一种贵金属修饰的具有氧空位的(001)晶面氟硼共掺杂TiO2纳米片的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种贵金属修饰的具有氧空位的(001)晶面氟硼共掺杂TiO2纳米片的制备方法，贵金属修饰的氟硼共掺杂TiO2纳米颗粒的光催化活性高，由于负载了贵金属金属原子，可以提高电子空穴对的分离效率和抑制电子空穴对复合，增强催化效果，还可以增强表面疏水性，使附着的降解产物更容易清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种贵金属修饰的具有氧空位的(001)晶面氟硼共掺杂TiO2纳米片的制备方法
本专利技术主要涉及纳米材料与纳米
，尤其涉及一种贵金属修饰的具有氧空位的(001)晶面氟硼共掺杂TiO2纳米片的制备方法。
技术介绍
纳米TiO2由于具有良好的光催化性能，在抗菌除臭、污水处理、空气净化等方面有广阔的应用前景，TiO2是N型半导体金属氧化物，在同类物质中具有氧化活性好、稳定性强、无毒等优点，是一种绿色环境友好型材料。制备出具有较高催化活性和能够被可见光激发的纳米TiO2光催化剂，一直是光催化研究的前沿和重要方向。随着全球工业化进程的不断发展，环境污染问题日益严重，环境保护和可持续发展成为人类必须考虑的首要问题，光催化技术作为绿色化学的一个代表是近三十年以来发展起来的新兴研究领域。大量研究表明，水和空气中各种有毒有害的污染物，化工生产中排放的各种烷烃、芳烃及其衍生物、卤代物、多环芳烃和杂环化合物等大都能被光催化降解。把纯洁无污染而又取之不尽的光能的应用与环境保护结合起来的光催化剂和反应设备用来降解工业废水中有毒、有害、难分解的有机物的研究具有深远的战略意义，半导体光催化材料也成为科学家们本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种贵金属修饰的具有氧空位的(001)晶面氟硼共掺杂TiO2纳米片的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)基础纳米片的制备：氟硼共掺杂、(001)晶面暴露TiO2纳米片的制备：量取体积为28‑30ml的乙醇溶液为前驱液，缓慢加入0.9‑1ml的14‑15wt％TiCl3溶液，用磁力搅拌器搅拌4‑5分钟生成均匀的悬浊液；把上述步骤中配好的悬浊液倒入容积为50ml的聚四氟乙烯高压反应釜内胆中，然后滴加0.47‑0.5ml的氟硼前驱体分散液到反应釜内胆中，加入凝胶溶液，在100‑130℃下保温搅拌20‑30分钟，升高温度为210‑220℃，恒温10‑13小时，将得到的固液混合物进行固液离心分离，用...

【技术特征摘要】
1.一种贵金属修饰的具有氧空位的(001)晶面氟硼共掺杂TiO2纳米片的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)基础纳米片的制备：氟硼共掺杂、(001)晶面暴露TiO2纳米片的制备：量取体积为28-30ml的乙醇溶液为前驱液，缓慢加入0.9-1ml的14-15wt％TiCl3溶液，用磁力搅拌器搅拌4-5分钟生成均匀的悬浊液；把上述步骤中配好的悬浊液倒入容积为50ml的聚四氟乙烯高压反应釜内胆中，然后滴加0.47-0.5ml的氟硼前驱体分散液到反应釜内胆中，加入凝胶溶液，在100-130℃下保温搅拌20-30分钟，升高温度为210-220℃，恒温10-13小时，将得到的固液混合物进行固液离心分离，用乙醇洗涤3-4次，在80-85℃恒温干燥10-11小时；得到的产物经过400-500℃后续热处理2-4小时，研磨成粉末，得到同时具有晶化程度较高的氟硼共掺杂、(001)晶面暴露TiO2纳米片；所述的氟硼前驱体分散液是由下述重量份的原料组成的：30-35wt％的HF溶液90-100、35-40wt％的H3BO3溶液100-110、十二烷基硫酸钠0.1-0.2；将上述30-35wt％的HF溶液、35-40wt％的H3BO3溶液混合，搅拌均匀，加入十二烷基硫酸钠，100-200转/分搅拌3-4分钟，为氟硼前...

【专利技术属性】
技术研发人员：虎号，纵榜峰，
申请(专利权)人：宿州学院，
类型：发明
国别省市：安徽;34