以金属纳米线为基底的透明导电涂层制造技术

已发现聚合物粘合剂(例如交联的聚合物粘合剂)在形成包含金属纳米结构化网络的高质量透明导电涂层或膜中为有效膜组分。所述金属纳米线膜可有效地图案化且所述图案化可以不同图案化区之间具有高度光学相似性进行。金属纳米结构化网络经由熔合(fusing)所述金属纳米线以形成导电网络来形成。用于图案化的方法包括例如使用交联辐射来使所述聚合物粘合剂进行图案交联。将熔合溶液施加到所述图案化膜可产生低电阻区和电阻区。熔合之后，所述网络可提供所要的低薄片电阻，同时保持良好光学透明度和低混浊度。聚合物外涂层可进一步使导电膜稳定且提供所要的光学作用。所述图案化膜可用于如触控传感器的装置中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】201480071606

【技术保护点】
一种经涂布的衬底，其包含衬底与在所述衬底的至少一部分上的导电涂层，所述导电涂层包含纳米结构化金属网络和经交联的聚合物粘合剂，且具有不超过约270欧姆/平方的薄片电阻、至少约90％的光学透射率和不超过约1％的混浊度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.22 US 14/087,6691.一种经涂布的衬底，其包含衬底与在所述衬底的至少一部分上的导电涂层，所述导电涂层包含纳米结构化金属网络和经交联的聚合物粘合剂，且具有不超过约270欧姆/平方的薄片电阻、至少约90％的光学透射率和不超过约1％的混浊度。2.根据权利要求1所述的经涂布的衬底，其中所述导电涂层覆盖所述衬底表面的一部分，且其中所述衬底表面的另一部分包含电绝缘涂层，所述电绝缘涂层包含聚合物粘合剂和金属纳米线，且具有至少约20,000欧姆/平方的薄片电阻、至少约90％的光学透射率和不超过约1％的混浊度。3.根据权利要求2所述的经涂布的衬底，其中所述衬底包含聚合物薄片，其中所述纳米结构化金属网络包含银且其中所述图案在普通室内照明下近似于不可见。4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的经涂布的衬底，其中所述聚合物粘合剂包含聚氨基甲酸酯、丙烯酸树脂、丙烯酸共聚物、纤维素或其混合物。5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的经涂布的衬底，其中所述纳米结构化金属网络包含银且所述表面上的负载为约0.5mg/m2到约200mg/m2。6.根据权利要求1到5中任一权利要求所述的经涂布的衬底，其中所述涂层的薄片电阻不超过约150欧姆/平方。7.根据权利要求1到6中任一权利要求所述的经涂布的衬底，其中所述涂层的薄片电阻不超过约95欧姆/平方。8.根据权利要求1到7中任一权利要求所述的经涂布的衬底，其中所述涂层具有至少约94％的光学透射率和不超过约0.9％的混浊度。9.一种金属纳米线墨水，其包含溶剂、约0.01重量％(wt％)到约2重量％的金属纳米线、约0.02重量％到约5重量％的可交联有机聚合物以及约0.05重量％到约2重量
\t％的增稠剂。10.一种导电膜处理系统，其包含金属纳米线墨水和熔合溶液(fusing solution)，其中所述金属纳米线墨水包含溶剂、约0.01重量％(wt％)到约2重量％的金属纳米线、约0.02重量％到约5重量％的可交联有机聚合物以及约0.05重量％到约2重量％的处理添加剂，且所述熔合溶液包含溶剂和助熔剂。11.根据权利要求10所述的金属纳米线墨水，其中所述处理添加剂包含湿润剂、聚合物分散剂、增稠剂或其混合物。12.根据权利要求10或权利要求11所述的金属纳米线墨水，其中所述处理添加剂包含增稠剂。13.根据权利要求10到12中任一权利要求所述的金属纳米线墨水，其中所述可交联有机聚合物包含聚氨基甲酸酯、丙烯酸树脂、丙烯酸共聚物、纤维素或其混合物。14.根据权利要求10到13中任一权利要求所述的金属纳米线墨水，其进一步包含约0.0005重量％到约1重量％的交联剂。15.根据权利要求10到14中任一权利要求所述的金属纳米线墨水，其中所述溶剂为水性溶剂(aqueous solvent)。16.根据权利要求10到15中任一权利要求所述的金属纳米线墨水，其中所述助熔剂包含卤阴离子、还原剂、碱或其适合组合。17.根据权利要求10到16中任一权利要求所述的金属纳米线墨水，其包含约0.05重量％到约1重量％的金属纳米线、约0.05重量％到约2重量％的可交联有机聚合物以及约0.1重量％到约1.5重量％的处理添加剂。18.一种用于形成图案化导电透明涂层的方法，所述方法包含：将金属纳...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨希强，李英熙，黄永裕，克里斯托弗·S·斯库利，克利福德·M·莫里斯，阿加依·维尔卡，
申请(专利权)人：C三奈米有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US