【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及农业种植
,特别是涉及一种西瓜的高产栽培方法。
技术介绍
西瓜,西瓜堪称“瓜中之王”,原产于非洲。唐代引入新疆,五代时期引入中土;属葫芦科,有多个种子。中国南北皆有西瓜栽培,西瓜是一种双子叶开花植物,植株形状像藤蔓,叶子呈羽毛状。它所结出的果实是瓠果,为葫芦科瓜类所特有的一种肉质果,是由3个心皮具有侧膜胎座的下位子房发育而成的假果。西瓜主要的食用部分为发达的胎座。果实外皮光滑,呈绿色或黄色,果瓤多汁为红色或黄色,罕见白瓤。西瓜性寒,味甘甜;它有清热解暑、生津止渴、利尿除烦的功效。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的不足,本专利技术提供了一种西瓜的高产栽培方法。本专利技术所采用的技术方案是:一种西瓜的高产栽培方法,所述栽培方法包括如下: 选择偏酸性沙壤土,在初春时对土地深翻2-3次,深度为30-35mm,间隔为一个月,每亩施放腐熟有机肥2500-3000千克,复合肥30千克,并撒沤锯末与石灰粉混合物80-90千克,混合重量比2:3,整平耙细作畦,畦宽3-3.5米,畦沟深0.4-0.5米,畦沟宽40-50厘米,并在畦面上起双垄,垄宽0.8-1米,垄高0.3米,垄间留浅沟,宽0.3米,深0.1米; 在畦面的双垄上进行穴植,株距0.7-0.8米,亩植500-560株,行距大于1.5米,播种深度4-4.5厘米,每穴种植1-2颗,种子要平放,并覆薄层草木灰,然后浇透水,等待出苗; 除去田间杂草,定根保持土壤湿润,选晴天的早晨、傍晚浇水,浇水量要小,浇水要勤,每亩浇水1000-1200千克,浇水间隔2-3天,坐果前摘除侧蔓,每株西瓜采取株距范围内环形 ...
【技术保护点】
一种西瓜的高产栽培方法,其特征在于,所述栽培方法包括如下:选择偏酸性沙壤土,在初春时对土地深翻2‑3次,深度为30‑35mm,间隔为一个月,每亩施放腐熟有机肥2500‑3000千克,复合肥30千克,并撒沤锯末与石灰粉混合物80‑90千克,混合重量比2:3,整平耙细作畦,畦宽3‑3.5米,畦沟深0.4‑0.5米,畦沟宽40‑50厘米,并在畦面上起双垄,垄宽0.8‑1米,垄高0.3米,垄间留浅沟,宽0.3米,深0.1米;在畦面的双垄上进行穴植,株距0.7‑0.8米,亩植500‑560株,行距大于1.5米,播种深度4‑4.5厘米,每穴种植1‑2颗,种子要平放,并覆薄层草木灰,然后浇透水,等待出苗;除去田间杂草,定根保持土壤湿润,选晴天的早晨、傍晚浇水,浇水量要小,浇水要勤,每亩浇水1000‑1200千克,浇水间隔2‑3天,坐果前摘除侧蔓,每株西瓜采取株距范围内环形引蔓,同时主蔓相隔7‑8节进行压蔓;从播种到长至2片真叶时进行第一次追肥,15天后进行第二次追肥,每次追肥量为300‑400千克/亩沼液后,并喷洒1000‑1500千克水,在1‑2个瓜坐果后,应重点追施15千克三元素复合肥和22千克 ...
【技术特征摘要】
1.一种西瓜的高产栽培方法,其特征在于,所述栽培方法包括如下: 选择偏酸性沙壤土,在初春时对土地深翻2-3次,深度为30-35mm,间隔为一个月,每亩施放腐熟有机肥2500-3000千克,复合肥30千克,并撒沤锯末与石灰粉混合物80-90千克,混合重量比2:3,整平耙细作畦,畦宽3-3.5米,畦沟深0.4-0.5米,畦沟宽40-50厘米,并在畦面上起双垄,垄宽0.8-1米,垄高0.3米,垄间留浅沟,宽0.3米,深0.1米; 在畦面的双垄上进行穴植,株距0.7-0.8米,亩植500-560株,行距大于1.5米,播种深度4-4.5厘米,每穴种植1-2颗,种子要平放,并覆薄层草木灰,然后浇透水,等待出苗; 除去田间杂草,定根保持土壤湿润,选晴天的早晨、傍晚浇水,浇水量要小,浇水要勤...
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