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一种用于疮面的药物纳米雾化与局部氧疗装置制造方法及图纸

技术编号:13391832 阅读:45 留言:0更新日期:2016-07-22 16:40
本发明专利技术涉及医疗设备技术领域,尤其涉及一种用于疮面的药物纳米雾化与局部氧疗装置。本发明专利技术的药物纳米雾化与局部氧疗装置中,气囊的一端可粘附于患者的疮面周围,且气囊内设有雾化区;输氧系统与气囊连通,用于为疮面供排氧气;药物雾化系统并联连通在输氧系统上,在输氧系统内的氧气带动下为疮面提供雾化后的药物纳米颗粒;微电子控制系统分别与气囊、输氧系统和药物雾化系统连接,用于分别监控氧气和雾化后的药物的流量和压力。该药物纳米雾化与局部氧疗装置能将药物治疗与局部氧疗相结合,将药物雾化成纳米大小的颗粒直达疮面,同时利用局部氧疗促进疮面愈合。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种药物纳米雾化与局部氧疗装置,其特征在于,包括:气囊,一端可粘附于患者的疮面周围,所述气囊内设有雾化区;输氧系统,与所述气囊连通,用于为所述疮面供排氧气;药物雾化系统,并联连通在所述输氧系统上,在所述输氧系统内的氧气带动下为所述疮面提供雾化后的药物纳米颗粒;微电子控制系统,分别与所述气囊、输氧系统和药物雾化系统连接,用于分别监控所述氧气和雾化后的药物的流量和压力。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:彭争荣王素娥肖平田祖映翔
申请(专利权)人:彭争荣
类型:发明
国别省市:湖南;43

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