一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液制造技术

技术编号:14405549 阅读:138 留言:0更新日期:2017-01-11 17:12
本发明专利技术公开了一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液,其中含有如下重量份的组分:水1000,柠檬酸130—145,二水合柠檬酸三钠10—20。本发明专利技术增加了去金属离子的综合能力,它有效的解决了元器件引线受污染的问题,使元器件搪锡的质量得到保证、浸泡时间缩短,且又不损伤元器件自身。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于电气互联应用
,具体涉及一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液
技术介绍
在电子产品装联之前对元器件的引线进行重新浸锡处理,通常称之为“搪锡”。元器件高品质搪锡质量,氧化层的处理是关键。在某些高可靠性电子产品中,元器件引线氧化层处理是禁止使用强酸,而使用柠檬酸及混合液处理氧化层的方法能够很好解决该问题。目前使用的是柠檬酸溶液(柠檬酸+水)处理元器件引线氧化层,元器件引线在柠檬酸溶液浸泡时间需要1.5~2h,经清理后搪锡,其元器件引线目测锡附着程度满足要求。但存在浸泡时间长、去除元器件引线上的氧化层的能力欠缺。
技术实现思路
本专利技术旨在克服现有技术的不足,提供一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液。为了达到上述目的,本专利技术提供的技术方案为:所述用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液中含有如下重量份的组分:水1000,柠檬酸130—145,二水合柠檬酸三钠10—20。优选地,所述用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液中含有如下重量份的组分:水1000,柠檬酸135—140,二水合柠檬酸三钠12—18。更优选地,所述用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液中含有如下重量份的组分:水1000,柠檬酸138.5,二水合柠檬酸三钠15.4。本专利技术的优点在于,增加了去金属离子的综合能力,它有效的解决了元器件引线受污染的问题,使元器件搪锡的质量得到保证、浸泡时间缩短,且又不损伤元器件自身。具体实施方式1.去氧化层液配方:水(纯净水):1000ml;柠檬酸(C6H807.H2O分析纯):138.5g;二水合柠檬酸三钠(C6H5Na3O7.2H2O分析纯):15.4g。2.配制:用量杯量1000ml水,放入容器中,再用电子称顺序称柠檬酸、二水合柠檬酸三钠,称毕后的柠檬酸、二水合柠檬酸三钠倒入盛水的容器时,用玻璃棒边搅拌边倒入水中,直至溶解搅拌均匀。3.使用:元器件引脚浸泡在去氧化液中浸泡20~30分钟,取出放在容器中用自来水冲洗1~2分钟直至去氧化液彻底清洗干净,放在盘中用无水乙醇刷洗,放置晾干,时间约10分钟。在2小时内及时进行搪锡处理。元器件引线在柠檬酸+二水合柠檬酸三钠+纯净水的混合液中的浸泡时间(20~30分钟)远低于柠檬酸+纯净水混合液(1.5~2h),与原方法相比增加了用无水乙醇再次清洗元器件引线,可进一步清理引线上的一些有机物。据本配方在与原配方进行的比对试验,对存放4~5年的独石电容器CT402与CC401的引线按上述的两种方法进行搪锡处理,分为6组贴号(每组CT402与CC401各50只),专业检验员用3~5放大镜对引线的锡附着程度检查,并无异样。并在多个型号高精度I/F电路中使用,精度得到长期保证。本配方优化了清除元器件引线氧化层的问题,使元器件引线除氧化层时间缩短、操作性强、稳定性高。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液,其特征在于,所述柠檬酸溶液中含有如下重量份的组分:水 1000,柠檬酸 130—145,二水合柠檬酸三钠 10—20。

【技术特征摘要】
1.一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液,其特征在于,所述柠檬酸溶液中含有如下重量份的组分:水1000,柠檬酸130—145,二水合柠檬酸三钠10—20。2.如权利要求1所述的柠檬酸溶液,其特征在于,所述柠檬酸溶液中...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈晖
申请(专利权)人:湖南航天机电设备与特种材料研究所
类型:发明
国别省市:湖南;43

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