The present invention relates to a solid-state imaging device designed to reduce the reflection of incident light at the side wall of the shading layer of each phase difference detection pixel and an electronic device. According to one aspect of the present invention, a solid-state imaging device includes: a common pixel, which generates a pixel signal, and a phase difference detection pixel that generates a phase difference signal for the image plane phase difference AF. In the solid-state imaging device, ordinary pixel and phase difference detection pixel including a photoelectric conversion layer and the incident light gathering lens to photoelectric conversion layer; phase difference detection pixel comprises a shading layer having an opening, the opening portion has an opening relative to the lens optical axis deviation; and preventing reflecting part of incident the light from the lens of aggregation is formed in the light shielding layer. The invention can be applied to the back illuminated CIS.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种固态成像装置和一种电子设备。更具体地,本专利技术涉及一种优选地在除用于获取像素信号的普通像素之外还设置有用于实现像平面相位差自动聚焦(AF:automaticfocus)功能的相位差检测像素的情况下使用的固态成像装置以及一种电子设备。
技术介绍
像平面相位差AF被称为AF方法(例如,参见专利文献1)。在实现像平面相位差AF的固态成像元件中,除用于获取像素信号的普通像素之外,还在预定位置处设置有用于将入射光光瞳分割(pupildivision)的相位差检测像素。图1是示出了设置有相位差检测像素的背面照射型CMOS图像传感器(CIS:CMOSImageSensor)的示例传统结构的截面框图。在该图中,左侧为相位差检测像素11,且右侧为普通像素12。相位差检测像素11和普通像素12从上部层侧(光入射表面侧)起均依次包括片上透镜21、防反射层24、光电转换层25和互连层26。在相位差检测像素11中,在片上透镜21和防反射层24之间形成有具有开口部22a的遮光层22,该开口部是相对于片上透镜21的光轴偏离的开口。同时,在普通像素12中,在片上透镜21和防反射层24之间设置有彩色滤光片23。彩色滤光片23也可以设置在相位差检测像素11中。在理想情况下,如图1所示,在相位差检测像素11中,应当被遮挡的入射光会被遮光层22完全遮挡,并且应当被接收的入射光优选地通过开口部22a进入 ...
【技术保护点】
一种固态成像装置,其包括:普通像素,其生成像素信号;以及相位差检测像素,其生成用于像平面相位差AF的相位差信号,其中,所述普通像素和所述相位差检测像素均包括光电转换层和将入射光聚集至所述光电转换层上的透镜,所述相位差检测像素包括具有开口部的遮光层,所述开口部具有相对于所述透镜的光轴偏离的开口,并且在所述遮光层上形成有防反射部,以用于防止由所述透镜聚集的所述入射光的反射。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.29 JP 2014-1748691.一种固态成像装置,其包括:
普通像素,其生成像素信号;以及
相位差检测像素,其生成用于像平面相位差AF的相位差信号,
其中,所述普通像素和所述相位差检测像素均包括光电转换层和将
入射光聚集至所述光电转换层上的透镜,
所述相位差检测像素包括具有开口部的遮光层,所述开口部具有相
对于所述透镜的光轴偏离的开口,并且
在所述遮光层上形成有防反射部,以用于防止由所述透镜聚集的所
述入射光的反射。
2.如权利要求1所述的固态成像装置,其中,所述防反射部是形成
在所述遮光层的面对所述开口部的侧壁面上的防反射膜。
3.如权利要求2所述的固态成像装置,其中,所述防反射部是进一
步形成在所述遮光层的处于所述透镜一侧的上表面上的所述防反射膜。
4.如权利要求2所述的固态成像装置,其中,
所述遮光层由金属制成,并且
所述防反射膜由通过对金属进行氧化处理而形成的金属氧化物制
成。
5.如权利要求2所述的固态成像装置,其中,
所述遮光层由W制成,并且
所述防反射膜由通过对W进行氧化处理...
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