【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于精密光学元件的加工领域，特别是一种精密光学元件的超声清洗方法。
技术介绍
超声波清洗原理是利用超声场所产生强大的作用力，促使物质发生一系列物理、化学变化，以及超声波空穴效应产生的机械力作用去除污染物而达到清洗目的。为了保证清洗手段对光学元件有高效的洁净能力又不损坏光学元件，多采用超声波清洗光学元件的方法。超声波清洗工艺已经成为光学零件加工过程中的重要工艺环节。特别是对于光学镀膜元件来说，玻璃基底的清洁程度是影响镀膜产品质量好坏的关键因素之一，确保光学零件在镀膜前的洁净度，降低薄膜内的杂质污染物，提高光学薄膜的抗激光损伤能力至关重要。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种精密光学元件的超声清洗方法，该方法对玻璃基板无损伤，能有效进行光学元件表面清洗的超声清洗工艺。采用40KHz-270KHz的多频超声加温清洗工艺，对光学元件实现高效安全的清洗，清洗效果好，提升了精密光学元件的性能。为实现上述目的，本专利技术的技术解决方案如下：一种精密光学元件的超声清洗方法，该方法依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干的步骤，其特点在于所述的去离子水超声清洗是在40KHz-270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3-5分钟，清洗温度为50-60°。本专利技术的优点在于：采用40KHz-270KHz的多频超声加温清洗工艺，对光学元件实现高效安全的清洗，清洗效果好，提升了精密光学元件的性能。附图说明图1为本专利技术精密光学元件的超声清洗工艺的流程图具体实施方式实施例1本专利技术精密光学元件的超声清洗工艺，包括下列步骤(1)去...
【技术保护点】
一种精密光学元件的超声清洗方法，该方法依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干的步骤，其特征在于所述的去离子水超声清洗是在40KHz‑270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3‑5分钟，清洗温度为50‑60°。
【技术特征摘要】
1.一种精密光学元件的超声清洗方法，该方法依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干的步骤...
【专利技术属性】
技术研发人员：王建国，朱美萍，孙建，易葵，邵建达，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31
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