用于聚焦电磁波的超表面反射阵面制造技术

本发明专利技术公开了一种用于聚焦电磁波的超表面反射阵面。本发明专利技术包括两个以上移相单元(1)排列组成的阵列相位板(2)，移相单元(1)包括介质板(3)，介质板(3)的表面设有金属贴片(4)，金属贴片(4)的中间设有上孔(5)；介质板(3)的底部设有金属接地板(6)，金属接地板(6)的中间设有下孔(7)；介质板(3)的中部设有金属管(8)，金属管(8)与上孔(5)和下孔(7)连通。本发明专利技术不仅具有非常优越的入射波反射聚焦效果，而且本发明专利技术降低了入射波反射的衰减率，从而提高了本发明专利技术的反射效果，现有的阵列天线的反射效率一般在30％‑40％，而本发明专利技术的反射效率可以达到65％。此外本发明专利技术还具有体积小、重量轻、成本低廉的特点。

【技术实现步骤摘要】
201610235825

【技术保护点】
用于聚焦电磁波的超表面反射阵面，其特征在于：包括两个以上移相单元(1)排列组成的阵列相位板(2)，移相单元(1)包括介质板(3)，介质板(3)的表面设有金属贴片(4)，金属贴片(4)的中间设有上孔(5)；介质板(3)的底部设有金属接地板(6)，金属接地板(6)的中间设有下孔(7)；介质板(3)的中部设有金属管(8)，金属管(8)与上孔(5)和下孔(7)连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐弼军，陶祥兴，
申请(专利权)人：浙江科技学院，
类型：发明
国别省市：浙江;33