【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种日晕光度测量装置,具体的说,涉及一种侧面遮拦式日晕光度计。
技术介绍
日晕光度计主要用于日冕仪选址,通过测量天空散射的亮度来确定是否满足日冕仪观测的需求。目前国际上使用的日晕光度计主要有两种,一种是1948年JohnW.Evans专利技术的EvansSkyPhotometer(ESP),一种是2004年HaoshengLin等人在夏威夷放置的SkyBrightnessMonitor(SBM)。中科院云南天文台于2011年制造的日晕光度计就是仿照SBM制造的一个日晕光度计,但通过一些改进及使用更先进的CCD,使其时间分辨率大大提高。ESP和SBM被放置于多个太阳观测站进行长年的日晕光度测量,而云南天文台的日晕光度计被用于大理、轿子雪山等地的日晕测量。ESP类型的日晕光度计(见文章EvansJ.W.1948,J.Opt.Soc.Am.,38,1083)主要为通过类似于外掩式日冕仪的结构,同时利用光楔式渐变衰减片衰减太阳直射光,通过观察衰减后的太阳直射光和消除衍射光后的天空亮度相同时,通过光楔式衰减片的衰减级次得到天空亮度的参数。这种结构的日晕光度计 ...
【技术保护点】
一种侧面遮拦式日晕光度计,其特征在于:该光度计从左至右依次包括外挡板、外窗口(4)、上消杂光光阑、下消杂光光阑(8)、中部光阑(9)、第二衰减片(10)、孔径光阑、物镜(11)、滤光轮(12)和CCD相机(13);外挡板垂向设置于该光度计的左部,外挡板高度小于外窗口高度,外挡板中部安装第一衰减片,第一衰减片、第二衰减片(10)、孔径光阑、物镜(11)、CCD相机(13)位于同一轴线上;太阳直射光(14)经第一衰减片并经第二衰减片(10)进入光学系统成像在CCD相机(13)像面上;天空亮度经第二衰减片(10)成像在CCD相机(13)像面上。
【技术特征摘要】
1.一种侧面遮拦式日晕光度计,其特征在于:该光度计从左至右依次包括外挡板、外窗口(4)、上消杂光光阑、下消杂光光阑(8)、中部光阑(9)、第二衰减片(10)、孔径光阑、物镜(11)、滤光轮(12)和CCD相机(13);外挡板垂向设置于该光度计的左部,外挡板高度小于外窗口高度,外挡板中部安装第一衰减片,第一衰减片、第二衰减片(10)、孔径光阑、物镜(11)、CCD相机(13)位于同一轴线上;太阳直射光(14)经第一衰减片并经第二衰减片(10)进入光学系统成像在CCD相机(13)像面上;天空亮度经第二衰减片(10)成像在CCD相机(13)像面上。2.根据权利要求1所述的侧面遮拦式日晕光度计,其特征在于:该光度计整体呈矩形结构,矩形结构左端为开敞的外窗口(4),太阳直射光(14)从外窗口(2)左侧水平射入光学系统。3.根据权利要求1所述的侧面遮拦式日晕光度计,其特征在于:所述外挡板共有3块,分别为外挡板一(1)、外挡板二(2)和外挡板三(3),3块外挡板尺寸一致,且3块外挡板从左至右依次排布;外挡板一(1)设置于外窗口(4)处,外挡板一(1)中部安装第一衰减片、外挡板二(2)中部安装第二通光孔、外挡板三(3)中部安装第三通光孔,且第一衰减片、第二通光孔和第三通光孔位于同一水平线上,第一衰减片的衰减量级为10-4。4.根据权利要求2所述的侧面遮拦式日晕光度计,其特征在于:所述上消杂光光阑采用矩形板结构,上消杂光光阑的上端与矩形结构的上顶内壁连接,上消杂光光阑的下端呈悬空状态,上消杂光光...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙明哲,张红鑫,夏利东,刘维新,卜和阳,
申请(专利权)人:山东大学,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市:山东;37
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。