一种高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法技术

技术编号:13514662 阅读:126 留言:0更新日期:2016-08-11 23:11
一种高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法,包括优化SO42‑浓度、同步去除有机物以及重金属离子、钙源原位缓释及与F‑离子快速生成高纯度CaF2沉淀;高浓度含氟废水来自刻蚀工序,预处理过程包括脱除SO42‑、H2O2去除有机物以及活性炭吸附金属杂质离子;采用杂质自结晶方法,促使氟化钙结晶成长,以CaO作为钙源,结合含氟废水以薄层通过CaO表面,使其能够缓慢溶解释放Ca2+离子,与F‑发生反应生成CaF2沉淀。本发明专利技术采用多段式处理工艺,以氟化钙的形式回收刻蚀工序产生的高浓度废水中的氟资源,既降低了企业含氟废水的处理成本,又避免了氟资源的流失,提高了制备氟化钙的纯度,解决了小颗粒氟化钙难以沉降分离的难题,实现了氟资源化的梯级利用,完成了含氟浓度大于50mg/L的废水的全量资源化利用。

【技术实现步骤摘要】
201610171852
一种<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/25/CN105836783.html" title="一种高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法原文来自X技术">高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法</a>

【技术保护点】
一种高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法,其特征是,包括优化SO42‑浓度、同步去除有机物以及重金属离子、钙源原位缓释及与F‑离子快速生成高纯度CaF2沉淀。

【技术特征摘要】
1.一种高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法,其特征是,包括优化SO42-浓度、同步去除有机物以及重金属离子、钙源原位缓释及与F-离子快速生成高纯度CaF2沉淀。2.根据权利要求1所述的高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法,其特征是,所述的高浓度含氟废水来自于集成电路芯片生产过程中刻蚀工序及清洗工序产生的含氟废水,其中,F-为1000-3000mg/L,SO42-浓度为300-500mg/L,TOC为15-40mg/L,以及微量金属离子为5-30mg/L,该微量金属离子包括Cu2+、Ni+和Al3+。3.根据权利要求1所述的高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法,其特征是,所述的优化SO42-浓度是指,通过投加钡盐实现,所述钡盐的投加量为理论摩尔投加量的0.7-0.8倍,处理后SO42-浓度控制在60-150mg/L。4.根据权利要求1所述的高浓度含氟废水多级处理原位制备高纯CaF2的方法,其特征是,所述的同步去除有机物以及重金属离子是指...

【专利技术属性】
技术研发人员:楼紫阳尹常凯朱南文袁海平于豹徐怡婷
申请(专利权)人:上海交通大学
类型:发明
国别省市:上海;31

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