本发明专利技术公开了一种二氧化氮吸附剂、二氧化氮吸附装置及其制造方法，所述二氧化氮吸附剂，按重量份计包括：氧化钙15～60份；氧化铝10～50份；氢氧化钾20～70份；该吸附剂对笑气中的二氧化氮进行高效吸附，纯化笑气；二氧化氮吸附装置的制造方法，包括1)在水热釜中放入去离子水；2)钙盐、铝盐和钾盐加入水热釜中；3)将改性剂配制为盐溶液，然后加入水热釜中；4)将空白的填充层放入水热釜中，进行水热处理；5)将填充层取出，得到吸附剂填充层；6)将吸附剂填充层安装在二氧化氮吸附装置的过滤通道上；该制造方法在填充层上均匀附着纳米级的二氧化氮吸附剂，使吸附剂填充层具有高效的二氧化氮吸附性能。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种二氧化氮吸附剂、二氧化氮吸附装置及其制造方法，属于气体过滤提纯
技术介绍
在中国大陆的笑气应用市场中，最大的客户群体为液晶面板行业，该行业需求的均是5N高纯笑气。目前主流的液晶面板厂均在研究更高水平的显示技术，而LTPS以及Oxide两大技术已经开始在国外主流工厂开始量产，目前中国国内还处于研发或试生产阶段，而这两种工艺，均需要大量使用高纯笑气，而原本的液晶面板工艺几乎不使用，所以促进了笑气应用的大爆发。中国大陆以外的应用主要集中在亚太地区，也就是韩国，中国台湾地区以及日本。韩国拥有世界第一以及第三的液晶面板工厂即三星以及LG公司；台湾拥有世界第2以及第4的群创(富士康)以及友达，并在世界前10的液晶面板工厂中有4家工厂是在台湾；日本地区有老牌的夏普。日本的公司虽然生产能力较小但是技术实力领先，这三个地区加上中国基本上就占有目前全世界制造液晶面板显示器的九成五以上了。由以上分析看出，在未来5N高纯笑气的市场需求量是非常巨大的，并且主要都在中国地区或中国附近。所以，5N高纯笑气的过滤和纯化工艺，是非常值得研究的方向。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本专利技术的第一个目的在于提供一种二氧化氮吸附剂，该吸附剂以氧化钙、氧化铝和氢氧化钾为主体材料，对笑气中的二氧化氮进行高效吸附，纯化笑气。实现本专利技术的目的可以通过采取如下技术方案达到：一种二氧化氮吸附剂，按重量份计包括以下成分：氧化钙15～60份；氧化铝10～50份；氢氧化钾20～70份。作为优选，所述二氧化氮吸附剂还包括改性剂；所述改性剂包括镓、铟和钼中的至少一种。再优选地，所述改性剂按总二氧化氮吸附剂的重量份计，包括：镓0.1～1份；铟0.1～1.5份；钼0.1～2份。再优选地，所述改性剂按总二氧化氮吸附剂的重量份计，包括：镓0.5份；铟1份；钼0.5份。本专利技术的第二个目的是为了提供一种二氧化氮吸附装置，将笑气通入吸附装置，装置中的吸附剂填充层高效吸附二氧化氮，纯化笑气。实现本专利技术的目的可以通过采取如下技术方案达到：一种二氧化氮吸附装置，包括进气口、出气口、过滤通道和至少一个吸附剂填充层；所述吸附剂填充层设置在过滤通道中；所述吸附剂填充层上附着有如上述的二氧化氮吸附剂。本专利技术的第三个目的是为了提供一种如上所述的二氧化氮吸附装置的制造方法，该制造方法在填充层上均匀附着纳米级的二氧化氮吸附剂，使吸附剂填充层具有高效的二氧化氮吸附性能，可将吸附剂填充层灵活安装到二氧化氮吸附装置中使用。实现本专利技术的目的可以通过采取如下技术方案达到：一种如上所述的二氧化氮吸附装置的制造方法，包括以下步骤：1)在水热釜中放入水热釜容积的65～90％的去离子水；2)钙盐、铝盐和钾盐加入水热釜中，并搅拌均匀；3)将改性剂配制为盐溶液，然后加入水热釜中；4)将空白的填充层放入水热釜中，盖合水热釜后，置于温度为110～160℃的条件下进行水热处理40～70min；5)将经步骤4)处理的水热釜冷却，取出填充层，得到吸附剂填充层；6)将步骤5)得到的吸附剂填充层安装在二氧化氮吸附装置的过滤通道上，得到二氧化氮吸附装置。作为优选，步骤3)中，将改性剂的盐溶液加入水热釜至水热釜中总溶液的体积为水热釜容积的70～95％。作为优选，步骤4)中，所述温度为150℃。作为优选，所述填充层为金属丝网填料。作为优选，所述二氧化氮吸附装置为二氧化氮吸附柱。相比现有技术，本专利技术的有益效果在于：1、本专利技术的二氧化氮吸附剂以氧化钙、氧化铝和氢氧化钾作为主体材料，对二氧化氮气体具有较好的吸附性能，吸附过程不产生副产物，可通过将改性剂以相应比例加入主体材料中，增强了主体材料的表面势能，进一步提高二氧化氮吸附剂的吸附效率；2、本专利技术的二氧化氮吸附装置的制造方法，把纳米级的主体材料和改性剂均匀附着在填充层上，再把一层或多层的吸附剂填充层安装到二氧化氮吸附装置中，使用灵活方便，适用于多种纯化场合；3、本专利技术利用加热促进水分子布朗运动，将吸附剂分散均匀，得到的吸附剂为纳米结构，具有较大的比表面积，孔径分布均匀，具有较好的热稳定性；能牢固稳定地附着在填充层上。具体实施方式下面，结合具体实施方式，对本专利技术做进一步描述：一种二氧化氮吸附剂，按重量份计包括以下成分：氧化钙、氧化铝和氢氧化钾作为主体材料具有多孔物理形态，对二氧化氮气体具有高吸附性能，氧化钙、氧化铝和氢氧化钾与二氧化氮进行化学反应，将二氧化氮吸附，吸附时不产生副产物，然后通过改性剂：镓、铟和钼元素的加入，改性剂在氧化钙、氧化铝和氢氧化钾的表面形成活性中心，增大了氧化钙、氧化铝和氢氧化钾的表面势能，进一步提高了主体材料对二氧化氮的吸附效率；其中对加入的镓、铟和钼的加入量的把控要求高，需要根据主体材料及其配比和考虑制造条件对成分的影响进行设置，如果加入过量，会形成新的半导体氧化物，改变了吸附剂的性能。将上述的二氧化氮吸附剂应用于二氧化氮吸附装置，该二氧化氮吸附装置包括进气口、出气口、过滤通道和至少一个吸附剂填充层；所述吸附剂填充层设置在过滤通道中；所述吸附剂填充层上附着有如上所述的二氧化氮吸附剂。上述二氧化氮吸附装置，通过以下制造方法获得：1)在水热釜中放入水热釜容积的65～90％的去离子水；对去离子水体积的设定，保证水热釜的上部有蒸汽空间，维持水热釜中进行水热反应时的压力；2)钙盐、铝盐和钾盐加入水热釜中，并搅拌均匀；3)将镓、铟和钼配制为盐溶液，然后加入水热釜，至水热釜中总溶液的体积为水热釜容积的70～95％；所述钙盐、铝盐和钾盐包括但不限于氯盐，例如氯化钙、三氯化铝和氯化钾；还可以是硝酸盐或硫酸盐；所述镓、铟和钼的盐溶液包括但不限于氯盐，例如三氯化镓、三氯化铟和五氯化钼；还可以是硝酸盐或硫酸盐；4)将空白的填充层放入水热釜中，盖合水热釜后，置于温度为110～160℃的条件下进行水热处理40～70min；水热釜中的水热反应在压力、温度和时间的条件下进行，其中钙盐、铝盐和钾盐在水热釜中形成氧化钙、氧化铝和氢氧化钾，结合改性剂元素镓、铟和钼共同形成均匀的组合物，在水热釜中，粒子的流动性强，最后大量附着在填充层中，形成高密度的吸附剂填充层；5)将经步骤4)处理的水热釜冷却，取出填充层，得到吸附剂填充层；6)将步骤5)得到的吸附剂填充层安装在二氧化氮吸附装置的过滤通道上，得到二氧化氮吸附装置。实施例1～3按表1准备原料：表1实施例1～3的原料重量份原料实施例1实施例2实施例3钙盐60份40份15份铝盐10份15份45份钾盐20份50份65份镓盐1份0.5份0.2份铟盐0.2份1份1.5份钼盐2份0.5份1份并根据表2所示的参数调整制造方法进行二氧化氮吸附装置的制造：表2实施例1～3的制造条件将通过实施例1～3获得的二氧化氮吸附装置用于笑气中二氧化氮的吸附，二氧化氮吸附装置的过滤通道中装有两层吸附剂填充层，将笑气从二氧化氮吸附装置的进气口一次通入，然后从出气口排出，检测通入前和通入后的笑气中的二氧化氮含量，检测结果如表3所示：表3实施例1～3的二氧化氮吸附检测结果二氧化氮含量实施例1实施例2实施例3通入前0.25％0.3％0.2％通入后0.001％0.0002％0.0003％对于本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其它各种本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种二氧化氮吸附剂，其特征在于：按重量份计包括以下成分：氧化钙 15～60份；氧化铝 10～50份；氢氧化钾 20～70份。
【技术特征摘要】
1.一种二氧化氮吸附剂，其特征在于：按重量份计包括以下成分：氧化钙15～60份；氧化铝10～50份；氢氧化钾20～70份。2.如权利要求1所述的二氧化氮吸附剂，其特征在于：所述二氧化氮吸附剂还包括改性剂；所述改性剂包括镓、铟和钼中的至少一种。3.如权利要求2所述的二氧化氮吸附剂，其特征在于：所述改性剂按总二氧化氮吸附剂的重量份计，包括：镓0.1～1份；铟0.1～1.5份；钼0.1～2份。4.如权利要求3所述的二氧化氮吸附剂，其特征在于：所述改性剂按总二氧化氮吸附剂的重量份计，包括：镓0.5份；铟1份；钼0.5份。5.一种二氧化氮吸附装置，其特征在于：包括进气口、出气口、过滤通道和至少一个吸附剂填充层；所述吸附剂填充层设置在过滤通道中；所述吸附剂填充层上附着有如权利要求2-4任一所述的二氧化氮吸附剂。6.一种如权利要求5所述的二氧化氮吸附装置的制造方法，其特征在于：包括以下步骤：1)在水热釜中放入水热釜容...
【专利技术属性】
技术研发人员：金向华，孙猛，陈琦峰，
申请(专利权)人：苏州金宏气体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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