【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种13族元素氮化物的制备方法以及熔液组合物。
技术介绍
使用所谓的助熔剂法培养GaN结晶时,必须防止在熔液中发生杂乱的成核,使GaN生产率良好地生长。公开有如下内容:通过使熔液中的碳含量相对于碱金属助熔剂和金属镓、碳的总和为0.02?5原子%,防止熔液中的成核,促进无极性面的GaN结晶的生长(专利文献1:日本专利第4538596号)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利第4538596号专利文献2:日本特表2005 - 506271
技术实现思路
但是,本专利技术人发现在尝试通过专利文献1记载的培养方法培养GaN结晶时,得到的GaN结晶的厚度出现差异。GaN结晶的厚度在不同部位存在差异会导致以下问题。首先,因为GaN结晶通常是边导入熔液边三维生长,所以在结晶内部含有夹杂物。GaN结晶的厚度存在差异的情况下,通常在结晶内部过量地存在夹杂物。如果存在如此过量的夹杂物,则在对结晶表面进行研磨加工后,会成为孔穴而在表面露出,该部位无法作为产品使用。因此,无法提供大面积的结晶。第二个问题是几十?几百μ m的生长厚度差异容易在局部(特别是基板外周 ...
【技术保护点】
一种13族元素氮化物结晶的制备方法,所述方法是在包含助熔剂和13族元素的熔液中,在含氮气体气氛下,制备13族元素氮化物结晶,所述助熔剂至少含有碱金属,其特征在于,以所述熔液中的所述助熔剂、所述13族元素以及碳的合计量为100原子%时,使碳量为0.005~0.018原子%。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:平尾崇行,东原周平,今井克宏,
申请(专利权)人:日本碍子株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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