【技术实现步骤摘要】
本专利涉及一种太阳能电池及其制备方法,特别是关于一种垂直结构硅太阳能电池及其制备方法。
技术介绍
近几年全世界环境污染、温室效应等问题日趋严重,而且传统能源储量越来越少,价格越来越高,所以人类对清洁能源的需求越来越大,太阳能光伏发电作为一种清洁能源越来越受到人们的重视。目前,市场上销售的太阳能光伏电池大部分是单晶硅和多晶硅太阳能电池,基本采用正背电极的平行pn结结构,使得单片电池输出电压低,输出电流大,串联电阻大,不利于实际应用以及并网发电。本专利技术提供一种垂直结构硅太阳能电池及其制备方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种垂直结构硅太阳能电池及其制备方法,该电池还采用了异质结结构,具有结构简单,工艺流程简化及成本低廉的优点,并且能输出高电压,低电流,在较高的入射光功率下仍能保持较高转换效率,因此可以用于高倍聚光及大功率激光输能。为了达到上述目的,本专利技术采用的技术方案是:一种垂直结构硅太阳能电池,其特征是:包括:一钝化减反膜;一硅衬底,该硅衬底制作在钝化减反膜下的中间部位;一第一掺杂层,该第一掺杂层制作在硅衬底的一侧,其长度与硅衬底侧面长度相同;一第二掺杂层,该第二掺杂层制作在硅衬底与第一掺杂层相对的另一侧,其长度与硅衬底侧面长度相同;一第三掺杂层,该第三掺杂层制作在第二掺杂层的表面,其长度与第二掺杂层相同;一第四掺杂层,该第四掺杂层制作在第一掺杂层的表面,其长度与第一掺杂层相同;一第一电极,该第一电极制作在第四掺杂层的表面,其长度与第四掺杂层相同;一第二电极,该第二电极制作在第三掺杂层的表面,其长度与第三掺杂层相同;一钝化膜,该钝化膜制作在 ...
【技术保护点】
一种垂直结构硅太阳能电池,其特征是:包括:一钝化减反膜(1);一硅衬底(2),该硅衬底(2)制作在钝化减反膜(1)下的中间部位;一第一掺杂层(3),该第一掺杂层(3)制作在硅衬底(2)的一侧,其长度与硅衬底(2)侧面长度相同;一第二掺杂层(4),该第二掺杂层(4)制作在硅衬底(2)与第一掺杂层(3)相对的另一侧,其长度与硅衬底(2)侧面长度相同;一第三掺杂层(5),该第三掺杂层(5)制作在第二掺杂层(4)的表面,其长度与第二掺杂层(4)相同;一第四掺杂层(6),该第四掺杂层(6)制作在第一掺杂层(3)的表面,其长度与第一掺杂层(3)相同;一第一电极(7),该第一电极(7)制作在第四掺杂层(6)的表面,其长度与第四掺杂层(6)相同;一第二电极(8),该第二电极(8)制作在第三掺杂层(5)的表面,其长度与第三掺杂层(5)相同;一钝化膜(9),该钝化膜(9)制作在硅衬底(2)的下部,覆盖第一掺杂层(3)、第二掺杂层(4)、第三掺杂层(5)、第四掺杂层(6)、第一电极(7)和第二电极(8)中与硅衬底(2)底部相同一侧的端部;该电池通过多个上述基本单元两侧的第一电极(7)和第二电极(8)串接而成 ...
【技术特征摘要】
1.一种垂直结构硅太阳能电池,其特征是:包括:一钝化减反膜(1);一硅衬底(2),该硅衬底(2)制作在钝化减反膜(1)下的中间部位;一第一掺杂层(3),该第一掺杂层(3)制作在硅衬底(2)的一侧,其长度与硅衬底(2)侧面长度相同;一第二掺杂层(4),该第二掺杂层(4)制作在硅衬底(2)与第一掺杂层(3)相对的另一侧,其长度与硅衬底(2)侧面长度相同;一第三掺杂层(5),该第三掺杂层(5)制作在第二掺杂层(4)的表面,其长度与第二掺杂层(4)相同;一第四掺杂层(6),该第四掺杂层(6)制作在第一掺杂层(3)的表面,其长度与第一掺杂层(3)相同;一第一电极(7),该第一电极(7)制作在第四掺杂层(6)的表面,其长度与第四掺杂层(6)相同;一第二电极(8),该第二电极(8)制作在第三掺杂层(5)的表面,其长度与第三掺杂层(5)相同;一钝化膜(9),该钝化膜(9)制作在硅衬底(2)的下部,覆盖第一掺杂层(3)、第二掺杂层(4)、第三掺杂层(5)、第四掺杂层(6)、第一电极(7)和第二电极(8)中与硅衬底(2)底部相同一侧的端部;该电池通过多个上述基本单元两侧的第一电极(7)和第二电极(8)串接而成。2.根据权利要求1所述的一种垂直结构硅太阳能电池,其特征是:所述钝化减反膜(1)和钝化膜(9)的材料为Al2O3、SiO2、SiNx、MgF2或ZnS中的一种或几种的组合。3.根据权利要求1所述的一种垂直结构硅太阳能电池,其特征是:所述硅衬底(2),为本征或N型掺杂或P型掺杂;所述第一掺杂层(3)和第四掺杂层(6),同为N型或P型掺杂;所述第二掺杂层(4)和第三掺杂层(5),同为N型或P型掺杂,且该第二掺杂层(4)和第三掺杂层(5)的掺杂类型与第一掺杂层(3)和第四掺杂层(6)的掺杂类型相反。4.根据权利要求1所述的一种垂直结构硅太阳能电池,其特征是:所述硅衬底(2),第一掺杂层(3)和第二掺杂层(4)同为单晶硅或多晶硅材料,第三掺杂层(5)和第四掺杂层(6)为非晶硅或非晶硅碳材料。5....
【专利技术属性】
技术研发人员:邢宇鹏,丁穷,杨正春,张楷亮,赵金石,
申请(专利权)人:天津理工大学,
类型:发明
国别省市:天津;12
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