一种印刷型高分辨率显示器件及其制作方法技术

本发明专利技术公开一种印刷型高分辨率显示器件及其制作方法。本发明专利技术在像素bank的制作过程中，对像素发光区域进行全曝光，相同颜色子像素相邻区域进行半曝光，不同颜色子像素相连区域不曝光，通过刻蚀、显影等处理将像素bank图案化，其中相同颜色子像素相连区域的像素bank较薄，定义子像素发光区域，不同颜色子像素相连区域bank较厚，定义印刷工艺中的墨水沉积区域，从而成倍的增大墨水的沉积区域，可以有效减小各子像素的面积，结合像素bank表面疏水处理，实现印刷型高分辨显示器的制作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及。
技术介绍
采用溶液加工制作0LED以及QLED显示器的方法，由于其低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点，是未来显示技术发展的重要方向。其中，印刷技术被认为是实现0LED以及QLED低成本和大面积全彩显示的最有效途径。在印刷工艺中，由于受设备精度以及液滴尺寸的影响，对于传统的RGB Stripe(RGB条状)排列的像素结构，很难实现高分辨率显示器件的制备。当显示器件的分辨率达到200 ppi时，各子像素的宽度会减小到42 μm，同时由于像素界定层的存在，子像素的真实宽度会进一步减小到35 μ m左右，而对于10 pL体积的墨水，其直径就达27 μ m。如果再进一步提高分辨率，子像素尺寸会进一步减小，所以就很难控制各子像素内墨水相互独立而不溢出像素。中国专利(CN 104009066A)中公开了一种像素排布结构，如图1所示，该像素排布结构是由像素单元100排列组成，通过将相连像素的子像素共用Mask(掩膜)上的开口，从而有效提高显示器件的分辨率。但是，在印刷工艺中，单纯的引入这种像素排布结构，随着分辨率的增大，各子像素内的墨水还是会因像素本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种印刷型高分辨率显示器件的制作方法，其特征在于，包括步骤：A1、在具有图案化底电极的TFT基板上形成一层用于制作像素bank的薄膜层，然后在薄膜层上形成一层光阻层；A2、通过曝光掩膜对光阻层进行曝光，其中子像素发光区域进行全曝光、相同颜色子像素相连区域进行半曝光、不同颜色子像素相连区域不曝光，随后进行显影以将光阻层图案化；A3、通过光阻掩膜对薄膜层进行刻蚀，将全曝光区域全部刻蚀至露出像素电极，将半曝光区域部分刻蚀至残留部分薄膜层，未曝光区域未被刻蚀，随后剥离光阻层，从而形成所需的厚度不一的像素bank；A4、对完成上述步骤的TFT基板进行清洗，随之对其进行表面疏水处理，形成疏水的像素bank...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈亚文，
申请(专利权)人：TCL集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44