掩模板制造技术

本实用新型专利技术提供一种掩模板，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的掩模板更换遮光条，成本昂贵、且平整度难以保证的问题。本实用新型专利技术的掩模板包括框架和设置于框架上方的遮光条，其特征在于，框架的相对的两条横边沿其延伸方向开设有横向凹槽，和/或，框架的相对的两条竖边沿其延伸方向开设有竖向凹槽；相应的，每一遮光条的两端均分别设置有限位条，限位条成对设置于相对的横向凹槽或竖向凹槽内，限位条能沿其所在的横向凹槽或竖向凹槽移动。该掩模板平整度较高、且具有较高兼容性，能够极大节省生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于显示
，具体涉及一种掩模板。
技术介绍
在有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)的蒸镀工艺中，通常使用的掩模板，要求其全节距(Total Pitch，简称TP)值在正负100μm之内。在使用过程中，当掩模板的TP值超出了正负100μm时，将影响基板(Panel)的质量，需要重新制作掩模板。图1为现有的掩模板的结构示意图，如图1所示，掩模板通过张网(Tension)工艺，并通过激光焊接(Laser Welding)的方式将遮光条1(sheet)焊接在框架2(Frame)上。当掩模板的TP值超出规定值，或者需要对不同尺寸的基板进行加工时，都需要重新制作掩模板，即卸下焊接在框架2上的遮光条1，并将新的遮光条1重新焊接在框架2上，通常为了保证焊接质量，需要对框架2上的焊点进行打磨，提高框架2的平整度。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：遮光条造价昂贵，更换新的遮光条将提高生产成本；在更换遮光条时，尽管对框架上的焊点进行了打磨，但框架的平整度很难达到使用要求，焊接遮光条后，遮光条的平整度也很难达到使用要求。通常，遮光条的平整度要求在500μm之内，一旦其平整度达不到要求，将直接影响掩模板与基板之间的贴合紧密度，从而影响工艺效果；对框架或遮光条的平整度进行修复将付出较大的经济代价。因此，设计一种新型的掩模板，能够长期保持较高的平整度，不需要频繁更换遮光条，这是目前亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术为至少部分解决现有的上述问题，提供一种掩模板。该掩模板能够至少部分解决在不更换遮光条的情况下，调整遮光条的位置，保证掩模板的遮光条和框架的具有较高的平整度，提高掩模板的兼容性。解决本技术技术问题所采用的技术方案是：提供一种掩模板，包括框架和设置于所述框架上方的遮光条，所述框架的相对的两条横边沿其延伸方向开设有横向凹槽，和/或，所述框架的相对的两条竖边沿其延伸方向开设有竖向凹槽；相应的，每一所述遮光条的两端均分别设置有限位条，所述限位条成对设置于相对的所述横向凹槽或所述竖向凹槽内，所述限位条能沿其所在的所述横向凹槽或所述竖向凹槽移动以带动所述遮光条移动。优选的是，还包括位控机构，每一限位条均分别连接一所述位控机构，所述位控机构位于所述横向凹槽或所述竖向凹槽内部，用于调节与其连接的所述限位条在所述横向凹槽或所述竖向凹槽内的位置。优选的是，所述位控机构包括丝杆、齿轮和传动轴，所述丝杆与所述限位条连接，所述齿轮与所述丝杆啮合设置，所述传动轴的一端设置于所述齿轮的轴心、另一端穿过所述横向凹槽或所述竖向凹槽的外壁位于所述框架的外部，所述传动轴能带动所述齿轮转动，以使所述齿轮带动所述限位条在所述横向凹槽或所述竖向凹槽内移动。优选的是，所述丝杆外表面每1毫米的长度包括至少50圈螺纹。优选的是，所述位控机构还包括旋钮，所述旋钮设置于所述传动轴位于所述框架的外部的端部，所述旋钮与所述传动轴同步转动。优选的是，所述旋钮的表面设置有刻度尺，所述刻度尺中包括表示不同角度值的多个角度示数，用于标识所述传动轴或所述齿轮带动所述丝杆移动的角度。优选的是，还包括沉头螺钉，所述限位条中沿厚度方向开设有通孔，所述横向凹槽的底部或所述竖向凹槽的底部在深度方向开设有固定螺孔，所述沉头螺钉能穿过所述通孔并插入所述固定螺孔，使得所述限位条相对所述框架固定。优选的是，所述限位条的上表面与所述框架的上表面平齐。优选的是，每一所述横向凹槽内所述限位条的数量范围为2～4个，或者，所述竖向凹槽内所述限位条的数量范围为2～4个。优选的是，所述遮光条为因瓦合金材料或不锈钢材料，所述限位条为铁质材料。本技术的掩模板，通过在框架的周边开设凹槽，在凹槽内设置限位条，并将遮光条的两端分别焊接在限位条上，具有如下有益效果：首先，焊接遮光条的焊点只存在于限位条上，当限位条上的平整度超出使用要求，直接更换限位条即可，无需更换框架，可节约成本；其次，每一限位条连接有位控机构，该位控机构均能够调整与其相连的限位条在凹槽中的位置，从而，能够根据需要调整掩模板的有效成膜区，并运用于加工不同尺寸的基板，提高掩模板的兼容性。附图说明图1为现有的掩模板的结构示意图；图2为本技术的实施例1的掩模板的结构示意图；图3为图2中掩模板的局部放大图；图4为图3所示部分的侧视图；图5为本技术的实施例2的掩模板的一种结构示意图；图6为本技术的实施例2的掩模板的另一种结构示意图。其中，附图标记为：1、遮光条；2、框架；3、横向凹槽；4、竖向凹槽；5、限位条；6、丝杆；7、齿轮；8、传动轴；9、旋钮；10、沉头螺钉；11、通孔。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细描述。本技术的掩模板包括框架和设置于框架上方的遮光条，框架的相对的两条横边沿其延伸方向开设有横向凹槽，和/或，框架的相对的两条竖边沿其延伸方向开设有竖向凹槽；相应的，每一遮光条的两端均分别设置有限位条，限位条成对设置于相对的横向凹槽或竖向凹槽内，限位条能沿其所在的横向凹槽或竖向凹槽移动以带动遮光条移动，从而能够在不更换遮光条的情况下，提高掩模板的兼容性。实施例1：本实施例提供一种掩模板，在掩模板的框架的相对的两条横边沿其延伸方向开设有横向凹槽，且在框架的相对的两条竖边沿其延伸方向开设有竖向凹槽，每一遮光条的两端均分别设置有限位条，限位条成对设置于相对的横向凹槽和竖向凹槽内，限位条能沿其所在的横向凹槽和竖向凹槽移动以带动遮光条移动。图2为实施例1的掩模板的结构示意图，如图2所示，掩模板包括框架2和设置于框架2上方的遮光条1，框架2的相对的两条横边沿其延伸方向开设有横向凹槽3，并且，框架2的相对的两条竖边沿其延伸方向开设有竖向凹槽4。横向凹槽3和竖向凹槽4内部设置有多个限位条5，限位条5能沿其所在的横向凹槽3或竖向凹槽4移动，每一遮光条1的两端均分别焊接在限位条5的表面。从而能够在不更换遮光条1的情况下，调整掩模板的有效成膜区，提高掩模板的兼容性。结合实际生产的需要，每一横向凹槽3内限位条5的数量范围为2～4个，或者，竖向凹槽4内限位条5的数量范围为2～4个。具体的，结合金属材料掩模板(Metal Mask)和有机材料掩模板(Organic Mask)的结构，本实施例的掩模板中，每一横向凹槽3内设置2个限位条5，每一竖向凹槽4内设置4个限位条5。为了保证框架2的平整度，优选将限位条5的上表面与框架2的上表面平齐。也就是说，设计限位条5的厚度等于横向凹槽3或竖向凹槽4的深度，保证限位条5的上表面与框架2的上表面在同一高度。从而，进一步保证遮光条1的平整度。遮光条1优选因瓦(INVAR)合金材料或不锈钢(SUS)材料制成，限位条5优选铁质材料制成。基于蒸镀工艺的高精度性，为了能够精准地控制限位条5在横向凹槽3和竖向凹槽4内的位置，本实施例的掩模板还包括位控机构，每一限位条5均分别连接一位控机构，位控机构位于横向凹槽3和竖向凹槽4内部，用于调节与其连接的限位条5在横向凹槽3和竖向凹槽4内的位置。图3为图2中掩模板的局部放大图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板，包括框架和设置于所述框架上方的遮光条，其特征在于，所述框架的相对的两条横边沿其延伸方向开设有横向凹槽，和/或，所述框架的相对的两条竖边沿其延伸方向开设有竖向凹槽；相应的，每一所述遮光条的两端均分别设置有限位条，所述限位条成对设置于相对的所述横向凹槽或所述竖向凹槽内，所述限位条能沿其所在的所述横向凹槽或所述竖向凹槽移动以带动所述遮光条移动。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板，包括框架和设置于所述框架上方的遮光条，其特征在于，所述框架的相对的两条横边沿其延伸方向开设有横向凹槽，和/或，所述框架的相对的两条竖边沿其延伸方向开设有竖向凹槽；相应的，每一所述遮光条的两端均分别设置有限位条，所述限位条成对设置于相对的所述横向凹槽或所述竖向凹槽内，所述限位条能沿其所在的所述横向凹槽或所述竖向凹槽移动以带动所述遮光条移动。2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，还包括位控机构，每一限位条均分别连接一所述位控机构，所述位控机构位于所述横向凹槽或所述竖向凹槽内部，用于调节与其连接的所述限位条在所述横向凹槽或所述竖向凹槽内的位置。3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述位控机构包括丝杆、齿轮和传动轴，所述丝杆与所述限位条连接，所述齿轮与所述丝杆啮合设置，所述传动轴的一端设置于所述齿轮的轴心、另一端穿过所述横向凹槽或所述竖向凹槽的外壁位于所述框架的外部，所述传动轴能带动所述齿轮转动，以使所述齿轮带动所述限位条在所述横向凹槽或所述竖向凹槽内移动。4.根据权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述丝杆外表面每1毫米...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐鹏，潘晟恺，乔永康，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34