点接式低辐射镀膜中空玻璃的生产工艺制造技术

技术编号:1467375 阅读:179 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术采用切割机定位加工工艺和英特玛克加工中心定位加工工艺相结合的定位方法,对玻璃进行切割、磨边、钻孔,在玻璃进行磁控溅射镀膜工艺中采用专用器具去除玻璃孔口边的膜层,在密封工艺中,采用密封衬圈丁基胶自动涂胶工艺和点接孔注胶头器具涂胶密封,在合片工艺中,采用同心度检测模、密封圈定位器和内衬圈定位固定器专用器具定位。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

Production process of point connection type low radiation coating hollow glass

The invention adopts the positioning method of machine positioning processing and machining center positioning Intermac processing cutting combination, cutting, grinding, drilling of the glass in the glass by magnetron sputtering using special tool for removing the coating glass hole edge, in the sealing process, the sealing ring of butyl rubber automatic coating process and grounding hole injection head apparatus in glue seal process, the concentricity detection module, sealing apparatus positioning special circle locator and lining ring positioning and fixing device.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种点接式低辐射镀膜中空玻璃的生产工艺,属建筑材料领域。点接式玻璃幕墙是九十年代初由英国皮尔金顿建筑公司率先投入设计使用的一种新型全玻璃幕墙。与常见的玻璃幕墙相比较,这种结构十分独特。点接式建筑玻璃幕墙是在玻璃板的四角或其它部位钻2-8个孔以后,通过固定在孔中的金属接驳器与支承体系相连接的一种无框架全玻璃幕墙结构。点接式玻璃幕墙结构以新颖的点接式支撑结构,代替了传统玻璃幕墙的四边支撑或两边支撑结构。幕墙玻璃在受到荷载后,通过埋在玻璃孔中的金属接驳件传递到主体支撑结构上。由于没有金属框架的遮挡,点接式玻璃幕墙结构利用玻璃优良的光学特性,使整个建筑物结构玲珑剔透、浑然一体,可以充分展现现代化建筑的美感。点接式玻璃幕墙采用在四角或其它部位打孔的玻璃深加工制品,称为点接式幕墙玻璃。中空玻璃是一种玻璃深加工产品,由两片或多片透明玻璃或镀膜玻璃进行合片加工而成。其玻璃单片之间夹有填充了干燥剂的铝合金隔框,铝合金隔框与玻璃单片间用丁基胶粘结密封后再用聚硫胶或结构胶密封。因为空气的热传导率非常低,只有普通玻璃的1/27,干燥的空气被密封在两层玻璃单片之间,所以中空玻璃能有效地直接隔断热量传导流失,从而达到节能、防结露等效果。Low-E(低辐射镀膜,下同)玻璃是另一种玻璃深加工产品,又称低辐射玻璃。Low-E玻璃是利用了磁控真空溅射的方法,在玻璃的表面镀金属银层,使玻璃辐射率从0.84降到0.04~0.12。同时Low-E玻璃具有较好的光谱选择性,在大量通过可见光的基础上,能阻挡相当部分红外线进入室内,特别是远红外线几乎完全被其反射回去而不透过玻璃,即保持了室内光线明亮,又在一定程度上减少了室内的热负荷,Low-E玻璃还可以大幅度降低玻璃的紫外线透过率,可防止有机物老化、织物褪色等问题。点接式Low-E中空玻璃结合了Low-E玻璃、中空玻璃和点接式玻璃结构的优点。采用了点接式Low-E中空玻璃的幕墙结构,可以使建筑物既具有最大限度的光通透性和最佳的视觉效果;同时具有良好的隔热保温、防结露和隔声效果,其热阻性能可以比普通中空玻璃提高一倍以上,是一种非常有使用价值的新型节能玻璃,但是这种玻璃的生产工艺存在有下列问题对玻璃的切割、磨边和钻孔精度无法保证,从而影响产品的质量,生产过种中,低辐射镀膜玻璃的孔口去膜不易解决,另外,对中空玻璃涂丁基胶以及孔口注第二道密封胶工艺存在问题。本专利技术目的在于设计一些专用生产器具,解决生产过种中低辐射玻璃孔口去膜工艺,以及对中空玻璃涂丁基胶和孔口注第二道密封胶工艺存在的问题,同时提出保证对玻璃的切割、磨边和定位精度的工艺。本专利技术是这样实现的,采用切割定位和加工中心定位工艺相结合方法,利用切割机以玻璃切割图形的中心线为基准定出孔位,先进行玻璃的切割、磨边,再在定出的孔位上进行钻孔,在玻璃进行磁控溅射镀膜工艺中采用专用器具去除玻璃孔口边的镀膜,在密封工艺中,采用专用器具涂胶密封,在合片工艺中,采用专用器具定位;其中1、切割、磨边、钻孔定位工艺由于点接式中空幕墙玻璃安装的特殊性,其对玻璃加工的尺寸精度要求较高,对切割、磨边、钻孔定位要求更高。原先在单片玻璃钻孔时采用的人工划线定位方法已不能满足点接式玻璃钻孔的进度要求。因此,采用了切割定位和英特玛克加工中心定位工艺相结合的方法。利用切割机定位是以玻璃切割图形的中心线为基准线定出孔位。切割机定位加工流程是原片切割(包括钻孔定位)→采用模板等工具划孔边线→钻孔机钻孔→磨边→清洗机清洗→玻璃钢化和镀膜英特玛克加工中心定位是以相邻的两条边为基准边逐步定出各个孔位。INTERMAC加工中心定位加工流程是原片切割→磨边→清洗机清洗→加工中心定位→钻孔机钻孔→清洗机清洗→玻璃钢化和镀膜。2、去膜工艺在生产Low-E中空玻璃的过程中,通常需要将Low-E玻璃边部的10至15mm宽度的膜层用去膜机清除掉,这主要是为了防止离线低辐射膜的边缘部位被氧化,使Low-E玻璃丧失其节能功效。在点接式Low-E中空玻璃的制作中,除了Low-E玻璃的边部要去膜外,其孔口部位10至15mm宽度的圆周也要去膜,而孔口边的去膜是无法用常规去膜机来完成的。本专利技术采用的孔口去膜工艺关键是根据玻璃孔径的尺寸,专门制作一种尼龙的圆形器具,使玻璃在进行磁控溅射镀膜过程中,孔边10~15mm的宽度内无法生成Low-E薄膜,从而达到自然去膜的目的。3、密封工艺点接式Low-E中空玻璃除了要满足普通中空玻璃的密封要求外,还需对玻璃钻孔处进行密封。点接式Low-E中空玻璃的孔口密封采用双道密封的胶接法工艺。第一道为主密封,用直径为50毫米左右的点接孔密封衬圈,自动涂丁基胶;第二道密封采用自制的点接孔注胶头专用附件,涂硅酮密封及。4、合片工艺点接式Low-E中空玻璃的合片要求非常高,专门设计同心度检验模、密封圈定位器、内衬圈定位固定器等一整套专用工具,确保进入中空线的每对玻璃尺寸和孔位均符合图纸要求,在上片前、合片后快速准确检验孔部同心度;为了确保密封圈与玻璃孔同心,并一次定位成功,不损坏丁基胶,设计制作了密封圈定位器,内衬圈定位固定器是为了保证接驳孔直径符合加工图纸要求,阻止内衬圈位移、防止密封胶粘附在孔内壁而使孔径缩小。在玻点接式Low-E中空玻璃的基本结构与普通Low-E中空玻璃相同透明玻璃(外片)/密封胶/铝合金隔框/密封胶/低辐射膜玻璃(内片)其中,各组成材料品种为内外片玻璃透明或本体着色钢化玻璃、低辐射膜(Low-E)钢化玻璃、夹层钢化或半钢化玻璃、Low-E夹层玻璃等。密封胶第一道密封为热溶性的丁基胶,第二道密封为硅酮结构胶。铝合金隔框可连续弯角的空心铝合金间隔框,框内填充3A分子筛作为干燥剂。夹层玻璃用PVB膜进口杜邦(Du pont)公司或首诺(Solutia)公司聚乙烯醇缩丁醛(PVB)产品。各组成结构的厚度单片玻璃厚度从4mm~19mm,铝合金隔框按厚度分为9mm、12mm、16mm。本专利技术的优点是1,在生产工艺过程中采用一些专用生产器具,解决了低辐射玻璃孔口去膜,并实现中空玻璃密封圈自动涂丁基胶以及孔口注第二道胶密封胶存在的问题;专用器具还确保了夹层和中空玻璃合片的精度,实现了自动化生产点接式低辐射镀膜玻璃的生产,提高了生产效率,保证了产品质量。2、由本专利技术生产的点接式Low-E中空玻璃对室内具有隔热保温、舒适节能、防止结露、降低噪声等功效。经测试,产品的热传导系数U值≤1.7W/m2K,阳光系数g值≤61%,遮阳系数S.C值≤0.70,隔音值STC≥35dB,是一种非常有使用价值的新型节能玻璃。3、点接式Low-E中空玻璃具有优良的光学特性,它以极高的光通透性和最佳的视觉效果,产品的可见光透过率可高达75%。采用内片为夹层玻璃的点接式Low-E中空玻璃可阻挡99%的紫外线进入室内,对保护室内家具装潢避免老化有着积极的作用。本专利技术有如下附图,并对附图作简要说明。附附图说明图1是孔口去膜器,用尼龙材料制成。附图2是密封衬圈丁基胶自动涂胶器,上端的直角弯曲部为不锈钢支架。附图3是接驳孔注胶头,用尼龙制成。附图4是接驳孔同心度检测器模,用尼龙制成。附图5是密封圈定位模,用尼龙制成。附图6是内衬圈定位固定器,用尼龙制成。下面详述本专利技术的实施例。本实施例中的点本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种点接式低辐射镀膜中空玻璃的生产工艺,它是对两片或两片以上透明或本体着色浮法玻璃进行清洗、干燥后,对玻璃进行定位、切割、磨边、钻孔,然后分别进行钢化、夹层、镀膜等操作,最后进行中空合片,制成点接式低辐射镀膜中空玻璃,其工艺流程是:基板 玻璃→切割→磨边→钻孔→清洗/干燥→钢化→均质→镀膜***其特征在于:采用切割定位和加工中心定位工艺相结合方法,利用切割机以玻璃切割图形的中心线为基准定出孔位,先进行玻璃的切割、磨边,再在定出的孔位上进行钻孔;利用加工中心以相邻的两条边 为基准,逐步定出孔位进行钻孔,在玻璃进行磁控溅射镀膜工艺中采用专用器具去除玻璃孔口边的镀膜,在密封工艺中采用专用器具涂胶密封,在合片工艺中采用专用器具定位。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孙大海黄从越谢丽美楼君杨俞德荣孙宾张晓雷
申请(专利权)人:上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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