得到可以充分减少光纤母材中的羟基，而不需要特殊的装置及操作条件的脱水方法和用于此目的的装置。在通过气相合成法制造光纤母材时，通过脱水剂对堆积玻璃微粒子而得到的多孔质纤芯母材进行脱水处理时，通过由渗潮系数为１．０×１０↑［－１１］ｇ.ｃｍ／ｃｍ↑［２］.ｓ.ｃｍＨｇ或更低的材料制成的供给配管及主供给管，将脱水剂供给到脱水装置中，进行脱水处理，而制造光纤母材。
Method and apparatus for manufacturing optical fiber substrate
A dehydration method and a device for reducing the hydroxyl content in the fiber parent material without the need for special devices and operating conditions are obtained. Manufacture of optical fiber preform through gas phase synthesis method, dehydration processing by porous core base material dehydrating agent on the accumulation of glass particle obtained, through a supply pipe by tidal infiltration coefficient is 1 x 10 = - 11, g.cm / cm = 2, made of.S.cmHg or lower material and the main supply pipe, the dehydrating agent is supplied to the dehydration unit, dehydration process, and manufacturing optical fiber preform.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及可以得到降低了在波长为1280～1600nm区域中的因羟基引起的传输损失的光纤的光纤母材的制造方法及其装置。
技术介绍
如果在构成光纤的玻璃中存在羟基，则由于该羟基而在波长1385nm附近出现吸收，它成为光纤的传输损失的一个原因。因此，过去以来，例如在日本特开昭57-17433号公报中所示，在制造光纤母材的过程中，设置脱水工序，来降低光纤母材中所含的羟基。该脱水方法，是将由VAD、OVD法等的气相合成法得到的多孔质玻璃母材装入脱水装置中，在该脱水装置内供给含有Cl2、SOCl2、CCl4等的氯系化合物气体的脱水剂，将光纤母材加热到1000～1300℃左右，除去多孔质玻璃中所吸附的水分。然而，这种过去的脱水方法，有时其脱水效果不充分，要求进行改善。为此，有日本特开平11-171575号公报、日本特开2002-187733号公报所公开的方法等。但是，这些方法需要特殊的设备例如等离子蚀刻装置，或者难以制造大型的光纤母材且操作条件复杂，因而有缺乏实用性的缺点。另外，作为涉及这样的光纤母材的脱水处理的在先专利，除了上述的以外，还有美国专利第613145号、美国专利公开第2002-0073741号等，有很多。
技术实现思路
因而，本专利技术的课题为，得到可以将光纤母材中的羟基降低到足够的水平、且无需特殊的装置及操作条件的光纤母材的制造方法及其装置。为了解决本专利技术的课题，
技术实现思路
如下。专利技术的第1项为，一种光纤母材的制造方法，其特征为，在通过脱水剂对由气相合成法得到的多孔质玻璃母材实施脱水处理时，该脱水处理是利用通过渗潮系数为1.0×10-11g·cm/cm2·s·cmHg(在40℃时的值，下同)或更低的配管来供给的脱水剂而进行的。专利技术的第2项为，根据第1项所述的光纤母材的制造方法，其特征为，将上述渗潮系数为1.0×10-11g·cm/cm2·s·cmHg或更低的配管的周围湿度保持在40％或更低。专利技术的第3项为，根据第1项或第2项所述的光纤母材的制造方法，其特征为，上述脱水剂与露点为-85℃或更低的载气一起被供给。专利技术的第4项为，根据第3项所述的光纤母材的制造方法，其特征为，进一步追加供给露点为-90℃或更低的惰性气体。专利技术的第5项为，根据第1项所述的光纤母材的制造方法，其特征为，上述脱水剂通过的渗潮系数为1.0×10-11g·cm/cm2·s·cmHg或更低的配管的外侧隔出空隙，被用外部配管围绕，在上述空隙中流动有露点为-80℃或更低的气体。专利技术的第6项为，根据第5项所述的光纤母材的制造方法，其特征为，在上述空隙中流动的露点为-80℃或更低的气体为含有空气、氮、氧、二氧化碳、氩、氦中的至少一种气体的气体。专利技术的第7项为，一种光纤母材的装造装置，备有利用脱水剂对由气相合成法得到的多孔质玻璃母材进行脱水处理的脱水装置，该光纤母材的制造装置的特征为，用于向上述脱水装置供给脱水剂的配管，使用渗潮系数为1.0×10-11g·cm/cm2·s·cmHg或更低的配管。专利技术的第8项为，根据第7项所述的光纤母材的制造装置，其特征为，上述渗潮系数为1.0×10-11g·cm/cm2·s·cmHg或更低的配管被配置成，渗潮系数和配管的表面积的乘积保持在1.0×10-8g·cm/s·cmHg或更低。专利技术的第9项为，根据第7项或第8项所述的光纤母材的制造装置，其特征为，上述渗潮系数为1.0×10-11g·cm/cm2·s·cmHg或更低的配管，在其外侧隔出空隙，被用外部配管围绕。专利技术的第10项为，根据第9项所述的光纤母材的制造装置，其特征为，上述外部配管是渗潮系数为1.0×10-10g·cm/cm2·s·cmHg或更低的配管。本专利技术中的渗潮系数，是相对于水蒸气的配管材料，以扩散系数和溶解度系数的乘积所表示的值来定义的。通过本专利技术的光纤母材的制造方法及其装置，由于减少了从外部侵入到向脱水装置供给脱水剂的配管内的水分，因而减少了脱水处理时的气氛中的水分，可以很好地除去多孔质玻璃母材中的水分，脱水效果变得充分，可以得到水分少的多孔质玻璃母材。另外，作为构成装置不使用高价的装置，改良简单的装置即可。进而无需耗费时间的复杂的操作管理。其结果，可降低单模光纤的波长1385nm的因羟基引起的传输损失峰值，例如使在1280nm～1600nm的波长区域具有希望的传输特性的光纤变得稳定，可以容易地制造。附图说明图1为说明光纤母材的制造方法的一个例子的工程系统图。图2为表示本专利技术的烧结脱水装置的一个例子的简要构成图。图3为表示脱水剂的供给配管的另外一个例子的简要构成图。具体实施例方式以下，详细说明本专利技术。作为脱水处理中所使用的脱水剂，使用选自氯(Cl2)、氟(F2)、亚硫酰氯(SOCl2)、四氯化碳(CCl4)等中的化合物，这些脱水剂与含有氦(He)气及氩(Ar)气等的惰性气体的载气相伴使用。这些脱水剂因对金属有腐蚀性，所以作为用于供给这些脱水剂的配管，一般使用采用了合成树脂的配管。然而，由于这些配管是合成树脂制的，所以其渗潮性高于金属，微量的水分从外部侵入到配管内部，并混入到在配管内流动的脱水剂中，由混入有微量水分的脱水剂而进行脱水处理，会降低脱水效果。本专利技术人着眼于上述事实，完成了本专利技术。以下，参照附图对本专利技术的光纤母材的制造方法的实施方式进行说明。图1为说明光纤母材的制造方法的一个例子的工程系统图。在制作光纤母材Z时，首先准备芯棒(コアロツド)Mc，接着在该芯棒Mc的外周面上堆积玻璃微粒子，使其脱水烧结成光纤母材Z，对其说明如下。芯棒Mc的制作首先，在用VAD法的纤芯母材的制作装置1中，在反应容器11中，在能旋转且上牵的籽晶杆12的前端，在芯燃烧器(core burner)13及包层燃烧器(clad burner)14的氢氧炎焰中，例如使四氯化硅(SiCl4)及四氯化锗(GeCl4)等芯棒用玻璃原料Mo反应，并使这些玻璃微粒子堆积而制作多孔质纤芯母材M1。接着，通过脱水烧结装置2对上述多孔质纤芯母材M1进行脱水处理。它是在大约1200℃的温度下，含有0.1～10容量％的氯、亚硫酰氯、四氯化碳等的脱水剂的氩气、氦气等的载气(在此，根据需要可以添加0.1～10容量％的氧)的气氛下，使多孔质纤芯母材M1与脱水剂接触并进行脱水，而减少多孔质纤芯母材M1的内部的羟基。接着，用脱水烧结处理装置2，将上述被脱水处理的多孔质纤芯母材M1在氦气氛(根据需要可以添加氯、氟等)下，约1400℃～1600℃的温度下，进行加热而烧结处理，得到透明玻璃化的纤芯母材M。接着，用延伸装置3，将上述透明玻璃化的纤芯母材M，在惰性气氛下加热到约1800℃～2000℃，而使其延伸、缩径，制作所希望的芯棒Mc。光纤母材Z的制作接下来，将经过上述工序得到的芯棒Mc，紧接着通过光纤母材制作装置4，置于水平(或垂直)并以长径方向的轴为中心使其转动，比如使四氯化硅(SiCl4)等的玻璃原料气体，在沿着芯棒Mc的长径方向移动的燃烧器15的氢氧火焰中进行反应，作为玻璃微粒子Zo，均匀地堆积于上述芯棒Mc的外周面，而制作多孔质光纤母材Z1。接着，用烧结处理装置5，在氦气氛(根据需要可以添加氯、氟等)下，在约1400℃～1600℃的温度下，加热并烧结处理上述多孔质光纤母材Z1，而得到透明玻璃本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光纤母材的制造方法，其特征为，在通过脱水剂对由气相合成法得到的多孔质玻璃母材实施脱水处理时，该脱水处理是利用通过在４０℃时渗潮系数为１．０×１０↑［－１１］ｇ.ｃｍ／ｃｍ↑［２］.ｓ.ｃｍＨｇ或更低的配管而被供给的脱水剂来进行的。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：斋藤学，平船俊一郎，
申请(专利权)人：株式会社藤仓，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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