对盒设备制造技术

技术编号:13959178 阅读:77 留言:0更新日期:2016-11-02 21:24
本发明专利技术提供一种对盒设备,包括对盒腔室和设置在所述对盒腔室内的上吸附台和位于所述对盒腔室内且与所述上吸附台相对设置的下机台,所述上吸附台包括上机台和设置在所述上机台上的吸附层,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件,所述辅助吸附件包括位于所述辅助吸附件一端的吸附盘,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和所述吸附层,每个所述通孔对应一个所述辅助吸附件,所述辅助吸附件设置在所述通孔中,且所述吸附盘的吸附表面能够与所述吸附层的吸附表面平齐。在利用所述对盒设备对盒两个基板时,多个辅助吸附件可以和吸附层一起吸附基板,增加了基板的受力点的个数,不同的受力点受力后互相协调,基板不容易产生变形。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示装置的制造设备,具体地,涉及一种对盒设备
技术介绍
显示面板通常包括相对设置的两个基板,例如,液晶显示面板包括阵列基板和彩膜基板。因此在制造显示面板时的一个步骤为将两个基板对盒。例如,将阵列基板和彩膜基板对盒的步骤包括:在密闭的真空腔体中,通过上吸附台和下机台分别吸附阵列基板和彩膜基板,驱动上吸附台和下机台相向移动,以将阵列基板和彩膜基板压合在一起。所述上吸附台和所述下机台上均间隔设置的真空吸盘。当吸附力较大时,可能会造成基板的变形,而基板的变形则可能会导致黑间隔(gap)、白间隔等缺陷。因此,如何防止在将基板对盒的过程中造成基板变形成为本领域亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种对盒设备,利用所述对盒设备对盒显示面板的两个基板时,几乎不会造成基板变形。为了实现上述目的,本专利技术提供一种对盒设备,所述对盒设备包括对盒腔室和设置在所述对盒腔室内的上吸附台和位于所述对盒腔室内且与所述上吸附台相对设置的下机台,所述上吸附台包括上机台和设置在所述上机台上的吸附层,其中,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件,所述辅助吸附件包括位于所述辅助吸附件一端的吸附盘,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和所述吸附层,每个所述通孔对应一个所述辅助吸附件,所述辅助吸附件设置在所述通孔中,且所述吸附盘的吸附表面能够与所述吸附层的吸附表面平齐。优选地,所述辅助吸附件还包括吸附杆,每个所述吸附杆的第一端均设置有一个所述吸附盘,所述吸附盘包括盘体和设置在所述盘体的下表面上的吸附件,所述盘体的上表面与所述吸附杆铰接,所述吸附盘还包括设置在所述盘体的上表面上的平衡陀螺仪,所述吸附杆的至少一部分位于所述第一通孔中。优选地,所述吸附件包括气囊和/或静电吸附层。优选地,所述辅助吸附机构还包括安装架,所述安装架位于所述上机台的上方,所述吸附杆的第二端穿过所述通孔与所述安装架相连。优选地,所述主吸附层由物理吸附材料制成。优选地,所述下机台上间隔设置有多个沟槽,所述沟槽贯穿所述下机台的长度方向或宽度方向,所述对盒设备还包括送料叉,所述送料叉包括多个叉齿,相邻两个所述沟槽之间的间距与相邻两个所述叉齿之间的距离相匹配,以使得所述叉齿能够进入相应的所述沟槽中。优选地,所述对盒设备还包括驱动机构,所述驱动机构用于驱动所述上吸附台和所述下机台中的至少一者,以使得所述上吸附台和所述下机台之间产生互相远离或互相靠近的相对运动。优选地,所述对盒设备还包括压力检测机构,所述压力检测机构用于检测待对盒的两块基板之间的压力值,并且,所述压力检测机构能够在所述压力值达到预定值时向所述驱动机构发出第一控制信号,所述驱动机构能够在接收到所述第一控制信号后停止驱动所述上吸附台和所述下机台中的任意一者。优选地,所述对盒设备还包括对位装置,所述驱动装置还用于移动设置在所述下机台上的基板,所述对位装置用于判断所述下机台上的基板与所述主吸附机构上的基板是否对准,当所述对位装置判定所述上机台上的基板与所述主吸附机构上的基板对准时,能够向所述驱动机构发出第二控制信号,所述驱动机构能够在接收到所述第二控制信号后停止移动所述下机台上的基板。优选地,所述对盒设备还包括用于对所述对盒腔室抽真空的抽真空装置。在利用所述对盒设备对盒两个基板时,多个辅助吸附件可以和吸附层一起吸附基板,增加了基板的受力点的个数,不同的受力点受力后互相协调,基板不容易产生变形。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术,但并不构成对本专利技术的限制。在附图中:图1是本专利技术所提供的对盒设备的结构示意图;图2是吸附盘的仰视示意图;图3是吸附盘的俯视示意图;图4是下机台与送料叉的示意图。附图标记说明100:对盒腔室 210:吸附层220:辅助吸附件 221:吸附盘222:吸附杆 300:抽真空装置400:下机台 221a:盘体221b:气囊 221c:静电吸附件221d:平衡陀螺仪 10:基板具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术,并不用于限制本专利技术。如图1所示,本专利技术提供一种对盒设备,所述对盒设备包括对盒腔室100、设置在对盒腔室100内的上吸附和位于对盒腔室100内且与所述上吸附台相对设置的下机台400,所述上吸附台包括上机台(未示出)和设置在所述上机台上的吸附层210,其中,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件220,该辅助吸附件220包括位于该辅助吸附件220第一端的吸附盘221,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和吸附层210,每个所述通孔对应一个辅助吸附件220,该辅助吸附件220设置在所述通孔中,且吸附盘221的吸附表面能够与吸附层210的吸附表面平齐。在利用所述对盒设备对盒两个基板时,多个辅助吸附件220可以和吸附层210一起吸附基板10,增加了基板10的受力点的个数,不同的受力点受力后互相协调,基板10不容易产生变形。本专利技术所提供的对盒设备尤其适用于对柔性显示面板的两个基板进行对盒。柔性显示面板的基板为柔性基板,当在不同位置处收到吸附力时,容易产生变形。由于本专利技术所提供的对盒设备产生的受力点个数较多,各个吸附点之间互相协调,不容易产生变形。在本专利技术中,对辅助吸附件220的具体结构并没有特殊的限制,作为本专利技术的一种具体实施方式,如图1所示,辅助吸附件220还包括吸附杆222,每个吸附杆222的第一端均设置有一个吸附盘221。如图2所示,吸附盘221包括盘体221a和设置在该盘体221a的下表面上的吸附件。如图3所示,盘体221a的上表面与吸附杆222的第一端铰接,吸附盘221还包括设置在盘体221a的上表面上的平衡陀螺仪221d。由于盘体221a与吸附杆222铰接,因此,盘体221a可以相对于吸附杆222转动。当吸附基板10时,吸附层210以及吸附盘221对基板10的吸附力可以造成基板10的各个受力点之间互相牵制,由于盘体221a可以相对于吸附杆222转动,因此,基板10的各个受力点之间能够互相协调,从而可以抵消基板10的变形。并且,盘体221a上设置有平衡陀螺仪221d,从而可以保证吸附盘221始终处于水平状态。为了增加盘体221a相对于吸附杆222转动的角度,优选地,盘体221a的上表面与吸附杆222球铰接。在本专利技术中,对吸附件的具体结构并没有特殊的限定。例如,所述吸附件可以包括气囊221b和/或静电吸附层221c。在图2中所示的实施方式中,盘体221a上设置了两个吸附件,一个是气囊221b,另一个是静电吸附层221c。为了便于安装,优选地,所述辅助吸附机构还包括安装架(未示出),所述安装架位于所述上机台的上方,所述吸附杆的第二端穿过所述通孔与所述安装架相连。在本专利技术中,对主吸附层210的具体结构并没有特殊限制。例如,主吸附层210可以包括多个真空吸盘。优选地,所述主吸附层由物理吸附材料制成。具体地,物理吸附材料是一种纳米橡胶材料,经过挤压,纳米橡胶材料的表面紧紧贴附在基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对盒设备,所述对盒设备包括对盒腔室和设置在所述对盒腔室内的上吸附台和位于所述对盒腔室内且与所述上吸附台相对设置的下机台,所述上吸附台包括上机台和设置在所述上机台上的吸附层,其特征在于,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件,所述辅助吸附件包括位于所述辅助吸附件一端的吸附盘,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和所述吸附层,每个所述通孔对应一个所述辅助吸附件,所述辅助吸附件设置在所述通孔中,且所述吸附盘的吸附表面能够与所述吸附层的吸附表面平齐。

【技术特征摘要】
1.一种对盒设备,所述对盒设备包括对盒腔室和设置在所述对盒腔室内的上吸附台和位于所述对盒腔室内且与所述上吸附台相对设置的下机台,所述上吸附台包括上机台和设置在所述上机台上的吸附层,其特征在于,所述对盒设备还包括多个辅助吸附件,所述辅助吸附件包括位于所述辅助吸附件一端的吸附盘,所述上吸附台上设置有多个通孔,所述通孔贯穿所述上机台和所述吸附层,每个所述通孔对应一个所述辅助吸附件,所述辅助吸附件设置在所述通孔中,且所述吸附盘的吸附表面能够与所述吸附层的吸附表面平齐。2.根据权利要求1所述的对盒设备,其特征在于,所述辅助吸附件还包括吸附杆,每个所述吸附杆的第一端均设置有一个所述吸附盘,所述吸附盘包括盘体和设置在所述盘体的下表面上的吸附件,所述盘体的上表面与所述吸附杆铰接,所述吸附盘还包括设置在所述盘体的上表面上的平衡陀螺仪,所述吸附杆的至少一部分位于所述第一通孔中。3.根据权利要求2所述的对盒设备,其特征在于,所述吸附件包括气囊和/或静电吸附层。4.根据权利要求1至3中任意一项所述的对盒设备,其特征在于,所述辅助吸附机构还包括安装架,所述安装架位于所述上机台的上方,所述吸附杆的第二端穿过所述通孔与所述安装架相连。5.根据权利要求1至3中任意一项所述的对盒设备,其特征在于,所述主吸附层由物理吸附材料制成。6.根据权利要求1至3中任意一项所述的对盒设备,其特征在于,所述下机台上间隔设置有多个沟...

【专利技术属性】
技术研发人员:井杨坤
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司合肥京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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