用于内循环厌氧反应器的三相分离器制造技术

公开了一种用于内循环厌氧反应器的三相分离器，包括：至少一层集气罩和设置在每个集气罩下方的集气管，每层集气罩包括至少一个集气罩；其中，集气罩是倒V字型结构，集气罩沿着长度方向的两端垂直设置在反应器侧壁上；集气管位于倒V字型结构内、并与倒V字型结构的两个斜面平行；集气管的两端封闭，其中一端位于反应器内、另一端垂直穿过反应器侧壁伸出至反应器外；集气管的下侧沿着集气管的长度方向开设一排集气孔。本发明专利技术在集气管的下侧沿着集气管的长度方向开设一排集气孔，通过集气孔收集上升沼气，能够使上升沼气夹带的液体更均匀、并且夹带细微颗粒更少。

Three phase separator for internal circulation anaerobic reactor

A three-phase separator for internal circulation anaerobic reactor comprises at least one layer of gas collecting hood and is arranged in each gas collecting hood below the header, each layer of gas collecting hood comprises at least one gas collecting hood; the gas collecting hood is inverted V shaped structure, the gas collecting hood along the length. To the ends of the reactor is vertically arranged on the side wall; the collector is located in the inverted V - shaped structure, and parallel to the two plane inverted V shape; both ends of the collecting pipe is closed, which is located at one end of the reactor, the other end of the vertical side wall extending through the reactor to the reactor; the lower collector along the length direction of the collector is provided with a row of holes in. The invention is provided with a row of holes in the lower side of the collector set along the length direction of the effuser, set by collecting biogas can make pores increase, rising gas entrained liquid entrainment of fine particles and more uniform and less.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种三相分离器，具体地说是一种用于内循环厌氧反应器的三相分离器。
技术介绍
以下对本专利技术的相关技术背景进行说明，但这些说明并不一定构成本发明的现有技术。三相分离器是UASB、EGSB、IC等厌氧反应器的灵魂所在，三相分离器设计的优劣直接影响到厌氧反应器的效果。内循环厌氧反应器(IC)是在上流式厌氧污泥床反应器(UASB)的基础上发展起来的一种高效厌氧反应器。IC由于内循环及上升流速高等原故，三相分离器的合理设计就尤为重要。通常，IC有两个反应区，第一反应区(即下反应区，也称主反应区)和第二反应区(即上反应区，也称辅反应区)，第一反应区高负荷运行，第二反应区低负荷运行，每个反应区分别设有一级三相分离器。目前，IC广泛采用的三相分离器如图1-3所示。反应产生的沼气带动混合液由集气罩1内集气室3汇集进入汇流槽2，再由汇流槽2收集后从升流管4进入气液分离器。在集气室3中，远离汇流槽2部分，比如接近IC反应器侧壁6的位置处，由于气体流速较低，气液界面水平方向相对静止。集气室中从距汇流槽2最远端开始，气体流动水平方向流速缓慢从零加速，到汇流槽与集气室相通的通道口5时流速最大。由于粘质力和惯性的不同，气体流速达到一定数量时，液体才随之水平流动；液体到达一定速度时，曳力就带动颗粒污泥水平移动。这样就造成距离汇流槽2最远处被气体夹带的液相流量最小，而距离汇流槽2越近被气体夹带的液相流量越大，致使反应器内液相非常不均匀地被带入气液分离器，从而反应器去除率降低；并且距离汇流槽2越近，由于气体流速越大，气体的尾吸和形成的微涡对沉降性较差的污泥和上升气泡8界面吸附的细微颗粒污泥的吸附捕捉作用越强，形成气液固三相界面层7，该界面层有着远比反应器内部更为剧烈的气液湍流分布，致使细微颗粒污泥更加碎散，碎散的污泥随气体被带入气液分离器，碎散污泥又随回流管进入第一反应室，容易使反应器出水混浊。
技术实现思路
本专利技术的目的在于在于针对现有内循环厌氧反应器三相分离器的不足，提供一种使上升气泡夹带的液体更均匀、并且夹带细微颗粒更少的三相分离器。根据本专利技术的用于内循环厌氧反应器的三相分离器，包括：至少一层集气罩和设置在每个集气罩下方的集气管，每层集气罩包括至少一个集气罩；其中，集气罩是倒V字型结构，集气罩沿着其长度方向的两端垂直设置在反应器侧壁上；集气管位于倒V字型结构内、并与倒V字型结构的两个斜面平行；集气管的两端封闭，其中一端位于反应器内、另一端垂直穿过反应器侧壁伸出至反应器外；集气管的下侧沿着集气管的长度方向开设一排集气孔。优选地，所述三相分离器包括至少两层集气罩，相邻两层集气罩之间交错分布；每个集气罩的下方设置一根集气管。优选地，反应器内同一高度的集气管伸出反应器之后合并成一根回流管，同一高度的集气管收集的气体在反应器外的回流管内汇流。优选地，下层集气管中集气孔的孔径大于上层集气管中集气孔的孔径；和/或，下层集气管中相邻两个集气孔之间的间距小于上层集气管中相邻两个集气孔之间的间距；和/或，下层集气管的管径大于上层集气管的管径。优选地，集气管位于集气罩的倒V字型结构的顶部。优选地，每层包括至少两个集气罩和集气管；至少一层集气管按照如下方式分布：任意两根集气管之间相互平行；或，所有集气管呈放射状分布，任意两根集气管之间互不平行；或，至少两根集气管之间相互平行，至少一根集气管与所述至少两根集气管之间呈锐角夹角；或，该层划分成至少两个集气管区，对于每一个集气管区中的集气管：任意两根集气管之间相互平行，或所有集气管呈放射状分布、任意两根集气管之间互不平行，或至少两根集气管之间相互平行、至少一根集气管与该集气管区内的所述至少两根集气管之间呈锐角夹角。优选地，相互平行的两根集气管沿着相同或相反的方向穿过反应器侧壁伸出至反应器外。优选地，位于不同层的两根集气管之间相互平行和/或形成锐角夹角。优选地，所述集气管的一端固定在反应器侧壁上。优选地，所述集气管的横截面为椭圆形、多边形、或者由线段和弧线组成的不规则形状。根据本专利技术的用于内循环厌氧反应器的三相分离器，包括：集气罩和集气管。本专利技术在集气管的下侧沿着集气管的长度方向开设一排集气孔，通过集气孔收集上升沼气，能够使上升沼气夹带的液体更均匀、并且夹带细微颗粒更少。附图说明通过以下参照附图而提供的具体实施方式部分，本专利技术的特征和优点将变得更加容易理解，在附图中：图1是现有技术中用于IC的三相分离器示意图；图2是现有技术中用于IC的三相分离器中集气罩与回流槽的示意图；图3是现有技术中用于IC的三相分离器的原理示意图；图4是根据本专利技术的用于内循环厌氧反应器的三相分离器示意图；图5是根据本专利技术的三相分离器中集气管与反应器侧壁示意图；图6是根据本专利技术的反应器侧壁与位于反应器内的集气管的剖视图；图7a-7f是根据本专利技术优选实施例中集气管的分布方式示意图；图8是图6沿A-A方向的剖视图。具体实施方式下面参照附图对本专利技术的示例性实施方式进行详细描述。对示例性实施方式的描述仅仅是出于示范目的，而绝不是对本专利技术及其应用或用法的限制。根据本专利技术的用于内循环厌氧反应器的三相分离器包括：至少一层集气罩10和设置在每个集气罩10下方的集气管20，每层集气罩包括至少一个集气罩。参见图4和5，集气罩10是倒V字型结构，气泡携带液体和/或污泥在上升过程中碰撞到集气罩10的斜面时，气泡中的沼气与液体和污泥分离，沼气沿着集气罩10的斜面继续上升，脱离了气泡的液体和污泥在重力作用下不断下滑，最终回落到反应器的反应区内。在反应器中，垂直高度越高，对应位置处的气体流量越大，其中携带的液体和/或污泥越少，沼气量也越少。若集气罩10倾斜地固定在反应器侧壁30上，同一集气罩10不同位置收集的气体量不同，并且越靠近下方的位置收集的气体中夹带的液体和污泥的量也有可能越多。为了保证从同一高度处收集气体，本专利技术中将集气罩10沿着集气罩10长度方向的两端垂直设置在反应器侧壁30上。根据本专利技术的三相分离器可以包括一层、两层或多层集气罩，每层集气罩的数量也可以根据反应器的大小、集气罩尺寸以及实际操作要求来确认，例如：当反应器内气量较少时，可以设置1-2层集气罩，反应器容积和气量较大时可以采用3层或更多层集气罩。优选地，当三相分离器包括至少本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于内循环厌氧反应器的三相分离器，其特征在于包括：至少一层集气罩和设置在每个集气罩下方的集气管，每层集气罩包括至少一个集气罩；其中，集气罩是倒V字型结构，集气罩沿着其长度方向的两端垂直设置在反应器侧壁上；集气管位于倒V字型结构内、并与倒V字型结构的两个斜面平行；集气管的两端封闭，其中一端位于反应器内、另一端垂直穿过反应器侧壁伸出至反应器外；集气管的下侧沿着集气管的长度方向开设一排集气孔。

【技术特征摘要】
1.一种用于内循环厌氧反应器的三相分离器，其特征在于包括：至
少一层集气罩和设置在每个集气罩下方的集气管，每层集气罩包括至少一
个集气罩；其中，
集气罩是倒V字型结构，集气罩沿着其长度方向的两端垂直设置在反
应器侧壁上；
集气管位于倒V字型结构内、并与倒V字型结构的两个斜面平行；
集气管的两端封闭，其中一端位于反应器内、另一端垂直穿过反应器侧壁
伸出至反应器外；集气管的下侧沿着集气管的长度方向开设一排集气孔。
2.如权利要求1所述的三相分离器，其中，所述三相分离器包括至
少两层集气罩，相邻两层集气罩之间交错分布；每个集气罩的下方设置一
根集气管。
3.如权利要求2所述的三相分离器，其中，反应器内同一高度的集
气管伸出反应器之后合并成一根回流管，同一高度的集气管收集的气体在
反应器外的回流管内汇流。
4.如权利要求2所述的三相分离器，其中，下层集气管中集气孔的
孔径大于上层集气管中集气孔的孔径；和/或，下层集气管中相邻两个集
气孔之间的间距小于上层集气管中相邻两个集气孔之间的间距；和/或，
下层集气管的管径大于上层集气管的管径。
5.如权利要求1-4任一所述的三相分离器，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：张国宇，王艳芳，马岩，任丹，李婧，孙娜，刘立春，郭鹏辉，王柳奎，
申请(专利权)人：北京金泽环境能源技术研究有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11