中空微粒子型氧化钽和/或氧化铌的制造方法技术

本发明专利技术介绍了中空微粒子型氧化钽和／或氧化铌的制造方法。其特征为，将肼或肼的水溶液加入：（１）钽化合物和／或铌化合物溶液、（２）氟化钽酸和／或氟化铌酸溶液或（３）氟化钽酸结晶和／或氟化铌酸结晶溶解在水中所得的溶液，并将由此得到的氢氧化钽和／或氢氧化铌进行煅烧。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】中空微粒子型氧化钽和/或氧化铌的制造方法
本专利技术是关于氧化钽粉末和/或氧化铌粉末及其制造方法，例如，作为制作压电体、半导体、传感器、光电子材料、电介质、超导体时的钽原材料和/或铌原材料，具有特殊结晶形状、高纯度、高比表面积微细粒子系列的氧化钽粉末和/或氧化铌粉末及其相关制造方法。技术背景【专利文献1】：日本特开平3-153527号公报【专利文献2】：日本特开平6-321543号公报【专利文献3】；本特开平11-255518号公报【专利文献4】：日本特开2002-253964号公报【专利文献5】：日本特开2000-080346号公报近年来，陶瓷材料、电子材料等领域对氧化钽和/或氧化铌的使用需求很高，特别是，作为光电子、催化剂等材料，要求氧化钽和/或氧化铌材料具有小粒径、高比表面积。但由于氧化钽和/或氧化铌通常采用煅烧氧化钽和/或氧化铌的原料粉末制备，再将其粉碎使用，因此不但存在粒子不均匀的问题，而且使用的钽原材料和/或铌材料的粒子直径相对较大。因此，对上述高比表面积、超微粒径氧化钽和/或氧化铌的要求就提高了。而且，由于结晶粒子形状特异，有可能得到目前尚无的附加性能，对结晶形状本文档来自技高网...

【技术保护点】
中空微粒子型氧化钽和／或氧化铌的制造方法，其特征为，将肼或肼的水溶液加入：（１）钽化合物和／或铌化合物溶液、（２）氟化钽酸和／或氟化铌酸溶液或（３）氟化钽酸结晶和／或氟化铌酸结晶溶解在水中所得的溶液，并将由此得到的氢氧化钽和／或氢氧化铌进行煅烧。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-3-11 068313/20041.中空微粒子型氧化钽和/或氧化铌的制造方法，其特征为，将肼或肼的水溶液加入：(1)钽化合物和/或铌化合物溶液、(2)氟化钽酸和/或氟化铌酸溶液或(3)氟化钽酸结晶和/或氟化铌酸结晶溶解在水中所得的溶液，并将由此得到的氢氧化钽和/或氢氧化铌进行煅烧。2.权利要求1所述的方法，其特征为，溶液的钽浓度和/或铌浓度，换算成钽和/或铌为1～150g/L。3.权利要求1或2所述的方法，其特征为，所述的肼的浓度，为1～50重量％。4.权利要求1至3中任何一项所述的方法，其特征为，所述的肼的浓度，为1～30重量％。5.权利要求1至4中任何一项所述的方法，其特征为，所述的肼水溶液的温度，为0～90℃。6.权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：菊山裕久，胁雅秀，桥口慎二，青木谦治，
申请(专利权)人：斯特拉化工公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]