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一种石墨烯修饰的复合平板pH传感器制备方法技术

技术编号:13894745 阅读:52 留言:0更新日期:2016-10-24 21:42
本发明专利技术提供了一种石墨烯修饰的复合平板pH传感器制备方法,在正反面分别开槽并涂覆铜箔的基板上,通过与铜箔连线引出导线,通过微机械剥离法分别在上下铜箔表面沉积第一石墨烯膜和第二石墨烯膜;通过磁控溅射法,分别在第一石墨烯膜表面沉积Sb层和Sb2O3层,然后用旋涂法在Sb2O3层外表面涂覆Nafion层,制得工作电极;通过磁控溅射法,在第二石墨烯膜表面沉积Ag层,然后用FeCl3溶液浸泡,在表面生成AgCl层;最后用微机械剥离法在AgCl层表面沉积第三石墨烯膜,制得参比电极。所述的石墨烯修饰的复合pH传感器制备方法制备的pH传感器,具有响应快,稳定性好,重现性好等优点,可用于具有一定含水量的固体、半固体、糊状物的pH测试,以及溶液的pH测试。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及化学传感器的制备领域,更具体的说是涉及一种石墨烯修饰的复合平板pH传感器制备方法
技术介绍
不论是工农业生产还是日常生活,pH值都是一个重要的理化参数,而且越来越受到国内外学者的关注。目前,国内外对于pH测量方法的研究,主要分为电化学测量方法和非电化学测量方法两大类。电化学测量方法具有测量快速,设备轻便,成本低廉等优点,是最常用的pH值测量方法。电化学pH测试系统由参比电极和工作电极组成。为实现对被测体系的原位快速准确测量,及传感器微型化智能化的发展需求,高性能的复合pH传感器成为研究热点和焦点之一,对于提高工农业生产效率具有重要推广应用价值。目前,对于复合pH传感器制备方法的研究有很多,如2012年吕广梅等在其论文《一种全固态pH传感器的研制》中提到了一种采用浸渍涂层法制备锑/氧化锑pH电极,压片法制备新型全固态参比电极,并结合制备一种新型固体填充的全固态复合锑/氧化锑pH电极,能够承受较大压力,完成对地下深井水的pH在线测量。2013年D.K.Maurya等在其论文《High-sensitivity pH sensor employing a sub-micron ruthenium oxide thin-film in conjunction with a thick reference electrode》中提到以氧化铝陶瓷为基底材料,采用磁控溅射技术制备了以Ag/AgCl为参比电极,次微米的氧化钌薄膜电极为工作电极的全固态复合pH电极,在水溶液中的响应斜率接近理论能斯特响应;M.Glanc-Gostkiewicz等在其论文《Performance of miniaturised thick-film solid state pH sensors》中提到采用厚膜印刷技术,结合丝网印刷氧化钌离子电极和丝网印刷Ag/AgCl参比电极,制备了一种小型的的全固态pH传感器,提高电极的耐用性。2014年Libu Manjakkal等在其论文《Fabrication of thick film sensitive RuO2-TiO2and Ag/AgCl/KCl reference electrodes and their application for pH measurements》中提到采用丝网印刷技术在氧化铝基底上制备了基于氧化钌氧化钛pH敏感膜和Ag/AgCl/KCl参比电极的全固态复合pH传感器,降低了电极成本,方法简单易实现。然而,以上研究主要针对溶液环境的pH测量,对于有一定含水量的固体、半固体或糊状物等的适应性并未涉及。又如中国专利公开号CN104007158A全固态一体式pH复合电极装置及其电极的制备方法,公开了一种全固态的pH复合电极,具有一定的机械强度和穿刺能力,可用于对固体、半固体、糊状物,以及溶液的pH测试,但是其材料导电性能具有一定的局限性,且制备方法是粗放式的,
重现性差,无法精确控制敏感材料的沉积过程;中国专利公开号CN101236170A基于纳米氧化钨的集成化全固态pH电化学传感器及其制备方法,公开了一种集成化的平板式全固态pH电化学传感器,但是测量精度不高,响应时间较长,对一定含水量的固体、半固体、糊状物和溶液的pH实时测试适应性差。
技术实现思路
本专利技术针对已有pH传感器技术的不足,提出一种石墨烯修饰的复合平板pH传感器制备方法,用于实现对有一定含水量的土壤、栽培基质,以及溶液的pH测试。本专利技术是通过以下技术手段实现上述技术目的的。一种石墨烯修饰的复合平板pH传感器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1.制作基板:在基板正反面分别开槽,并在所述槽的底部分别涂覆第一铜箔和第二铜箔;在基板内印刷引线,使引线分别连接第一铜箔和第二铜箔;S2.制作工作电极:通过微机械剥离法在第一铜箔表面沉积第一石墨烯膜;然后通过射频磁控溅射的方法,在第一石墨烯膜表面沉积Sb层;再通过磁控溅射的方法在Sb层表面沉积Sb2O3层;最后用匀胶机旋涂法在Sb2O3层外表面涂覆Nafion层;第一石墨烯膜、Sb层、Sb2O3层和Nafion层构成工作电极,其中第一石墨烯膜与第一铜箔导通;S3.制作参比电极:通过微机械剥离法在第二铜箔表面沉积第二石墨烯膜,然后通过射频磁控溅射的方法在第二石墨烯膜表面沉积Ag层;再用FeCl3溶液浸泡Ag层,从而在Ag层表面生成AgCl层;AgCl层未完全覆盖Ag层,最后用微机械剥离法在AgCl层表面沉积第三石墨烯膜;第二石墨烯膜、Ag层、AgCl层和第三石墨烯膜构成参比电极。进一步地,所述S2中沉积Sb层是以Sb靶材、Ar作为保护气进行射频磁控溅射;溅射条件为室温下溅射,溅射时间40~50min,气体流量39sccm,真空度3×10-4Pa,溅射功率为65W,工作气压为1Pa。进一步地,所述S2中射频磁控溅射沉积Sb2O3层是以Sb为靶材、Ar作为保护气,通入O2,Ar与O2的浓度比为8:2,沉积时间为50min。进一步地,所述S3中沉积Ag层是以Ag为靶材、Ar作为保护气进行射频磁控溅射,溅射条件为室温下溅射,溅射时间20~30min,气体流量30sccm,真空度3×10-4Pa,溅射功率为18W,工作气压为1Pa。进一步地,所述S3中FeCl3溶液浓度0.1mol/L,浸泡时间30s。进一步地,Sb层厚度230~250nm,Sb2O3层厚度40~60nm,Nafion层厚度1.5~1.9μm。进一步地,Ag层厚度140~160nm,AgCl层厚度15~25nm。本专利技术采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是:(1)本专利技术制备的复合平板pH传感器以石墨烯作为基底材料,导电性大大增强,减少响应时间。(2)参比电极以石墨烯做表面修饰,隔绝外部干扰,同时达到电子传导的目的,提高传感器响应灵敏度。(3)工作电极以锑和氧化锑作为传感材料,经过Nafion修饰,抗干扰能力大大提高。附图说明图1是石墨烯修饰的复合平板pH传感器结构示意图。图2是工作电极部分结构示意图。图3是参比电极部分结构示意图。图中:1-工作电极,2-第一铜箔,3-引线,4-基板,5-第二铜箔,6-参比电极,11-Nafion层,12-Sb2O3层,13-Sb层,14-第一石墨烯膜,61-第二石墨烯膜,62-Ag层,63-AgCl层,64-第三石墨烯膜。具体实施方式下面结合附图以及具体实施例对本专利技术作进一步的说明,但本专利技术的保护范围并不限于此。本专利技术所述的石墨烯修饰的复合平板pH传感器如图1所示,由工作电极1、参比电极6和基板4组成。如图2所示,所述的工作电极1底部通过第一石墨烯膜14与上铜箔2连接,并导通;第一石墨烯膜14上方依次沉积有Sb层13和Sb2O3层12,Sb2O3层12外表面涂覆有Nafion层11。如图3所示,所述的参比电极6包括第二石墨烯膜61,第二石墨烯膜61沉积于第二铜箔5表面,第二石墨烯膜61表面依次沉积有Ag层62和AgCl层63,AgCl层63外表面沉积有第三石墨烯膜64。所述的石墨烯修饰的复合平板pH传感器的制备方法包括以下步骤:制作基板4:在基板4正反面分别开槽,并在所述槽的底部分别涂覆第一铜箔2和第二铜箔5;在基板4内印刷本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种石墨烯修饰的复合平板pH传感器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1.制作基板(4):在基板(4)正反面分别开槽,并在所述槽的底部分别涂覆第一铜箔(2)和第二铜箔(5);在基板(4)内印刷引线,使引线分别连接第一铜箔(2)和第二铜箔(5);S2.制作工作电极(1):通过微机械剥离法在第一铜箔(2)表面沉积第一石墨烯膜(14);然后通过射频磁控溅射的方法,在第一石墨烯膜(14)表面沉积Sb层(13);再通过磁控溅射的方法在Sb层(13)表面沉积Sb2O3层(12);最后用匀胶机旋涂法在Sb2O3层外表面涂覆Nafion层(11);第一石墨烯膜(14)、Sb层(13)、Sb2O3层(12)和Nafion层(11)构成工作电极(1),其中第一石墨烯膜(14)与第一铜箔(2)导通;S3.制作参比电极(6):通过微机械剥离法在第二铜箔(2)表面沉积第二石墨烯膜(61),然后通过射频磁控溅射的方法在第二石墨烯膜(61)表面沉积Ag层(62);再用FeCl3溶液浸泡Ag层(62),从而在Ag层(62)表面生成AgCl层(63);AgCl层(63)未完全覆盖Ag层(62),最后用微机械剥离法在AgCl层(63)表面沉积第三石墨烯膜(64);第二石墨烯膜(61)、Ag层(62)、AgCl层(63)和第三石墨烯膜(64)构成参比电极(6)。...

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯修饰的复合平板pH传感器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1.制作基板(4):在基板(4)正反面分别开槽,并在所述槽的底部分别涂覆第一铜箔(2)和第二铜箔(5);在基板(4)内印刷引线,使引线分别连接第一铜箔(2)和第二铜箔(5);S2.制作工作电极(1):通过微机械剥离法在第一铜箔(2)表面沉积第一石墨烯膜(14);然后通过射频磁控溅射的方法,在第一石墨烯膜(14)表面沉积Sb层(13);再通过磁控溅射的方法在Sb层(13)表面沉积Sb2O3层(12);最后用匀胶机旋涂法在Sb2O3层外表面涂覆Nafion层(11);第一石墨烯膜(14)、Sb层(13)、Sb2O3层(12)和Nafion层(11)构成工作电极(1),其中第一石墨烯膜(14)与第一铜箔(2)导通;S3.制作参比电极(6):通过微机械剥离法在第二铜箔(2)表面沉积第二石墨烯膜(61),然后通过射频磁控溅射的方法在第二石墨烯膜(61)表面沉积Ag层(62);再用FeCl3溶液浸泡Ag层(62),从而在Ag层(62)表面生成AgCl层(63);AgCl层(63)未完全覆盖Ag层(62),最后用微机械剥离法在AgCl层(63)表面沉积第三石墨烯膜(64);第二石墨烯膜(61)、Ag层(62)、AgCl层(63)和第三石墨烯膜(64)构成参比电极(6)。2.根据权利要求1所述的一种石墨烯修饰的复合平板pH传感器的制备方法,其特征在于:所述S2中沉积...

【专利技术属性】
技术研发人员:张西良徐坤崔守娟耿妙妙李萍萍张世庆
申请(专利权)人:江苏大学
类型:发明
国别省市:江苏;32

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