转移微电子和其它工业生产过程中的超临界流体的方法技术

一种将超临界流体从压力容器中置换出来的方法，其包括以下步骤：　　　　提供密闭压力容器，其中含有超临界流体，所述超临界流体包括二氧化碳；　　　　向所述容器中加入第二流体，其中第二流体添加的压力高于所述超临界流体的压力，第二流体的密度低于所述超临界流体；　　　　在所述超临界流体和第二流体之间形成界面；　　　　在所述第二流体的压力下，将至少部分所述超临界流体从容器中置换出来，同时维持其间的界面。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Method for transferring supercritical fluid in microelectronic and other industrial production processes

A method of supercritical fluid replacement from the pressure vessel, which comprises the following steps: providing a closed pressure vessel, containing supercritical fluid, the supercritical fluid including carbon dioxide; adding second to the fluid in the container, add the second fluid pressure is higher than the supercritical fluid pressure, second the fluid density is lower than that of the supercritical fluid; the interface formed in the super critical fluid and the second fluid; in the second fluid under pressure, at least a portion of the supercritical fluid replacement out of the container, while maintaining the interface.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：J·B·麦克莱恩，J·P·德扬，S·M·格罗斯，M·I·沃纳，
申请(专利权)人：米歇尔技术公司，
类型：发明
国别省市：