当前位置: 首页 > 专利查询>DIC株式会社专利>正文

氟系表面活性剂、涂布组合物、保护剂组合物及固化物制造技术

技术编号:13992238 阅读:120 留言:0更新日期:2016-11-13 23:47
本发明专利技术的目的在于,提供:能够得到即使暴露在碱性的溶液、酸性的溶液中涂膜也不易变色(不易产生水渍)的涂膜的氟系表面活性剂、和使用其的组合物及固化物,提供一种氟系表面活性剂,其特征在于,其是包含聚合物链段(A1)和聚合物链段(A2)的嵌段共聚物,所述聚合物链段(A1)使用包含具有氟原子直接键合的碳原子数为1~6的氟化烷基和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a1)的聚合性单体而得到,所述聚合物链段(A2)使用包含具有桥环烃的骨架和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a2)的聚合性单体而得到。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及能够得到即使暴露在碱性的溶液、酸性的溶液中涂膜也不易变色的(不易产生水渍的)涂膜的氟系表面活性剂和使用其的涂布组合物、保护剂(resist)组合物及这些组合物的固化物。
技术介绍
彩色液晶显示装置、有机EL显示装置中使用的滤色器一般具有红(R)、绿(G)、蓝(B)的各像素、和在其间出于提高显示对比度等的目的形成有黑色矩阵(BM)的基本结构。滤色器的制作中,一般利用旋转涂布、狭缝涂布等涂布方法在玻璃基板上涂布保护剂组合物,干燥后使用掩模进行曝光,接着进行显影而形成着色图案。上述显影使用碱性的显影液作为显影液,未曝光部分通过清洗(冲洗)而洗掉。此时,也有存在于清洗液中的未曝光部的树脂等残渣附着于曝光部的着色图案的固化涂膜表面的问题,对保护剂组合物也要求残渣对着色图案不易附着的特性。作为上述残渣不易附着于着色图案上的滤色器像素形成用组合物,例如公开了一种包含含氟原子的表面活性剂的滤色器像素形成用组合物,所述含氟原子的表面活性剂是使具有反应性官能团的共聚物、和包含与该反应性官能团具有反应性的基团及自由基聚合性基团的化合物反应而得到的,所述具有反应性官能团的共聚物是使具有聚(全氟亚烷基醚)链的自由基聚合性单体和具有聚亚烷基二醇链的自由基聚合性单体共聚而得到的(例如参照专利文献1)。然而,使用专利文献1中记载的滤色器像素形成用组合物得到的着色图案暴露于在前述显影工序中使用的碱性的显影液中时,有产生着色图案(涂膜)变色的现象(水渍)的问题。这种水渍在后烘焙后消失,因此作为产品没有问题,但是在显影后图案化面的外观检查中,作为不均异常被检出,产生无法区分正常品和异常品这样的问题。因此,若在外观检查中降低检查装置的检查灵敏度,则结果引起最终的滤色器产品的成品率降低,成为问题。因此,要求能够得到在显影工序、清洗工序中不易产生水渍的固化涂膜的保护剂组合物。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2010-250256号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术要解决的课题在于,提供能够得到即使暴露在碱性的溶液、酸性的溶液中涂膜也不易变色(不易产生水渍)的涂膜的氟系表面活性剂和使用其的涂布组合物、保护剂组合物及这些组合物的固化物。用于解决问题的方案本专利技术人等进行了深入研究,结果发现:包含如下聚合物链段的嵌段共聚物,成为解决上述课题的氟系表面活性剂等,从而完成了本专利技术,所述聚合物链段为:由具有氟化烷基和聚合性不饱和基团的聚合性单体形成的聚合物链段;由具有桥环烃的骨架和聚合性不饱和基团的聚合性单体(具体而言,包括具有金刚烷环和聚合性不饱和基团的聚合性单体、具有二环戊烷环和聚合性不饱和基团的聚合性单体、具有二环戊烯环和聚合性不饱和基团的聚合性单体、具有降冰片烷环和聚合性不饱和基团的聚合性单体、具有降冰片烯环和聚合性不饱和基团的聚合性单体的聚合性单体)形成的聚合物链段。即,本专利技术提供一种氟系表面活性剂,其特征在于,其是包含聚合物链段(A1)和聚合物链段(A2)的嵌段共聚物,所述聚合物链段(A1)使用包含具有氟原子直接键合的碳原子数为1~6的氟化烷基和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a1)的聚合性单体而得到,所述聚合物链段(A2)使用具有桥环烃的骨架和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a2)的聚合性单体而得到。另外,本专利技术提供一种涂布组合物,其特征在于,含有前述氟系表面活性剂。进而,本专利技术提供一种保护剂组合物,其含有前述氟系表面活性剂。进而,本专利技术提供一种固化物,其特征在于,其是使前述涂布组合物或保护剂组合物固化而得到的。专利技术的效果通过使用本专利技术的氟系表面活性剂,可以提供一种不易向涂膜等固化物上产生水渍的涂布组合物、保护剂组合物。具体实施方式本专利技术的氟系表面活性剂的特征在于,其是包含聚合物链段(A1)和聚合物链段(A2)的嵌段共聚物,所述聚合物链段(A1)使用包含具有氟原子直接键合的碳原子数为1~6的氟化烷基和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a1)的聚合性单体而得到,所述聚合物链段(A2)使用包含具有桥环烃的骨架和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a2)的聚合性单体而得到。本专利技术中,构成嵌段共聚物的聚合物链段(A1)是指聚合性单体(a1)聚合2个以上而得到的链段。为了得到这种链段,可以在不损害本专利技术效果的范围内组合使用聚合性单体(a1)以外的聚合性单体。作为可以组合使用的聚合性单体,例如可以举出:具有聚氧化烯链的聚合性单体、具有碳原子数1~18的直链状烷基的聚合性单体及具有碳原子数1~18的支链状烷基的聚合性单体等。本专利技术中,作为包含聚合性单体(a1)的聚合性单体,优选使用聚合性单体(a1)的含有率高的单体,特别优选聚合性单体(a1)的含有率为100质量%的单体。作为本专利技术中使用的具有氟原子直接键合的碳原子数为1~6的氟化烷基和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a1),如果是分子中具有前述氟化烷基和聚合性不饱和基团的化合物,则可以没有特别限制地使用。此处,氟原子直接键合的碳原子数为1~6的氟化烷基是氟原子直接键合的碳原子数为1~6的全氟烷基或使氢原子的一部分为氟原子的部分氟化烷基。这些氟化烷基中,从作为表面活性剂的效果高的方面出发,优选全氟烷基。进而,优选氟原子直接键合的碳原子数多,特别优选氟原子直接键合的碳原子数为4~6。作为前述聚合性单体(a1)具有的聚合性不饱和基团,例如可以举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、马来酰亚胺等。其中,从原料的获得容易性、容易控制与各种涂布组合物、保护剂组合物中的配混成分的相容性、或者聚合反应性良好的方面出发,优选(甲基)丙烯酰基。作为具有该(甲基)丙烯酰基的具体例,例如可以优选例示下述通式(1)所示的单体。另外,前述聚合性单体(a1)仅使用1种或组合使用2种以上均可。〔上述通式(1)中,R1表示氢原子、氟原子、甲基、氰基、苯基、苄基或-CnH2n-Rf’(n表示1~8的整数,Rf’表示下述式(Rf-1)~(Rf-4)中的任一个基团。),X表示下述式(X-1)~(X-10)中的任一个基团,Rf表示下述式(Rf-1)~(Rf-4)中的任一个基团。〕-OCnH2n- (X-1)-OCH2CH2OCH2- (X-2)〔上述式(X-1)、(X-3)、(X-5)、(X-6)及(X-7)中的n表示1~8的整数。上述式(X-8)、(X-9)及(X-10)中的m表示1~8的整数,n表示0~8的整数。上述式(X-6)及(X-7)中的Rf”表示下述式(Rf-1)~(Rf-4)中的任一个基团。〕-CnF2n+1 (Rf-1)-CnF2nH (Rf-2)-CnF2n-1 (Rf-3)-CnF2n-3 (Rf-4)〔上述式(Rf-1)及(Rf-2)中的n表示1~6的整数。上述式(Rf-3)中的n表示2~6的整数。上述式(Rf-4)中的n表示4~6的整数。〕需要说明的是,本专利技术中,「(甲基)丙烯酸酯」是指甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯的一者或两者,「(甲基)丙烯酸」是指甲基丙烯酸和丙烯酸的一者或两者。本专利技术中使用的聚合性单体(a2)具有桥环烃的骨架和聚合性不饱和基团。在包含本专利技术的氟系表面活性剂的保护剂组本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种氟系表面活性剂,其特征在于,其是包含聚合物链段(A1)和聚合物链段(A2)的嵌段共聚物,所述聚合物链段(A1)使用包含具有氟原子直接键合的碳原子数为1~6的氟化烷基和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a1)的聚合性单体而得到,所述聚合物链段(A2)使用包含具有桥环烃的骨架和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a2)的聚合性单体而得到。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.13 JP 2014-0501761.一种氟系表面活性剂,其特征在于,其是包含聚合物链段(A1)和聚合物链段(A2)的嵌段共聚物,所述聚合物链段(A1)使用包含具有氟原子直接键合的碳原子数为1~6的氟化烷基和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a1)的聚合性单体而得到,所述聚合物链段(A2)使用包含具有桥环烃的骨架和聚合性不饱和基团的聚合性单体(a2)的聚合性单体而得到。2.根据权利要求1所述的氟系表面活性剂,其中,所述聚合性单体(a2)具有的桥环烃的骨架为金刚烷环、二环戊烷环、二环戊烯环、降冰片烷环或降冰片烯环。3.根据权利要求1所述的氟系表面活性剂,其中,所述聚合性单体(a2)具有的桥环烃的骨架为金刚烷环。4.根据权利要求2或3所述的氟系表面活性剂,其中,所述聚合性单体(a2)具有的桥环烃的骨架具有羟基。5.根据权利要求1所述的氟系表面活性剂,其中,所述聚合物链段(A2)是以构成聚合物链段(A2)的全部聚合性单体的质量为基准使用10~100质量%的聚合性单体(a2)而得到的。6.根据权利要求1所述的氟系表面活性剂,其中,所述聚合性单体(a1)为下述通式(1)所示的单体,所述通式(1)中,R1表示氢原子、氟原子、甲基、氰基、苯基、苄基或-CnH2n-Rf’,X表示下述式(X-1)~(X-10)中的任一个基团,Rf表示下述式(Rf-1)~(Rf-4)中的任一个基团,-CnH2n-Rf’中,n表示1~8的整数,Rf’表示下述式(Rf-1)~(Rf-4)中的任一个基团,-OCnH2n- (X-1)-OCH2CH2OCH2- (x-2)所述式(X-1)、(X-3)、(X-5)、(X-6)及(X-7)中的n表示1~8的整数,所述式(X-8)、(X-9)及(X-10)中的m表示1~8的整数,n表示0~8的整数,所述式(X-6)及(X-7)中的...

【专利技术属性】
技术研发人员:清水良平笹本慎高野启
申请(专利权)人:DIC株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1