【技术实现步骤摘要】
201620149542
【技术保护点】
一种快速二次元光学测量装置，包括测量框架，其特征在于，测量框架的底部设有光源，待测样品位于光源上方，与光源相应的测量框架的上部设有多个用于采集待测样品图像的取像元件，多个取像元件可以同时对待测样品上相互垂直的两尺寸方向采集图像，取像元件连接图像处理元件，测量框架上还设有可对取像元件位置进行调节的取像元件调节机构。
【技术特征摘要】
1.一种快速二次元光学测量装置，包括测量框架，其特征在于，测量框架的底部设有光源，待测样品位于光源上方，与光源相应的测量框架的上部设有多个用于采集待测样品图像的取像元件，多个取像元件可以同时对待测样品上相互垂直的两尺寸方向采集图像，取像元件连接图像处理元件，测量框架上还设有可对取像元件位置进行调节的取像元件调节机构。
2.根据权利要求1所述的快速二次元光学测量装置，其特征在于，所述的测量框架上设有导向杆，所述的取像元件安装在导向杆上，且沿待测样品长边方向的导向杆上分别设有三个取像元件，沿待测样品短边方向的导向杆上分别设有两个取像元件。
3.根据权利要求2所述的快速二次元光学测量装置，其特征在于，所述的取像元件调节机构是在测量框架上设有滚珠丝杠和水平滑轨，水平滑轨上设有水平滑座，所述的导向杆固定在水平滑座上，滚珠丝杠的螺母连接水平滑座。
4.根据权利要求3所述的快速二次元光学测量装置，其特征在于，所述的滚珠丝杠为双向丝杠，双向丝杠上均设有左旋、右旋无牙螺母，且双向丝杠的一端设有旋转把手。...
【专利技术属性】
技术研发人员：唐翔，黄海瑞，陶金明，汪旭东，闫飞，彭卫军，杨晓宁，秦学琴，赵伟，
申请(专利权)人：苏州精创光学仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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