【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子元器件领域中的触摸装置制作方法,具体是一种一体化触摸装置的制作方法。
技术介绍
随着电子产品的更新速度越来越快,对触摸显示的要求也越来越高,传统的触摸显示工艺已无法满足电子产品朝轻薄化发展的要求。而on-cell技术是指将触摸面板功能嵌入到彩色滤光片基板和上偏光片之间的做法,原有技术是把触摸面板和液晶屏单独的粘贴在一块,厚度都达不到要求,而且一些传统的on-cell实现触摸功能还主要依赖于ITO来实现,成本又比较高。
技术实现思路
本专利技术旨在解决现有技术存在的上述问题,而提供一种一体化触摸装置的制作方法,其在液晶上玻璃基板溅镀金属网格层和在OC绝缘上溅镀金属网格层,替代传统的ITO层,可以减少工艺工序,实现产品轻薄化,降低产品成本。本专利技术解决其技术问题采用的技术方案是:一种一体化触摸装置的制作方法,按下述步骤进行:(1)在整张液晶屏上玻璃基板表面真空溅镀铜金属层,低温真空溅镀:0.01~0.5pa,温度:0~90℃,金属铜层厚度15~20un;(2)涂布光刻胶,将要蚀刻的金属铜层覆盖,光刻胶厚度:2±0.5um,均匀性3%以内,烘烤温度80~90℃;(3)对光刻胶进行曝光,在光刻胶光刻网格电极图案,紫外光波长:300nm;光通量:80~150mj;(4)对光刻胶显影并硬化,采用NaOH,浓度0.05~0.1MOL/L,温度18~36℃,时间40~100秒,蚀刻金属层形成金属网格层图案层,引出第一感测电极;蚀刻用材料:HCL60%~75%+H2O3 ...
【技术保护点】
一种一体化触摸装置的制作方法,其特征在于,按下述步骤进行:(1)在整张液晶屏上玻璃基板表面真空溅镀铜金属层,低温真空溅镀:0.01~0.5pa,温度:0~90℃,金属铜层厚度15~20un;(2)涂布光刻胶,将要蚀刻的金属铜层覆盖,光刻胶厚度:2±0.5um,均匀性3%以内,烘烤温度80~90℃;(3)对光刻胶进行曝光,在光刻胶光刻网格电极图案,紫外光波长:300nm;光通量:80~150mj;(4)对光刻胶显影并硬化,采用NaOH,浓度0.05~0.1MOL/L,温度18~36℃,时间40~100秒,蚀刻金属层形成金属网格层图案层,引出第一感测电极;蚀刻用材料:HCL60%~75%+H2O 30%~35%,温度40~45摄氏度;(5)滚涂一层OC绝缘层,然后在OC绝缘层上面按照步骤(1)、(2)、(3)、(4)所述方法形成金属网格图案层,引出第二感测电极;即为on‑cell触摸屏。
【技术特征摘要】
1.一种一体化触摸装置的制作方法,其特征在于,按下述步骤进行:
(1)在整张液晶屏上玻璃基板表面真空溅镀铜金属层,低温真空溅镀:0.01~0.5pa,温度:0~90℃,金属铜层厚度15~20un;
(2)涂布光刻胶,将要蚀刻的金属铜层覆盖,光刻胶厚度:2±0.5um,均匀性3%以内,烘烤温度80~90℃;
(3)对光刻胶进行曝光,在光刻胶光刻网格电极图案,紫外光波长:300nm;光通量:80~150mj;
(4)对光刻胶显影并硬化,采用NaOH,浓度0.05~0.1MOL/L,温度18...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵宗轩,陶少勋,熊元伟,
申请(专利权)人:唐山博凯盛光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:河北;13
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