基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置及方法制造方法及图纸

一种光纤光栅制作技术领域的基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置及方法，该装置包括：伽马辐射源、掩模板、刻写平台和光纤绕制器，其中：刻写平台为顶部开口的半封闭盒式结构，刻写平台开口处设置掩模板，刻写平台内部设置有光纤绕制器，伽马辐射源、掩模板和光纤绕制器从上至下依次相对设置；所述的光纤绕制器包括：光纤盘和位于光纤盘上方左右两侧水平设置的滚轴。本发明专利技术采用的伽马辐射源穿透性强，在光纤光栅刻写时无需剥离和重建涂覆层，避免对光纤强度及损耗造成影响，确保了光纤光栅的稳定性；同时伽马辐射源作用面积大，多条光纤能够并行排布同时刻写，便于大规模批量生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及的是一种光纤光栅制作领域的技术，具体是一种基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置及方法。
技术介绍
光纤光栅具有广泛的应用。在通信领域，光纤布拉格光栅可作为窄带滤波器，对光纤色散进行补偿；长周期光纤光栅可作为带阻滤波器。在传感领域，光纤光栅作为分布式传感器，可实现对温度、应变、电流、磁场、位移、辐射剂量等物理量的测量。目前的光纤光栅制作技术中一般采用紫外光源作为成栅光源，紫外光可在大部分类型的光纤上不同程度地写入光栅。由于光纤涂敷层对紫外光的吸收率比较高，直接刻写会破坏涂敷层，所以刻写光栅前需要剥离光纤的涂敷层，刻写结束后再重建涂敷层。上述过程会对光纤光栅的性能产生影响。目前的直接写入法主要通过更换光纤涂覆层材料实现，即采用对紫外光透明的材料作为光纤涂覆层，包括丙烯酸酯涂覆层和General Electric RTV615硅胶涂覆层。该技术更换涂覆层对光纤光栅的机械强度造成不可逆的影响；更换涂覆层使制造效率大幅度降低。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中由于涂覆层的更换或重建导致的光纤光栅的受损，使得其机械性能产生影响的不足，提出了一种基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置及方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置，其特征在于，包括：伽马辐射源、掩模板、刻写平台和光纤绕制器，其中：刻写平台为顶部开口的半封闭盒式结构，刻写平台开口处设置掩模板，刻写平台内部设置有光纤绕制器，伽马辐射源、掩模板和光纤绕制器从上至下依次相对设置；所述的光纤绕制器包括：光纤盘和位于光纤盘上方左右两侧水平设置的滚轴，其中：光纤盘上的光纤绕过两根滚轴呈水平状态。

【技术特征摘要】
2016.05.04 CN 20161029026061.一种基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置，其特征在于，包括：伽马辐射源、掩模板、刻写平台和光纤绕制器，其中：刻写平台为顶部开口的半封闭盒式结构，刻写平台开口处设置掩模板，刻写平台内部设置有光纤绕制器，伽马辐射源、掩模板和光纤绕制器从上至下依次相对设置；所述的光纤绕制器包括：光纤盘和位于光纤盘上方左右两侧水平设置的滚轴，其中：光纤盘上的光纤绕过两根滚轴呈水平状态。2.根据权利要求1所述的基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置，其特征是，所述的伽马...

【专利技术属性】
技术研发人员：何祖源，马麟，徐阳，姜寿林，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：上海;31