀剂剥离液组合物在长期保管以及高温工序温度条件下会因胺的挥发损失而发生胺的含量降低所导致的剥离性降低的问题。例如，韩国公开专利第10-2006-0048092号中公开了包含本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含：(a)下述化学式1所表示的仲胺、(b)非质子有机溶剂化合物、和(c)伯醇化合物，[化学式1]上述化学式1中，R为C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基、所述C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基可被羟基、C1～C10的烷氧基、氰基或氟基取代或非取代，n为0～3的整数。

【技术特征摘要】
2015.09.16 KR 10-2015-01312451.一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含：(a)下述化学式1所表示的仲胺、(b)非质子有机溶剂化合物、和(c)伯醇化合物，[化学式1]上述化学式1中，R为C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基、所述C2～C20的直链或支链烷基、或者C5～C8的环烷基可被羟基、C1～C10的烷氧基、氰基或氟基取代或非取代，n为0～3的整数。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，所述(a)化学式1所表示的仲胺是选自2-羟甲基氨基乙醇、2-(2-(羟甲基氨基)乙氧基)乙醇、2-(2-(2-(羟甲基氨基)乙氧基)乙氧基)乙醇、乙基氨基甲醇、N-羟甲基丙胺、丁基氨基甲醇、异丁基氨基甲醇和N-(2-羟丙基)氨基甲醇中的一种以上。3.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，所述(b)非质子有机溶剂化合物是选自吡咯烷酮化合物、咪唑烷酮化合物、亚砜化合物、磷酸酯化合物及酰胺化合物中的一种以上。4.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，所述(b)非质子有机溶剂化合物是选自1-乙酰基吡咯烷、2-吡咯烷酮、N-甲基吡咯烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、1,3-二丙基-2-咪唑烷酮、二甲亚砜、环丁砜、磷酸三乙酯、磷酸三丁酯、N-甲基甲酰胺、N-乙基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰基乙酰胺、N,N-叔丁基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N-乙基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N-(2-羟乙基)乙酰胺、N,N-二甲基丙酰胺、...

【专利技术属性】
技术研发人员：李喻珍，高京俊，金圣植，金正铉，崔汉永，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR