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一种精密光学元件的超声清洗方法,所述工艺依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干工艺,所述的去离子水超声清洗是在40KHz‑270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3‑5分钟,清洗温度为50‑60°;清...该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。
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一种精密光学元件的超声清洗方法,所述工艺依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干工艺,所述的去离子水超声清洗是在40KHz‑270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3‑5分钟,清洗温度为50‑60°;清...