隐形眼镜清洗仪制造技术

本实用新型专利技术涉及一种隐形眼镜清洗装置，尤其涉及一种隐形眼镜清洗仪；包括清洗仪主体、设置于清洗仪主体上的清洗槽和清洗机构，清洗机构包括电源、电路板和电极组，电极组包括多组相配合的正电极和负电极，电极组、电路板与电源电连接；清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽，左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极；本实用新型专利技术的隐形眼镜清洗仪，清洗效率较高。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种隐形眼镜清洗装置，尤其涉及一种隐形眼镜清洗仪。
技术介绍
有相当多近视的人们，为了美观或行动方便，选择使用隐形眼镜。然而，隐形眼镜长期使用后会造成蛋白沉积，使镜片失去透氧性能，配戴后会造成眼角膜的损伤，因此，当隐形眼镜配戴一定时间后，必须加以清洗，以供再次使用。目前隐形眼镜最常使用的清洗方式，是将隐形眼镜的镜片分别放入隐形眼镜清洗盒的两个容器内，分别注入清洁药水，再以手指揉搓，以清除隐形眼镜镜片上的灰尘、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物，维持镜片的透氧率。然而，上述清洗方式容易因手指的不洁而无法达到良好的效果，且在清洁的过程中，相当耗费时间。目前市面上还存在一些隐形眼镜清洗装置，采用超声波、加热型电磁搅拌器、紫外线或臭氧等方式，然而：1)清洗隐形眼镜的超声波频率需高达100KHz以上，镜片易受物理破坏，且对电路与频率之间的匹配性要求较高，生产成本也较高；2)加热型电磁搅拌器利用电磁原理加热搅拌，添加清洁剂使该镜片的粘着物分离，加热温度高有误触烫伤及损伤镜片的可能性；3)紫外线对细菌有强大的杀伤力，臭氧则是一种良好的氧化剂及消毒剂，但无法完全去除附着在镜片上的粘着物。如图1所示，中国专利公布号为CN105759461A的专利技术专利以及授权公告号为CN204964930U的技术专利，公开了一种隐形眼镜还原仪，包括底座1、中座2、盖体3以及清洁机构，中座2闭合在底座1的上方并与底座围成电子元件室，盖体3闭合在中座2的上方并与中座围成眼镜室；中座2的顶面设置有两个用于放置隐形眼镜且相互连通的容置槽4，容置槽4上扣合有密封盖；清洁机构包括电源、电路板、导电片以及电极5；电路板设置于电子元件室内，并与电源电连接；导电片为两个、均设置于电子元件室内，并且其中一端均与电路板电连接；电极5为两个、分别贯穿设置于两个容置槽4的底部、并与容置槽底部相互密封连接，电极的顶端均外露于容置槽内、底端均外露于电子元件室，电极5的底端与导电片的另一端电连接。然而这种隐形眼镜还原仪，由于电极距离较远，存在清洗效率较低的问题。同时左右清洗槽由于是连通的，因此容易导致左右隐形眼镜的病毒交叉感染。有鉴于上述的缺陷，本设计人，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的隐形眼镜清洗仪，使其更具有产业上的利用价值。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术的目的是提供一种清洗效率较高的隐形眼镜清洗仪。本技术的隐形眼镜清洗仪，包括清洗仪主体、设置于清洗仪主体上的清洗槽和清洗机构，所述清洗机构包括电源、电路板和电极组，所述电极组包括多组相配合的正电极和负电极，所述电极组、电路板与电源电连接；所述清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽，所述左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极。进一步的，所述左清洗槽和右清洗槽内的前侧和后侧均相对设置有一组正电极和负电极。进一步的，所述左清洗槽和右清洗槽之间相互分离设置。进一步的，所述左清洗槽和右清洗槽上分别设置有左密封盖和右密封盖。进一步的，所述左清洗槽和右清洗槽的左侧和右侧分别均相对设置有一组正电极和负电极。进一步的，所述左清洗槽和右清洗槽之间相互连通设置。进一步的，所述清洗槽上扣合有密封盖。进一步的，所述密封盖包括底盖和顶盖，所述底盖扣合在所述清洗槽上，所述底盖顶面设置有隐形眼镜容置槽，所述顶盖密封在所述隐形眼镜容置槽上。进一步的，所述隐形眼镜容置槽包括左容置槽和右容置槽，所述顶盖包括左顶盖和右顶盖，所述左顶盖和右顶盖分别密封在所述左容置槽和右容置槽上。进一步的，所述正电极和负电极为柱状、片状或块状。进一步的，所述清洗机构还包括振动器，所述振动器设置于清洗仪主体上或清洗槽内侧。进一步的，所述清洗机构还包括导电片，所述导电片的一端与电路板电连接、另一端与电极组电连接。进一步的，所述清洗机构还包括转接座，所述转接座的底端固定设置在电路板上，所述转接座的顶端与电极组电连接。借由上述方案，本技术至少具有以下优点：(1)提高清洗效率，可以缩短电极间的相对距离，使一组电极间仅放置一片隐形眼镜，避免多个隐形眼镜镜片在电极间的电泳通道上；(2)分离独立设置的清洗槽可以避免两片隐形眼镜上潜在可能的病毒交叉感染，更有利于眼睛健康；(3)避免了清洗槽形状对清洗效率的影响，可以有效提高隐形眼镜的清洗效率。(4)分离设计的左右清洗槽有利于降低密封盖的设计难度，对材料要求不高。上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。附图说明图1是现有技术的隐形眼镜清洗仪的结构示意图；图2是本技术第一种实施方式的俯视图；图3是本技术第二种实施方式的俯视图；图4是本技术第三种实施方式的俯视图；图5是本技术第四种实施方式的俯视图；图6是本技术第五种实施方式的俯视图。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。参见图2，本技术一较佳实施例的一种隐形眼镜清洗仪，包括清洗仪主体10、设置于清洗仪主体10上的清洗槽11和清洗机构，清洗机构包括电源、电路板和电极组，电极组包括多组相配合的正电极12和负电极13，电极组、电路板与电源电连接；清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽，左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极。应当说明的是，本技术的工作原理与中国专利公布号为CN105759461A的专利技术专利以及授权公告号为CN204964930U的技术专利基本相同，不同点在于电极的布置，由于设置有多个电极，且分别设置于左清洗槽和右清洗槽中，可以缩短电极间的相对距离，使一组电极间仅放置一片隐形眼镜，避免多个隐形眼镜镜片在电极间的电泳通道上，同时也避免了清洗槽形状对清洗效率的影响，可以有效提高隐形眼镜的清洗效率。应当说明的是，左清洗槽和右清洗槽内设置多组正电极和负电极，清洗效果的确会进一步提高，然而其本质上并没有改变隐形眼镜所处的电泳通道，同时出于成本考虑，如图2所示，左清洗槽和右清洗槽内的前侧和后侧均相对设置有一组正电极和负电极即可，另外，图2中，正电极虽然位于清洗槽的后侧，但并不表明正电极和负电极的相对位置限定为正电极和负电极分别位于清洗槽的后侧和前侧，实际也可反向设置。应当说明的是，如图2所示，左清洗槽和右清洗槽之间可以相互分离设置，这样两个隐形眼镜分别单独清洗，有效防止佩戴者某一眼睛存在炎症等病原体的情况下，导致的隐形眼镜镜片的交叉污染，进而导致隐形眼镜佩戴者双眼交叉感染的情况。相应的，左清洗槽和右清洗槽上分别设置有左密封盖和右密封盖，左密封盖和右密封盖可以通过螺纹安装在清洗槽上。另外，既然左清洗槽和右清洗槽相互分离设置，那么正电极和负电极也并不局限于前侧和后侧的布置方式，可以如图3所示，左清洗槽和右清洗槽的左侧和右侧分别均相对设置有一组正电极12和负电极13。应当说明的是，如图4所示，左清洗槽和右清洗槽之间也可相互连通设置，这样，使用时清洗液的注入，清洗槽的清洗均较为方便，不会出现两个清洗槽液面高低不同，清洗效果有差异的情况。相应的，清洗槽上还扣合有密封盖。应当说明的是，若左清洗槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种隐形眼镜清洗仪，其特征在于：包括清洗仪主体、设置于清洗仪主体上的清洗槽和清洗机构，所述清洗机构包括电源、电路板和电极组，所述电极组包括多组相配合的正电极和负电极，所述电极组、电路板与电源电连接；所述清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽，所述左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极。

【技术特征摘要】
1.一种隐形眼镜清洗仪，其特征在于：包括清洗仪主体、设置于清洗仪主体上的清洗槽和清洗机构，所述清洗机构包括电源、电路板和电极组，所述电极组包括多组相配合的正电极和负电极，所述电极组、电路板与电源电连接；所述清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽，所述左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极。2.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪，其特征在于：所述左清洗槽和右清洗槽内的前侧和后侧均相对设置有一组正电极和负电极。3.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪，其特征在于：所述左清洗槽和右清洗槽之间相互分离设置。4.根据权利要求3所述的隐形眼镜清洗仪，其特征在于：所述左清洗槽和右清洗槽上分别设置有左密封盖和右密封盖。5.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙碧霞，
申请(专利权)人：苏州三个臭皮匠生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32