具有流动开关和键控灯的紫外线消毒组件制造技术

一种用于利用UV光线处理流体的紫外(UV)组件具有壳体。安装支架限定狭槽和中空部。UV源包括：扭转‑锁定在狭槽中的凸耳；与中空部对齐的连接器；和RFID标记。RFID天线与RFID标记交互以发出RFID标记位置信号。流动开关发送流动信号。流动开关包括：引导部；可滑动地安装至引导部的轴；轴上的盘；联接至轴的磁体；和用于产生磁体位置信号的传感器。在没有流体流动时，弹簧偏压轴，从而磁体定位在被传感器检测的位置。在有流体流动时，该流动施加压力以移动盘并且由此磁体移动以定位在不会被传感器检测的位置。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本非临时专利申请要求2015年4月21日提交的美国临时专利申请US62/150,827、2015年4月21日提交的美国外观设计专利申请US29/524,583和2015年7月23日提交的要求了2014年7月23日提交的美国临时专利申请US62/027,993的优先权及权益的美国非临时专利申请US14/807,184的优先权及权益，以上申请的每一个通过引用而全部并入本文中。
本技术涉及一种利用紫外线(此后简称“UV”或者“UV光线”)对水消毒的组件和方法，并且更加具体地，涉及一种更安全且更高效的UV消毒组件和方法。
技术介绍
已知的借助于紫外线的辐射处理流体是不用化学药品的有效的消毒方法。该应用能够在工业和民用两者中变化而应用于水、食物、游泳池等等。典型的方法是在封闭的处理区域中处理流体，该处理区域如图1所示被紫外线辐射，图1是UV处理系统的截面视图。对于任何类型的光反应器，这些系统的目的是当污染物经过处理区域时，提供均匀量的紫外线能量至各个单独的成分(例如，污染物分子、微生物)。参考图1，示出典型的现有技术的UV处理容器10。在容器10中，UV处理区域11被包含在腔室12内，腔室12与进入端口13和排出端口14流体连通。进入腔室12的流体由箭头“a”指示，并且离开腔室12的流体由箭头“b”指示。至少一个UV光源组件15位于腔室12内，以在UV处理区域11中提供辐射的UV能量，其流动由箭头“c”指示。可使用许多形式的UV辐射源组件，包括那些利用汞灯或者UV发光二极管的UV辐射源组件。UV源15容纳在UV透明套筒16中。UV源15经由电线17从未示出且设计成适合特定类型的UV源15的电力电源接收电力。密封罩18和o形环密封圈19密封透明套筒16的外部至腔室12，允许UV源15和电线17出入而防止不希望的流体流出。
技术实现思路
存在与UV处理组件相关的问题。本技术通过提供增强的安全特性，对当前的技术进行改进。例如，公开了防止误操作的键控灯组件。此外，公开了用于UV组件的很敏感的流动开关。本技术的一个实施例指向一种用于利用UV光线处理流体的紫外(UV)光源组件。安装支架限定狭槽和中空部。UV源包括：凸耳，该凸耳扭转-锁定在该狭槽中；连接器，该连接器与中空部对齐；和RFID标记。RFID天线与RFID标记交互以发出第一信号，该第一信号指示UV源的位置。流动开关发送第二信号，该第二信号指示流体流动。该流动开关包括：引导部；轴，该轴可滑动地安装至引导部；盘，该盘在轴上；卡环，该卡环在轴上；弹簧，该弹簧安装在卡环和引导部之间，以朝向闭合位置偏压上述轴；磁体，该磁体联接至轴；和传感器，该传感器用于基于磁体与传感器的接近产生第三信号，其中，在实质上没有流体流动时，该弹簧偏压柱塞组件，从而磁体定位在被传感器检测的位置，并且在有流体流动期间，该流动施加压力以移动该盘并且由此磁体移动至定位在不会被传感器检测的位置。UV光源组件还可以包括镇流器控制器，该镇流器控制器用于接收和处理第一信号、第二信号和第三信号，其中镇流器控制器基于第一信号、第二信号和第三信号向UV源供电。镇流器控制器还可以接收指示流速的信号并且基于该流速调整UV源的输出。流速信号可以来自流动开关或者另一个传感器。镇流器控制器可以记录UV源的操作统计信息以确定何时更换UV源。操作统计信息可以被存储在RFID标记上，以防止在此说明的其他情况之外的非故意地过度使用。本技术的另一个实施例指向一种用于利用UV光线处理流体的紫外(UV)光源组件，包括管状壳体，该管状壳体限定具有处理区域的内部腔室、入口和出口，从而进入该入口的流体经过处理区域。安装支架联接至管状壳体并且限定至少一个狭槽和中空部。UV源安装在内部腔室中，用于将UV光学供应至处理区域。UV源包括：至少一个凸耳，该凸耳扭转-锁定在狭槽中；连接器，当被锁定以通过电缆连接至镇流器控制器时，该连接器与中空部对齐；和RFID标记。RFID天线联接至安装支架，从而在被锁定时，RFID天线与RFID标记交互以发出信号。本技术的一个实施例指向一种用于紫外线组件的内部腔室的流动开关。该内部腔室由壳体限定，该壳体具有沿着轴线的入口，该壳体的邻近入口的大直径部分从轴线向外张开。流动开关包括固定在入口中的引导部。该引导部具有环形部分，该环形本体具有内部叶片，该内部叶片限定中心孔，该中心孔由至少一个流动路径围绕。柱塞组件具有盘和从该盘延伸的轴，其中该轴联接在中心孔中，用于沿着轴线滑动，并且该盘的尺寸和构造使得该盘在入口内移动。卡环联接至轴的远端，用于将轴保持在中心孔内。弹簧安装在卡环和引导部之间，以朝向闭合位置偏压柱塞组件。磁体联接至柱塞组件，用于随着柱塞组件运动，并且磁体传感器安装至壳体，用于确定该磁体的接近。在闭合位置，在很少或者没有流体流动经过该入口期间，该弹簧偏压柱塞组件，从而磁体定位在被传感器检测的位置。在打开位置，在有流体流动经过该入口期间，该流动施加压力至使该盘移动进入壳体的大直径部分并且磁体移动至定位在不会被传感器检测的位置。应当理解的是，能够在多方面实现并且利用本技术，包括但不限于现在已知的和以后开发的过程、设备、系统、装置、方法。从下述说明和附图中，本技术的这些和其他独特特征将变得更加清楚。附图说明参照以下附图，本领域技术人员将会更加容易地理解如何制造和使用本技术。图1是现有技术中UV组件的截面视图；图2A是根据本技术的UV组件的立体图；图2B是根据本技术的UV组件的俯视图；图2C是根据本技术的分离的镇流器控制器和UV组件的立体图；图2D是根据本技术的镇流器控制器的示意图；图3A是根据本技术的UV源的立体图；图3B是根据本技术的UV源的俯视图；图4A是根据本技术的UV组件的分解立体图；图4B是根据本技术的已装配的UV组件的分解立体图；图4C是根据本技术的几乎完全地装配的UV组件的分解立体图；图5A和图5B是根据本技术的处于闭合位置(例如，没有流体流动)的流动开关的截面视图；图6A和图6B是根据本技术的处于打开位置(例如，有流体流动)的流动开关的截面视图；图7是根据本技术的流动开关的分解图。具体实施方式本技术克服许多与现有技术中UV组件有关的问题。从以下特定优选实施例的详细描述以及阐明本技术的代表性实施例的附图，在此公开的组件和方法的优点及其他特征对于本领域内技术人员将会变得更加清楚。在此，所有的相关描述，例如左、右、上和下是参考附图，而并非意味着局限意义。UV系统与灯键实施例现在参考图2A至图2C，示出了根据本技术的UV组件100的各种立体图和俯视图，其中壳体102被部分地切开。简单地说，UV组件100包括灯键元件，该灯键元件防止意外地暴露于紫外线。通过免除当置换UV源时对与UV源相关的运行参数手动复位的需要，灯键元件还提升了可靠性，并且防止使用不恰当的UV源。进一步，这些优点等是以相对低成本实现的。UV组件100包括联接至管状壳体102的镇流器控制器200和UV源300。镇流器控制器200是UV组件100的电源和控制中心。优选地，镇流器控制器200产生恒定电流输出从而以最佳效率驱动UV源本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种紫外光源组件，用于利用紫外光线处理流体，其特征在于，包括：管状壳体，所述管状壳体限定具有处理区域的内部腔室、入口和出口，从而进入所述入口的流体经过所述处理区域；安装支架，所述安装支架联接至所述管状壳体，所述安装支架限定至少一个狭槽和中空部；紫外源，所述紫外源安装在所述内部腔室中，用于将紫外光线供应至所述处理区域，所述紫外源包括：至少一个凸耳，所述凸耳扭转‑锁定在所述狭槽中；连接器，当被锁定以通过电缆连接至镇流器控制器时，所述连接器与所述中空部对齐；和RFID标记；RFID天线，所述RFID天线设置于所述安装支架上，从而当被锁定时，所述RFID天线与所述RFID标记交互以发出第一信号，所述第一信号指示所述紫外源的位置；和流动开关，所述流动开关发送第二信号，所述第二信号指示所述内部腔室的流体流动；所述流动开关包括：引导部，所述引导部固定在所述入口；轴，所述轴可滑动地安装至所述引导部；盘，所述盘在所述轴的第一端上，从而抵抗所述盘的流动使所述轴移动；卡环，所述卡环联结至所述轴的第二端，用于将所述轴保持在所述引导部内；弹簧，所述弹簧安装在所述卡环和所述引导部之间，以朝向闭合位置偏压所述轴；磁体，所述磁体联接至所述轴以随着所述轴运动；和传感器，所述传感器安装到所述壳体，用于基于所述磁体与所述传感器的接近产生第三信号；其中，在很少或者没有流体流动经过所述入口期间，所述弹簧偏压所述轴，从而所述磁体定位在被所述传感器检测的位置，并且在有流体流动经过所述入口期间，所述流动施加压力以移动所述盘，并且由此所述磁体移动至定位在不会被所述传感器检测的位置。...

【技术特征摘要】
2015.04.21 US 62/150,827;2015.04.21 US 29/524,583;1.一种紫外光源组件，用于利用紫外光线处理流体，其特征在于，包括：管状壳体，所述管状壳体限定具有处理区域的内部腔室、入口和出口，从而进入所述入口的流体经过所述处理区域；安装支架，所述安装支架联接至所述管状壳体，所述安装支架限定至少一个狭槽和中空部；紫外源，所述紫外源安装在所述内部腔室中，用于将紫外光线供应至所述处理区域，所述紫外源包括：至少一个凸耳，所述凸耳扭转-锁定在所述狭槽中；连接器，当被锁定以通过电缆连接至镇流器控制器时，所述连接器与所述中空部对齐；和RFID标记；RFID天线，所述RFID天线设置于所述安装支架上，从而当被锁定时，所述RFID天线与所述RFID标记交互以发出第一信号，所述第一信号指示所述紫外源的位置；和流动开关，所述流动开关发送第二信号，所述第二信号指示所述内部腔室的流体流动；所述流动开关包括：引导部，所述引导部固定在所述入口；轴，所述轴可滑动地安装至所述引导部；盘，所述盘在所述轴的第一端上，从而抵抗所述盘的流动使所述轴移动；卡环，所述卡环联结至所述轴的第二端，用于将所述轴保持在所述引导部内；弹簧，所述弹簧安装在所述卡环和所述引导部之间，以朝向闭合位置偏压所述轴；磁体，所述磁体联接至所述轴以随着所述轴运动；和传感器，所述传感器安装到所述壳体，用于基于所述磁体与所述传感器的接近产生第三信号；其中，在很少或者没有流体流动经过所述入口期间，所述弹簧偏压所述轴，从而所述磁体定位在被所述传感器检测的位置，并且在有流体流动经过所述入口期间，所述流动施加压力以移动所述盘，并且由此所述磁体移动至定位在不会被所述传感器检测的位置。2.如权利要求1所述的紫外光源组件，其特征在于，进一步包括镇流器控制器，所述镇流器控制器用于接收和处理所述第一信号、所述第二信号和所述第三信号，其中所述镇流器控制器基于所述第一信号、所述第二信号和所述第三信号向所述紫外源供电。3.如权利要求2所述的紫外光源组件，其特征在于，所述镇流器控制器接收指示流速的信号并且基于所述流速调整所述紫外源的输出。4.如权利要求2所述的紫外光源组件，其特征在于，所述镇流器控制器记录所述紫外源的至少一个操作统计信息以确定何时更换所述紫外源。5.如权利要求4所述的紫外光源组件，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔·撒切斯，克雷格·A·施密特，
申请(专利权)人：瓦茨沃特科技公司，
类型：新型
国别省市：美国;US