用于制造电荷耗散表面层的方法技术

技术编号:13707788 阅读:160 留言:0更新日期:2016-09-15 00:58
本发明专利技术涉及一种在旨在用于太空和其它极端环境中的由介电聚合材料或基于聚合物的复合材料制成或组成的部件上制造电荷耗散表面层的方法,所述部件具有至少一个表面,特别是具有两个相对的表面,所述表面各自具有平面形状或三维形状。所述方法包括以下步骤:在真空环境中,通过离子轰击使所述部件的至少一个表面碳化,同时以动态方式更新表面,所述步骤利用了在稀有气体的气态线性大电流技术离子束源中形成的离子束以及在所述离子束气体掺混物中填加的预定量的含碳气体来轰击所述至少一个表面以便获得在电荷耗散范围内具有均一表面电阻率的经处理的碳化表面层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在旨在用于太空中的由基于介电聚合物的材料制成或组成的部件上制造电荷耗散表面层的方法及此类部件。具体地,本专利技术涉及具有成型和/或带槽聚合物表面的介电聚合材料的表面处理、包埋有无机颗粒的表面的处理、或具有无机微粒或纤维填料的介电聚合物复合材料的处理的领域。基于聚合物的装置,如太空船或太阳能电池阵构件,例如在GEO空间中该电荷耗散作用和其它功能特性具有长期耐久性的扁平电缆导体(FCC),或在GEO空间和其它极端环境中该电荷耗散作用具有长期耐久性的基于聚合物复合材料的材料和装置,需要电荷耗散表面特性。
技术介绍
聚合物的离子轰击被广泛用于电子装置和其它装置制造行业,主要是用于微电子装置中的光阻剥离;在聚合物中植入离子以形成光波导;进行等离子表面处理以增强沉积于聚合物上的金属的粘附作用和印刷性的改善;提高聚合物的显微硬度等。在许多情况下,介电聚合物的中等剂量或高剂量离子轰击由于在原子碰撞时发生能量转移而引起表面交联或链破坏,以及表面碳化。已发现,许多表面特性改变与由于在真空中进行聚合物表面的离子轰击和选择性溅射而引起组成、结构以及很常见的表面形态的变换相关。由于在真空中离子本文档来自技高网...
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【技术保护点】
一种在旨在用于太空或其它极端环境中的由基于介电聚合物的材料或复合材料制成或组成的部件上制造电荷耗散表面层的方法,所述部件具有至少一个表面,特别是具有两个相对的表面,所述表面各自具有平面形状或三维形状,所述方法包括以下步骤:‑在真空环境中,通过离子轰击使所述部件的至少一个表面碳化,同时更新表面,所述步骤利用了在稀有气体的气态线性大电流技术离子束源中形成的离子束以及在相同的离子束气体掺混物中不断添加的预定量的含碳气体来轰击所述至少一个表面以便获得在电荷耗散范围内具有均一表面电阻率的经处理的碳化表面层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.21 EP 13005467.91.一种在旨在用于太空或其它极端环境中的由基于介电聚合物的材料或复合材料制成或组成的部件上制造电荷耗散表面层的方法,所述部件具有至少一个表面,特别是具有两个相对的表面,所述表面各自具有平面形状或三维形状,所述方法包括以下步骤:-在真空环境中,通过离子轰击使所述部件的至少一个表面碳化,同时更新表面,所述步骤利用了在稀有气体的气态线性大电流技术离子束源中形成的离子束以及在相同的离子束气体掺混物中不断添加的预定量的含碳气体来轰击所述至少一个表面以便获得在电荷耗散范围内具有均一表面电阻率的经处理的碳化表面层。2.根据权利要求1所述的方法,其中所述离子束具有2.5keV至3keV的能量。3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述表面层包含在室温下范围在每平方数十兆欧的电荷耗散。4.根据前述权利要求中的一项所述的方法,其中使用乙炔作为含碳气体。5.根据前述权利要求中的一项所述的方法,其中在所述轰击所述至少一个表面的期间,在真空环境中对所述部件的基于聚合物的材料进行脱气,随后加热到范围在50℃与75℃之间,特别是65℃的温度,从而缩短处理时间并增加碳化质量。6.根据前述权利要求中的一项所述的方法,其中通过控制性碳化并同时更新基于聚合物或基于复合材料的材料的所述至少一个表面,能够通过仅使用惰性气体和已存在于所述基于聚合物的表面中的成分获得电荷耗散特性。7.根据前述权利要求中的一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员:C·诺迈尔C·齐默曼Z·伊斯坎德罗J·克莱曼
申请(专利权)人:空中客车DS有限责任公司完整性测试实验室公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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