铁氧体表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺制造技术

本发明专利技术公开一种Ｍｎ－Ｚｎ铁氧体表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺，其特征是它包括如下步骤：（一）配制含有５～１０％的ＮａＯＨ、０．０１～２％的焦磷酸钠、０．０２～０．２％的ＯＰ－１０乳化剂水溶液，将铁氧体浸于其中，以超声波振荡；（二）接着将铁氧体浸于去离子水中超声波清洗；（三）更换料缸，将铁氧体浸于另一清洗槽内超声波清洗，完成前处理工艺。本发明专利技术的前处理工艺较为简单，使聚对二甲苯的涂敷无需使用价格昂贵的设备，并且涂敷Ｐａｒｙｌｅｎｅ效果好，成本低，经济实用。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及软磁表面涂层工艺，尤指一种Mn-Zn铁氧体表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺。已知铁氧体作为一种软磁材料被广泛应用在信息产业、汽车工业中使用的电子元件、器件上，如大量网卡、线路板用软磁芯，此类磁芯的特点是极小的外形尺寸，因而以原有喷涂或浸涂的方法不适用，主要缺点是边缘处涂层不均匀，难以涂覆，涂层厚度太厚，使绕线空间极为有限。聚对二甲苯(Poly-para-xylylene，通称Parylene)是目前具有实用价值的高分子材料中，唯一可通过气相沉积(CVD)工艺制备的一种高性能材料。实际使用中主要包括三种结构(N型、C型、D型)。最基本的结构称作Parylene N，即聚对二甲苯，其结构式如下 Parylene C为一氯代聚对二甲苯，由相同的单体构成，只是将其中一个芳香烃氢原子用一个氯原子所取代，结构式如下 Parylene N是一种完全线性的高度结晶结构材料，它是一种很好的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数，它是所有Parylene中穿透能力最高的一种。Parylene C将良好的电性能、物理性能结合在一起，并且对于水分和其它腐蚀性气体具有极低的渗透性，并可以提供真正的无针孔的覆形保护。因此Parylene C是涂敷的首选材料，如应用在涂敷于印刷电路板上，使电路板不受潮湿和腐蚀性环境的侵袭，涂敷于医疗器件上使器件具有生物稳定，同时不改变或很小改变相应特性，并且使器件与身体间形成电气和化学的隔离。事实上已经发现Parylene作为涂敷层可以广泛应用于工业、航空、化学、汽车、消费、医药和国防领域中。以Parylene作为微型Mn-Zn铁氧体的新型绝缘涂层具有很好的发展空间及广泛的应用。但是以已知的气相沉积方法涂覆Parylene，因铁氧体表面附着有磁粉微粒，所以对Parylene的结合力较差，难以有效保证覆膜质量，使用目前国外较佳的常用工艺等离子体技术，亦存在着工艺较为复杂，且设备昂贵的缺点。本专利技术的目的是提供一种较为简单的铁氧体表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺，使聚对二甲苯的涂敷无需使用价格昂贵的设备，并且涂敷Parylene效果好，成本低，经济实用，适合我国国情。本专利技术的目的是这样实现的一种铁氧体表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺，其特征是它包括如下步骤a)配制含有5～10％的NaOH、0.01～2％的焦磷酸钠、0.02～0.2％的OP-10乳化剂水溶液，将铁氧体浸于其中，以超声波振荡；b)接着将铁氧体浸于去离子水中超声波清洗；c)更换料缸，将铁氧体浸于另一去离子水清洗槽内超声波清洗，完成前处理工艺。其中步骤(一)中是以超声波振荡至少10分钟；步骤(二)中是以超声波振荡清洗至少15分钟步骤(三)中换缸后是以超声波振荡清洗至少15分钟。本专利技术的前处理工艺中，通过步骤(一)利用乳化剂可将铁氧体表面的微磁粉包裹，并接着通过步骤(二)、(三)的换缸方式和二道全新去离子水超声波振荡彻底地洗掉被包裹的微磁粉，达到铁氧体表面的光洁无微尘，进而在涂覆Parylene时可大大增强对Parylene膜的附着力，使经过Parylene气相沉积步骤后的成品符合要求。表一中显示按GB/T 9286-1998测试标准测定的铁氧体经本专利技术工艺作前处理和未经本专利技术工艺作前处理而涂覆Parylene膜的结合力结果。表一 下面例举几个较佳实施例对本专利技术作进一步详细说明。<实施例一>以用于滤波器的铁氧体为例，在其表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺包括如下步骤a)配制含有5％的NaOH、0.01％的焦磷酸钠、0.2％的OP-10乳化剂水溶液，将铁氧体浸于其中，以超声波振荡10分钟；b)接着将铁氧体浸于去离子水中超声波清洗15分钟；c)换缸，将铁氧体浸于另一去离子水缸槽内超声波清洗15分钟，完成前处理工艺。经上述前处理工艺后即在室温条件下对表面进行Parylene绝缘涂层的涂覆，对经过Parylene气相沉积步骤后的成品进行检测，磁体表面平整光滑，光洁度大为提高，颜色由灰黑变为黑色。按GB/T 9286-1998测试标准测定的铁氧体经本专利技术工艺作前处理后涂覆Parylene膜的结合力结果表明涂层结合力达到最高的0级。<实施例二>以用于传真机的铁氧体为例，在其表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺包括如下步骤a)配制含有10％的NaOH、1％的焦磷酸钠、0.2重量％的OP-10乳化剂水溶液，将铁氧体浸于其中，以超声波振荡10分钟；b)接着将铁氧体浸于去离子水中超声波清洗15分钟；c)换缸，将铁氧体浸于另一去离子水缸槽内超声波清洗15分钟，完成前处理工艺。经上述前处理工艺后即可在室温条件下对表面进行Parylene绝缘涂层涂覆，对经过Parylene气相沉积步骤后的成品进行检测，磁体表面平整光滑，光洁度大为提高，颜色由灰黑变为黑色。按GB/T 9286-1998测试标准测定的铁氧体经本专利技术工艺作前处理后涂覆Parylene膜的结合力结果表明涂层结合力达到最高的0级。<实施例三>以用于音叉线圈的铁氧体为例，在其表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺包括如下步骤a)配制含有7％的NaOH、2％的焦磷酸钠、0.02重量％的OP-10乳化剂水溶液，将铁氧体浸于其中，以超声波振荡10分钟；b)接着将铁氧体浸于去离子水中超声波清洗15分钟；c)换缸，将铁氧体浸于另一去离子水缸槽内超声波清洗15分钟，完成前处理工艺。经上述前处理工艺后即可在室温条件下对表面进行Parylene涂层涂覆，对经过Parylene气相沉积步骤后的成品进行检测，磁体表面平整光滑，光洁度大为提高，颜色由灰黑变为黑色。按GB/T 9286-1998测试标准测定的铁氧体经本专利技术工艺作前处理后涂覆Parylene膜的结合力结果表明涂层结合力达到最高的0级。权利要求1.一种铁氧体表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺，其特征是它包括如下步骤a)配制含有5～10％的NaOH、0.01～2％的焦磷酸钠、0.02～0.2％的OP-10乳化剂水溶液，将铁氧体浸于其中，以超声波振荡；b)接着将铁氧体浸于去离子水中超声波清洗；c)更换料缸，将铁氧体浸于另一装有去离子水的清洗槽内超声波清洗，完成前处理工艺。2.根据权利要求1所述的前处理工艺，其特征是步骤(一)中是以超声波振荡至少10分钟；步骤(二)中是以超声波振荡清洗至少15分钟；步骤(三)中换缸后是以超声波振荡清洗至少15分钟。全文摘要本专利技术公开一种Mn－Zn铁氧体表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺,其特征是它包括如下步骤:(一)配制含有5～10%的NaOH、0.01～2%的焦磷酸钠、0.02～0.2%的OP－10乳化剂水溶液,将铁氧体浸于其中,以超声波振荡;(二)接着将铁氧体浸于去离子水中超声波清洗;(三)更换料缸,将铁氧体浸于另一清洗槽内超声波清洗,完成前处理工艺。本专利技术的前处理工艺较为简单,使聚对二甲苯的涂敷无需使用价格昂贵的设备,并且涂敷Parylene效果好,成本低,经济实用。文档编号C04B41/82GK1299793SQ0110089公开日2001年6月20日 申请日期2001年1月22本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铁氧体表面聚对二甲苯绝缘涂层制备前处理工艺，其特征是它包括如下步骤：ａ）配制含有５～１０％的ＮａＯＨ、０．０１～２％的焦磷酸钠、０．０２～０．２％的ＯＰ－１０乳化剂水溶液，将铁氧体浸于其中，以超声波振荡；ｂ）接着将铁氧体浸于去离子水中超声波清洗；ｃ）更换料缸，将铁氧体浸于另一装有去离子水的清洗槽内超声波清洗，完成前处理工艺。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐志淮，
申请(专利权)人：孙泉，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]