一种防伪微孔图案荧光纪念章。本发明专利技术涉及一种纪念章或流通币领域，尤其是一种在表面同时设置微孔图案和碳量子点的荧光防伪纪念章。包括基材，其特征在于：所述基材表面上形成一组表面凹刻微孔图案，所述微孔图案的微孔依次相间设置，碳量子点溶液滴涂在所述微孔图案的微孔底部。该纪念章防伪方式低毒高效，隐蔽性好。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种纪念章或流通币领域，尤其是一种在表面同时设置微孔图案和碳量子点的焚光防伪纪念章。
技术介绍
目前的纪念章多为金或银制品，因其具有一定的观赏价值和收藏价值，容易被一些不法分子造假牟利。现有防伪技术多为在纪念币或纪念章边部制作文字或斜丝齿，随着机械加工工艺的提高，这种方式已经无法满足防伪的需要；激光全息技术的半公开，也使得该种防伪技术受到挑战，采用电码防伪或微缩图文防伪技术防伪能力较高，但限于专家防伪，不易被大众所接受。中国专利(申请号201320396267.8)公开了在贵金属本体表面设置有一个或多个凹陷的针孔，针孔内填充DNA防伪油墨的防伪技术，该技术防伪性极高，但是所使用的DNA成本较高。光学防伪也是防伪能力较高的防伪技术，目前光学防伪主要应用于钞票、票证、安全文件等的防伪，在硬币、纪念币、纪念章的防伪造领域应用较少，因此需要对币章上采用的光学防伪技术不断更新。量子点是一种光致发光材料，其应用于防伪已有实例，如中国专利CN 102693679A公布了将半导体量子点或其对应的壳核结构量子点分散于有机溶剂中，并和透明油墨混合制备成量子点油墨，经后续操作将其应用于纸、薄膜、纤维或纺织品中。但所使用的量子点为半导体量子点具有一定的毒性，对人体或环境存在潜在危害。碳量子点是2004年由美国克莱蒙森大学的科学家在提纯碳纳米管的过程中首次无意发现的新型纳米结构碳材料。与传统的半导体量子点和有机染料相比，碳量子点作为一种新型发光材料，不仅保持了碳材料毒性小、生物相容性好等优点，而且具有合成方便、易于修饰、激发和发射波长可调谐、双光子吸收截面大、荧光量子效率高、光稳定性好、无光闪烁、易于功能化、价廉、易大规模合成等无法比拟的优势。中国专利CN 103774502 A公布了一种磁性荧光纸张防伪涂料及其制备方法，该磁性荧光纸张防伪涂料，包含有碳量子点、纳米磁性颗粒和十八烯基琥珀酸酐，该碳量子点仅应用于纸张的荧光防伪。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术提供一种防伪微孔图案荧光纪念章，在纪念章表面设置一组微孔图案，并在微孔中直接滴涂碳量子点，不同微孔中滴涂不同尺寸的碳量子点，用于纪念章的编码防伪。技术方案:为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案:一种防伪微孔图案荧光纪念章，包括基材，基材表面上形成一组表面凹刻微孔图案，所述微孔图案依次相间设置微孔，将碳量子点溶液滴涂在微孔图案的微孔底部。优选地，基材为金、银或造币钢材表面镀金或镀银。优选地，微孔图案中一组微孔的数目为3?6个，微孔相间设置为直线或多边形。设置的微孔数目越多或图案越精细复杂，碳量子点荧光编码的方式和数量越多。优选地，微孔的孔深为100?200 μ m，微孔为圆形或方形，微孔面积为0.5?1mm2，微孔的尺寸设计微小，隐蔽性好。优选地，碳量子点溶解在PVA中或PMMA中。溶解在PVA或PMMA中的碳量子点无需其他胶黏剂，即可直接滴涂在纪念章表面的微孔中。优选地，微孔图案不同微孔分别放置粒径在10nm内的不同尺寸的碳量子点，用于发射不同波长的荧光和编码。该碳量子点具有一元激发、多元发射性质，碳量子点尺寸不同或表面修饰不同，其发射的荧光颜色不同，在不同的微孔中分别放置不同的碳量子点，并进行一定的排列组合，在紫外线照射下，可观察到不同颜色组合的微孔图案，实现防伪编码。有益效果:与现有技术相比，本专利技术提供的一种防伪微孔图案荧光纪念章，纪念章基材上设置微孔图案，并在微孔图案中滴涂可发射不同颜色荧光的碳量子点，防伪方式低毒高效，隐蔽性好。【具体实施方式】下面结合具体实施例对本专利技术进一步说明，具体实施例的描述本质上仅仅是范例，而不是打算对本专利技术公开的内容及其应用或使用进行限制。纪念章表面进行模压后，得到基材表面具有均匀相间排列的一组微孔图案，微孔内用针尖滴涂一滴溶解在PVA或PMMA溶液中的碳量子点溶液，甩膜机上高速旋转，干燥后水洗，氮吹，包装。实施例1将金制纪念章表面压制出三个均匀相间直线型排列的微孔，孔深100 μπι，微孔为圆形，微孔面积为1mm2，三个微孔内分别滴涂溶解在PVA中的碳量子点，碳量子点的粒径分别为5nm、8nm、10nm，不同粒径及不同表面修饰的碳量子点所发射的荧光颜色不同。该微孔图案荧光纪念章在360nm的紫外线照射下，三个微孔内碳量子点分别呈绿色、蓝绿色和浅蓝色。应注意的是，本实施例的微孔内碳量子点的尺寸排布顺序可以随机组合。实施例2将表面镀金的纪念章表面压制出五个均匀相间正五边形排列的微孔，孔深150 μ m，微孔为圆形，微孔面积为0.5mm2，五个微孔内分别依次滴涂溶解在PVA中的碳量子点，碳量子点的粒径分别为2nm、3nm、5nm、6nm、8nm，该微孔图案焚光纪念章在285nm的紫外线照射下，五个微孔内碳量子点分别呈红色、橙黄色、绿色、浅绿色和蓝绿色。应注意的是，本实施例的微孔内碳量子点的尺寸排布顺序可以随机组合。实施例3将银制纪念章表面压制出四个均匀相间直线型排列的微孔，孔深200 μπι，微孔为方形，微孔面积为1mm2，三个微孔内分别滴涂溶解在PMMA中的碳量子点，碳量子点的粒径分别为3nm、5nm、6nm、8nm，该微孔图案焚光纪念章在360nm的紫外线照射下，三个微孔内碳量子点分别呈橙黄色、绿色、浅绿色和蓝绿色。应注意的是，本实施例的微孔内碳量子点的尺寸排布顺序可以随机组合。以上实施例只是对本专利技术的技术构思起到说明示例作用，并不能以此限制本专利技术的保护范围，本领域技术人员在不脱离本专利技术技术方案的精神和范围内，进行修改和等同替换，均应落在本专利技术的保护范围之内。【主权项】1.一种防伪微孔图案荧光纪念章，包括基材，其特征在于:所述基材表面上形成一组表面凹刻微孔图案，所述微孔图案的微孔依次相间设置，碳量子点溶液滴涂在所述微孔图案的微孔底部。2.根据权利要求1所述的防伪微孔图案荧光纪念章，其特征在于:所述基材为金、银或造币钢材表面镀金或镀银。3.根据权利要求1所述的防伪微孔图案荧光纪念章，其特征在于:所述微孔图案中一组微孔的数目为3?6个，微孔相间设置为直线或多边形。4.根据权利要求1所述的防伪微孔图案荧光纪念章，其特征在于:所述微孔的孔深为100?200 μ m，微孔为圆形或方形，面积为0.5?1mm2。5.根据权利要求1所述的防伪微孔图案荧光纪念章，其特征在于:所述碳碳量子点溶解在PVA中或PMMA中。6.根据权利要求1所述的防伪微孔图案荧光纪念章，其特征在于:所述微孔图案不同微孔分别放置粒径在10nm内的不同尺寸的碳量子点，用于发射不同波长的荧光和编码。【专利摘要】一种防伪微孔图案荧光纪念章。本专利技术涉及一种纪念章或流通币领域，尤其是一种在表面同时设置微孔图案和碳量子点的荧光防伪纪念章。包括基材，其特征在于：所述基材表面上形成一组表面凹刻微孔图案，所述微孔图案的微孔依次相间设置，碳量子点溶液滴涂在所述微孔图案的微孔底部。该纪念章防伪方式低毒高效，隐蔽性好。【IPC分类】A44C3/00【公开号】CN105361366【申请号】CN201510712535【专利技术人】冯正元, 冯育华 【申请人】苏州市金星工艺镀饰有限公司【公开日】2016年3月2日【申请日】2015年10月28日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种防伪微孔图案荧光纪念章，包括基材，其特征在于：所述基材表面上形成一组表面凹刻微孔图案，所述微孔图案的微孔依次相间设置，碳量子点溶液滴涂在所述微孔图案的微孔底部。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：冯正元，冯育华，
申请(专利权)人：苏州市金星工艺镀饰有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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