光学玻璃、透镜预成型体及光学元件制造技术

本发明专利技术提供具有高折射率(nd)和低阿贝数(νd)、且玻璃化转变温度低、适于加压成型、且耐失透性高的光学玻璃、和使用该光学玻璃的透镜预成型体及光学元件。对于本发明专利技术的光学玻璃而言，以摩尔％计，含有15.0％以上50.0％以下的P2O5成分、5.0％以上50.0％以下的Nb2O5成分、0.1％以上35.0％以下的ZnO成分、以及0.5％以上30.0％以下的选自Li2O成分、Na2O成分及K2O成分中的至少任一种，且具有1.80以上的折射率(nd)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学玻璃、透镜预成型体及光学元件。
技术介绍
近年来，使用光学系统的设备的数字化、高精细化快速发展，对于以数码相机、摄像机等摄影设备为代表的各种光学设备中使用的透镜等光学元件的高精度化、轻质及小型化的要求越来越强。在制作光学元件的光学玻璃中，尤其是，可谋求光学元件的轻质化及小型化的、不仅具有高折射率(nd)、而且具有较低的阿贝数(νd)的玻璃的需求非常高。作为具有高折射率和低阿贝数的玻璃，例如作为折射率(nd)为1.70以上且具有35以下的阿贝数的光学玻璃，已知有专利文献1～5中所公开那样的玻璃。[专利文献1]日本特开2005－206433号公报[专利文献2]日本特开2011－121831号公报[专利文献3]日本特开2011－195358号公报[专利文献4]日本特开2012－036091号公报[专利文献5]日本特开平06－345481号公报
技术实现思路
然而，对于专利文献1～5中公开的玻璃而言，虽然阿贝数低，但不能说稳定性高，可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学玻璃，以摩尔％计，含有15.0％以上50.0％以下的P2O5成分、5.0％以上50.0％以下的Nb2O5成分、0.1％以上35.0％以下的ZnO成分、以及0.5％以上30.0％以下的选自Li2O成分、Na2O成分及K2O成分中的至少一种，且具有1.80以上的折射率(nd)。

【技术特征摘要】
2014.10.07 JP 2014-206699;2014.10.07 JP 2014-206701.一种光学玻璃，以摩尔％计，含有15.0％以上50.0％以下的
P2O5成分、5.0％以上50.0％以下的Nb2O5成分、0.1％以上35.0％以
下的ZnO成分、以及0.5％以上30.0％以下的选自Li2O成分、Na2O
成分及K2O成分中的至少一种，且具有1.80以上的折射率(nd)。
2.如权利要求1所述的光学玻璃，其中，以摩尔％计，
Li2O成分为0～30.0％，
Na2O成分为0～30.0％，
K2O成分为0～30.0％。
3.如权利要求2所述的光学玻璃，其中，以摩尔％计，含有0.5
％以上30.0％以下的Li2O成分，且玻璃化转变温度为650℃以下。
4.如权利要求2所述的光学玻璃，其中，以摩尔％计，含有0.5
％以上30.0％以下的Na2O成分。
5.如权利要求2所述的光学玻璃，其中，以摩尔％计，含有0.5
％以上30.0％以下的K2O成分。
6.如权利要求1～5中任一项所述的光学玻璃，其中，以摩尔％
计，
TiO2成分为0～40.0％，
B2O3成分为0～15.0％，
MgO成分为0～25.0％，
CaO成分为0～25.0％，
SrO成分为0～25.0％，
BaO成分为0～25.0％，
Bi2O3成分为0～10.0％，
WO3成分为0～10.0％，
Y2O3成分为0～10.0％，
La2O3成分为0～10.0％，
Gd2O3成分为0～10.0％，
Yb2O3成分为0～10.0％，
SiO2成分为0～10.0％，
GeO2成分为0～10.0％，
Al2O3成分为0～10.0％，
TeO2成分为0～15.0％，
ZrO2成分为0～10.0％，
Ta2O5成分为0～10.0％，
Ga2O3成分为0～10.0％...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅杰，
申请(专利权)人：株式会社小原，
类型：发明
国别省市：日本;JP