【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种水处理装置,且特别是涉及一种防死水处理装置。技术背景近年来,由于半导体技术不断地蓬勃发展,使得高科技产品得以大步跃 进。而在人们追求产品具有轻薄短小等优点的需求之下,各类产品的元件也 趋于微型化。如此一来,在半导体类产品中,便必须增加微小元件的集成度。然而,随着元件复杂度与集成度的升高,晶片表面的微小缺陷(minute defects) 和微量杂质(trace impurities)将会严重地影响元件的性能。晶片表面的微小缺 陷和微量杂质不但会劣化元件的特性和可靠度,甚者还会降低晶片的成品 率。因此,在半导体工艺中,用以清洗晶片以移除附着于晶片表面上无用物 质的洗净工艺便显得相当重要。超洁净技术(ultraclean technology)是一种利用超纯水以洗净晶片的技 术。若使用原水(raw water)清洗晶片,由于原水内含有各类形式的杂质,杂 质容易沉淀于晶片表面上反而造成晶片元件的劣化,因此,使用于晶片洗净 步骤的水,需先经过净化而成为超纯水。目前常用的超纯水制造系统包括前处理系统(pretreatment system)、主处 理 ...
【技术保护点】
一种防死水处理装置,配置于水处理单元上,包括:旁流管路,该旁流管路的一端连接于该水处理单元的进水口,该旁流管路的另一端连接于该水处理单元的出水口;旁流阀,配置于该旁流管路上;和短流管路,该短流管路的一端连接于该旁流阀的进水口,该短流管路的另一端连接于该旁流阀的出水口。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:魏善修,
申请(专利权)人:力晶半导体股份有限公司,
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]
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