高纯度硫酸铜及其制备方法技术

一种纯度为９９．９９ｗｔ％或更高的高纯度硫酸铜，其中过渡金属如Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ的含量为３ｗｔ　　ｐｐｍ或更低；和一种制备如此高纯度硫酸铜的方法，其包括如下步骤：将硫酸铜溶解在晶体纯净水中、对其进行蒸发浓缩、除去初始沉淀的晶体、进一步进行蒸发浓缩以实现结晶，及将其过滤获得高纯度硫酸铜。高纯度硫酸铜的这种制备方法通过用纯净水溶解和热浓缩可高效低成本地从商业可获得的硫酸铜晶体中除去杂质。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
高纯度硫酸铜及其制备方法
本专利技术涉及一种高纯度硫酸铜的制备方法，其包括如下步骤：将商业购买的硫酸铜晶体(纯度例如为95～99.9％)溶解在纯净水中、对其进行加热浓缩、滤出最初沉淀的晶体以除去杂质，从而得到高纯度硫酸铜。原料没有必要一定为硫酸铜晶体，其可以为用包括硫酸的酸将铜溶解在其中的物质，或从中制备的硫酸铜晶体。技术背景尽管硫酸铜(Cu2SO4)为白色粉末，但水合硫酸铜(Cu2SO4·5H2O)是其常见形式，其为蓝铜矿蓝色晶体。硫酸铜用作电解质溶液、染料、杀虫剂、杀菌剂、媒染剂、电池材料、药物等。特别地，当其用作电子元件如半导体器件中的电镀液时，需要高纯度的硫酸铜。商业可获得的硫酸铜的纯度为95～99.9wt％，且有必要进一步纯化以获得4N～5N或更高的纯度。作为常规技术，描述了通过如下方法得到低Ni含量的硫酸铜：通过电解沉积使用从电解液中回收的电解铜粉末作为原料、将其插入酸性溶液中以选择性溶解并除去Ni、在硫酸中溶解滤出的铜粉末、并使其结晶(例如参考日本未授权公开号为2001-10817申请)。另外，公开了通过以下方法得到低Ni含量的硫酸铜，即，使用含镍的硫酸铜水合溶液本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备高纯度硫酸铜的方法，包括如下步骤，将硫酸铜晶体溶解在纯净水中，对其进行蒸发浓缩，除去最初沉淀的晶体，进一步进行蒸发浓缩实现结晶，将其过滤以获得高纯度硫酸铜，然后对其进行干燥。

【技术特征摘要】
JP 2002-9-5 259755/20021.一种制备高纯度硫酸铜的方法，包括如下步骤，将硫酸铜晶体溶解在纯净水中，对其进行蒸发浓缩，除去最初沉淀的晶体，进一步进行蒸发浓缩实现结晶，将其过滤以获得高纯度硫酸铜，然后对其进行干燥。2.根据权利要求1中制备高纯度硫酸铜的方法，其中硫酸铜用纯净水溶解得到溶液的初始pH为2～4，除去初始沉淀的晶体后溶液的pH为2或更低。3.根据权利要求1或2中制备高纯度硫酸铜的方法，其中相对于初始进料除去10wt％或更多的初始晶体。4.根据上述权利要求1～3中任一项制备高纯度硫酸铜的方法，其中经过最后过滤的滤液是初始液体体积的2～40％。5.根据上述权利要求1～4中任一项制备高纯度硫酸铜的方法，其中干燥温度为40～100℃。6.一种纯度为99.99wt％或更高的高纯度硫酸铜，其中过渡金属如Fe、Cr、Ni的含量为3wtppm或更低。7.根据上述权利要求1～5中任一...

【专利技术属性】
技术研发人员：新藤裕一朗，竹本幸一，
申请(专利权)人：日矿金属株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]