硬涂层、其制造方法及包括硬涂层的显示装置制造方法及图纸

本申请涉及硬涂层、其制造方法及包括硬涂层的显示装置。本申请提供一种硬涂层，包含粘合剂；以及分散在粘合剂中并且包含结合相邻硅氧烷基团的二硫化物基团的硅化合物。

【技术实现步骤摘要】
本申请要求于2015年8月26日在韩国提交的韩国专利申请No.10-2015-0120575的优先权，其在此通过引用并入。
本专利技术涉及显示装置，并且更具体地涉及具有自愈特性(性能)的硬涂层以及所述硬涂层的制造方法和包括所述硬涂层的显示装置。
技术介绍
随着社会已真正进入信息时代，需要用于显示图像的各种显示装置。平板显示装置例如LCD装置、等离子体显示面板(PDP)和有机发光二极管(OLED)显示装置相对于阴极射线管(CRT)装置往往具有以下优异能力：轮廓薄、重量轻、功耗低等。这种装置已得到广泛研究和开发以替代CRT显示装置。最近，便携式显示装置例如移动电话得到广泛使用，使得在薄轮廓和轻重量方面的要求增加。因此，提出了无覆盖玻璃的显示装置。然而，在无覆盖玻璃但具有触摸单元的显示装置的显示表面上发生通过触摸操作的损伤例如刮痕。为了防止显示装置的损伤，在显示装置的最外层形成硬涂层。然而，在长时间操作下，在显示装置的显示表面上仍会发生损伤。即，硬涂层在初始操作阶段防止损伤，然而由于长时间操作的应力累积在显示装置中仍会发生损伤。
技术实现思路
因此，本专利技术的实施方案涉及硬涂层、所述硬涂层的制造方法以及包括所述硬涂层的显示装置，其显著地消除了由相关技术的限制和缺点引起的一个或更多个问题。本专利技术的另外特征和优点将在下文的说明书中进行阐述，并且将由说明书部分地显见或者可通过实施本专利技术而知悉。本专利技术的目的和其他优势将通过说明书及其权利要求书以及附图中具体指出的结构来实现和获得。为了实现这些及其他优点并且根据本专利技术的目的，如本文中所体现并广泛描述的，硬涂层包含粘合剂；以及分散在所述粘合剂中并且包含结合相邻硅氧烷基团的二硫化物基团的硅化合物。在另一个方面，显示装置包括硬涂层，所述硬涂层包含粘合剂和分散在所述粘合剂中的硅化合物，所述硅化合物包含结合相邻硅氧烷基团的二硫化物基团；以及在所述硬涂层的一侧的显示器件。在另一个方面，制造硬涂层的方法包括在基底上涂覆包含硅化合物、光反应性化合物、光引发剂和溶剂的混合物以形成硬涂覆材料层，其中所述硅化合物包含结合相邻硅氧烷基团的二硫化物基团；以及向所述硬涂覆材料层照射UV。应理解，前面的一般性描述和下文的详细描述均是示例性和说明性的，并且旨在进一步说明所要求保护的专利技术。附图说明本申请包括附图以提供本专利技术的进一步理解，附图并入在本说明书中且构成本说明书的一部分，附图示出本专利技术的一些实施方案并且与说明书一起用于解释本专利技术实施方案的原理。图1是根据本专利技术的显示装置的示意性截面图。图2A和2B分别是显示面板的示意性截面图。图3是示出根据本专利技术的硬涂层的自愈机理的视图。图4A至4C是显示硅化合物的颗粒尺寸分布的图。图5是显示硬涂层中的二硫化物基团的图。图6是显示硬涂层的抗刮擦特性的图。具体实施方式现在将详细参照示例性实施方案，其实例在附图中示出。图1是根据本专利技术的显示装置的示意性截面图。参照图1，根据本专利技术的显示装置100包括显示面板110和在显示面板110一侧的硬涂层120。即，硬涂层120面向显示面板110的显示表面并且形成显示装置100的最外层。硬涂层120包含硅化合物(即硅化物)。硅化合物包含用于自愈特性的二硫化物基团(-S-S-)和硅氧烷基团(-Si-O-Si-)。两个硅氧烷基团结合在二硫化物基团的两侧，使得二硫化物基团得以保护。换言之，相邻硅氧烷基团通过二硫化物基团结合或连接。当通过操作向显示装置100施加应力时，硬涂层120中的二硫化物基团解离使得在硬涂层120中产生缺陷。该缺陷生长使得出现表面损伤。然而，在本专利技术的硬涂层120中，由于通过光使得由解离部分重新生成二硫化物基团，所以缺陷得以愈合使得防止硬涂层120上的损伤。利用直接光照射，缺陷可直接愈合。另外，由于重复进行二硫化物基团的解离和重新结合，硬涂层120具有半永久性自愈特性。因此，硬涂层120和显示装置100的耐用性得以提高。此外，硅氧烷基团可以是倍半硅氧烷衍生物，使得硬涂层120具有足够的硬度(刚度)。因此，硬涂层120对显示装置100的最外层而言足够。即，设置具有优异硬度特性和自愈特性的硬涂层120使得防止硬涂层120中的表面损伤。由于使用硬涂层120作为显示装置100的最外层元件，所以提供具有薄轮廓和轻重量且无覆盖玻璃的显示装置100。尽管未示出，但是可在显示面板110和硬涂层120之间设置触摸面板。图2A和2B分别是显示面板的示意性截面图。如图2A中所示，显示面板110可以是发光二极管面板。即，显示面板110可包括基板140、在基板140上或上方的薄膜晶体管(TFT)Tr、设置在基板140上方并且与TFTTr连接的发光二极管D和封装膜180，所述封装膜180覆盖发光二极管D。基板140可以是玻璃基板或柔性基板。柔性基板可由金属或塑料形成。例如，柔性基板可以是聚酰亚胺基板。柔性基板不适于显示面板110的元件如TFTTr的制造工艺。因此，使用连接于柔性基板22的下表面的载体基板(未示出)，在柔性基板上形成诸如TFT的元件并且释放载体基板以获得柔性显示面板110。在柔性基板140上形成缓冲层142，并且在缓冲层142上形成TFTTr。缓冲层142可由无机绝缘材料例如硅氧化物或硅氮化物形成。缓冲层142可省略。在缓冲层上形成半导体层144。半导体层144可包含氧化物半导体材料或多晶硅。当半导体层144包含氧化物半导体材料时，可在半导体层144下形成光屏蔽图案(未示出)。至半导体层144的光被光屏蔽图案屏蔽或阻挡，使得可防止半导体层144的热降解。另一方面，当半导体层144包含多晶硅时，可将杂质掺杂到半导体层144的两侧中。在半导体层144上形成栅极绝缘层146。栅极绝缘层146可由无机绝缘材料例如硅氧化物或硅氮化物形成。在栅极绝缘层146上对应于半导体层144的中心形成由导电材料例如金属形成的栅电极150。在图2A中，栅极绝缘层146形成在基板140的整个表面上。或者，栅极绝缘层146可被图案化成与栅电极150具有相同的形状。在包括栅电极150的基板140的整个表面上形成由绝缘材料形成的层间绝缘层152。层间绝缘层152可由无机绝缘材料如硅氧化物或硅氮化物或有机绝缘材料如苯并环丁烯或光学丙烯酸类物质(photo-acryl)形成。层间绝缘层152包括使半导体层144的两侧暴露的第一和第二接触孔154和156。第一和第二接触孔154和156位于栅电极150的两侧以与栅电极150间隔开。在图2A中，第一和第二接触孔154和156延伸到栅极绝缘层146中。或者，当将栅极绝缘层146图案化成与栅电极150具有相同的形状时，栅极绝缘层146中可不存在第一和第二接触孔154和156。在层间绝缘层152上形成由导电材料例如金属形成的源电极160和漏电极162。源电极160和漏电极162相对于栅电极150彼此间隔开并且分别通过第一和第二接触孔154和156接触半导体层144的两侧。半导体层144、栅电极150、源电极160和漏电极162构成TFTTr，并且TFTTr充当驱动元件。在图2A中，栅电极150、源电极160和漏电极162位于半导体层144的上方，即TFTTr具有共面结构。或者，在TFTTr中，栅电极可位于半导体层之下并且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硬涂层，包含：粘合剂；和分散在所述粘合剂中并且包含结合相邻硅氧烷基团的二硫化物基团的硅化合物。

【技术特征摘要】
2015.08.26 KR 10-2015-01205751.一种硬涂层，包含：粘合剂；和分散在所述粘合剂中并且包含结合相邻硅氧烷基团的二硫化物基团的硅化合物。2.根据权利要求1所述的硬涂层，其中所述硅氧烷基团是倍半硅氧烷衍生物。3.根据权利要求2所述的硬涂层，其中所述硅化合物由下式表示：所述式中的SSQ是所述倍半硅氧烷衍生物，以及其中所述式中的R选自芳族基团和并且R2是C1-C20烷基。4.一种显示装置，包括：硬涂层，所述硬涂层包含粘合剂和分散在所述粘合剂中的硅化合物，所述硅化合物包含结合相邻硅氧烷基团的二硫化物基团；以及在所述硬涂层的一侧的显示面板。5.根据权利要求4所述的显示装置，其中所述硅氧烷基团是倍半硅氧烷衍生物。6.根据权利要求5所述的显示装置，其中所述硅化合物由下式表示：所述式中的SS...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴宰贤，金玮镕，田昌雨，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR